[發(fā)明專利]一種設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711477323.X | 申請日: | 2017-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN108103451A | 公開(公告)日: | 2018-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林文晶;彭勃 | 申請(專利權(quán))人: | 上海升翕光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/26 | 分類號: | C23C14/26;C23C14/12 |
| 代理公司: | 長春菁華專利商標代理事務(wù)所(普通合伙) 22210 | 代理人: | 南小平 |
| 地址: | 201506 上海市金*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 線源 反射罩 蒸鍍 噴嘴 掃描方向 垂直 外圍 膜厚均勻性 高解析度 陰影效應(yīng) 有效控制 可控性 制備 | ||
本發(fā)明涉及一種設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源,其包括:線源主體;所述線源主體在垂直于掃描方向上設(shè)置有排成一排的多個噴嘴;在多個噴嘴外圍設(shè)有高度高于噴嘴的反射罩。本發(fā)明的設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源,通過在噴嘴外圍設(shè)置反射罩,使得線源的垂直于掃描方向的蒸鍍角可控性良好。本發(fā)明的設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源,蒸鍍得到的膜厚均勻性好,可有效控制陰影效應(yīng),適用于高解析度OLED屏幕制備。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的量產(chǎn)蒸鍍設(shè)備的線源多為“一字型”,顧名思義,一字型線源即一種外形近似漢字“一”的線性蒸發(fā)源。一字型線源也可以近似理解為一個長方體,長方體內(nèi)部添加有機材料,頂端有一排水平間隔排布的噴嘴(Nozzle),當長方體側(cè)壁被加熱時,內(nèi)部有機材料即氣化而從頂端噴嘴處噴出,并最終在基板上沉積成膜。
雖然一字型線源目前應(yīng)用很廣泛,傳統(tǒng)一字型線源如圖1所示,由于自身結(jié)構(gòu)限制,存在一些缺點。其中,陰影效應(yīng)問題尤為致命。傳統(tǒng)一字型線源的有機材是通過線源主體2頂端的一排水平間隔排布的噴嘴1噴出,一排水平噴嘴1相當于一連串點源直線拼接,它的掃描方向(噴嘴排列垂直方向)的材料出射角(即蒸鍍角)可以通過加設(shè)限制板的方法來加以控制。但是垂直于掃描的方向(噴嘴排列方向)的蒸鍍角是無法控制的。總之傳統(tǒng)一字線源的蒸鍍角是不好控制的,這就使得它在生產(chǎn)OLED屏幕時陰影效應(yīng)較為嚴重。嚴重的陰影效應(yīng),會導(dǎo)致高解析度屏幕的蒸鍍制程量率很低,甚至是沒有良率。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)問題,提供一種設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的技術(shù)方案具體如下:
一種設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源,包括:線源主體;
所述線源主體在垂直于掃描方向上設(shè)置有排成一排的多個噴嘴;
在多個噴嘴外圍設(shè)有高度高于噴嘴的反射罩。
在上述技術(shù)方案中,所述反射罩外圍設(shè)有反射罩加熱絲。
在上述技術(shù)方案中,所述線源主體外圍設(shè)有主體加熱絲。
在上述技術(shù)方案中,所述反射罩的高度是所述噴嘴高度的120~400%。
在上述技術(shù)方案中,排成一排的多個所述噴嘴的排列間距滿足:
靠近中部的占總數(shù)50%的噴嘴的間距,是兩側(cè)的噴嘴的120~180%%。
本發(fā)明具有以下的有益效果:
本發(fā)明的設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源,通過在噴嘴外圍設(shè)置反射罩,使得線源的垂直于掃描方向的蒸鍍角可控性良好。本發(fā)明的設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源,蒸鍍得到的膜厚均勻性好,可有效控制陰影效應(yīng),適用于高解析度OLED屏幕制備。
本發(fā)明的設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源因其設(shè)置的反射罩為一圈的形式包圍著噴嘴,很像阿拉伯數(shù)字“0”,故該線源得名“0式線源”。本發(fā)明的“0”式線源之所以保留傳統(tǒng)線源多個噴嘴一字排列模式,并合理控制這些噴嘴的間距,目的是為了達到較好的膜厚均勻性,而一排噴嘴外圍加上的反射罩是為了使噴嘴噴出材料進行反射和再分布,即將不同的噴嘴噴出材料混合聚龍,再噴出。避免了傳統(tǒng)線源通過每個噴嘴噴出的材料所具有的點源分布特性。因此本發(fā)明的“0”式線源的蒸鍍角可控性好,在實際生產(chǎn)過程中,可有效地控制陰影效應(yīng)。
本發(fā)明的設(shè)有反射罩的OLED蒸鍍線源不僅在線源主體周圍排布了加熱絲,而且其反射罩的周圍也排布了加熱絲。而這些排布在反射罩外圍的加熱絲是為了讓反射罩保持一定的高溫,這樣才能使得反射罩具有有效的反射功能,并且避免材料因凝結(jié)固化而產(chǎn)生的塞孔現(xiàn)象。
附圖說明
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





