[發(fā)明專利]一種復(fù)合材料及其制備方法、應(yīng)用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711478596.6
• 申請(qǐng)日: 2017-12-29
• 公開（公告）號(hào): CN109994627B
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李龍基;曹蔚然
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: TCL科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L51/50
• 分類號(hào): H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56
• 代理公司: 深圳中一聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44414
• 代理人: 李艷麗

1.一種復(fù)合材料，其特征在于，所述復(fù)合材料由內(nèi)核和包覆所述內(nèi)核的殼層形成，所述內(nèi)核為BiOI，所述殼層為PMMA；

其中，所述殼層的厚度為1-5nm；

所述復(fù)合材料用于量子點(diǎn)發(fā)光器件，且所述復(fù)合材料設(shè)置于藍(lán)光量子點(diǎn)發(fā)光層與陰極之間。

2.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料，其特征在于，所述BiOI通過偶聯(lián)劑與所述PMMA結(jié)合。

3.如權(quán)利要求2所述的復(fù)合材料，其特征在于，所述偶聯(lián)劑為甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷中至少的一種。

4.一種復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：

提供BiOI，通過偶聯(lián)劑對(duì)BiOI進(jìn)行表面改性，得到改性BiOI；

將所述改性BiOI分散于極性溶劑中，攪拌均勻后加入甲基丙烯酸甲酯單體進(jìn)行反應(yīng)，得到表面結(jié)合甲基丙烯酸甲酯單體改性BiOI的混合溶液；

將所述混合溶液進(jìn)行攪拌加熱，并加入引發(fā)劑進(jìn)行聚合反應(yīng)，使甲基丙烯酸甲酯單體聚合生成PMMA，分離提純，干燥，得到PMMA包覆BiOI的復(fù)合材料；

其中，PMMA層的厚度為1-5nm；

所述復(fù)合材料用于量子點(diǎn)發(fā)光器件，且所述復(fù)合材料設(shè)置于藍(lán)光量子點(diǎn)發(fā)光層與陰極之間。

5.一種量子點(diǎn)發(fā)光器件，其特征在于，所述量子點(diǎn)發(fā)光器件包括陽極、藍(lán)光量子點(diǎn)發(fā)光層、修飾層、陰極，所述藍(lán)光量子點(diǎn)發(fā)光層設(shè)置在所述陽極與所述陰極之間，所述修飾層設(shè)置在藍(lán)光量子點(diǎn)發(fā)光層與陰極之間，所述修飾層由權(quán)利要求1-3任一所述的復(fù)合材料組成。

6.如權(quán)利要求5所述的量子點(diǎn)發(fā)光器件，其特征在于，所述量子點(diǎn)發(fā)光器件還包括設(shè)置在所述陽極與所述藍(lán)光量子點(diǎn)發(fā)光層之間的空穴功能層；和/或

設(shè)置在所述陰極與所述修飾層之間的電子功能層。

7.如權(quán)利要求5或6所述的量子點(diǎn)發(fā)光器件，其特征在于，所述修飾層的厚度為1-10nm。

8.一種發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：

提供預(yù)制器件，在預(yù)制器件上沉積藍(lán)光量子點(diǎn)發(fā)光層；

在所述藍(lán)光量子點(diǎn)發(fā)光層上沉積復(fù)合材料形成修飾層，所述復(fù)合材料為權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的復(fù)合材料或權(quán)利要求4所述制備方法制備的復(fù)合材料；或者

提供預(yù)制器件，在預(yù)制器件上沉積復(fù)合材料形成修飾層，所述復(fù)合材料為權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的復(fù)合材料或權(quán)利要求4所述制備方法制備的復(fù)合材料；

在所述修飾層上沉積藍(lán)光量子點(diǎn)發(fā)光層。

9.如權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述復(fù)合材料沉積時(shí)溶液的濃度為0.5-8mg/ml。