[發(fā)明專利]紅外探測器的量子點(diǎn)有源區(qū)結(jié)構(gòu)、其制作方法及紅外探測器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711463462.7 | 申請日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN108198895B | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉紅梅;孟田華;田翠鋒;楊春花;仝慶華;康永強(qiáng) | 申請(專利權(quán))人: | 山西大同大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/109 | 分類號: | H01L31/109;H01L31/0352;H01L31/18 |
| 代理公司: | 太原九得專利代理事務(wù)所(普通合伙) 14117 | 代理人: | 高璇 |
| 地址: | 037009 山西省大同*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紅外探測器 量子 有源 結(jié)構(gòu) 制作方法 | ||
本發(fā)明提供的一種紅外探測器的量子點(diǎn)有源區(qū)結(jié)構(gòu)、其制作方法及紅外探測器,包括:襯底,所述襯底上具有緩沖層,所述緩沖層上具有第一間隔層,所述第一間隔層上具有一個或多個層疊設(shè)置在一起的量子點(diǎn)復(fù)合層,所述量子點(diǎn)復(fù)合層包括下方的量子點(diǎn)層和上方的第二間隔層,位于最上方的第二間隔層上具有金屬層,所述金屬層上具有陣列式通孔,所述襯底的背面為光線的入射面;本發(fā)明的結(jié)構(gòu)和制造工藝較簡單,且吸收率較高,適用于光電探測器領(lǐng)域。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光電探測器的技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種紅外探測器的量子點(diǎn)有源區(qū)結(jié)構(gòu)、其制作方法及紅外探測器。
背景技術(shù)
隨著紅外探測技術(shù)在軍事領(lǐng)域和民用領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,小規(guī)模半導(dǎo)體紅外光電檢測器件的需求量不斷增加。近年來,用作小規(guī)模光電檢測器的光敏區(qū)域(有源區(qū)域)的量子點(diǎn)材料受到廣泛的關(guān)注。量子點(diǎn)有源區(qū)中的量子點(diǎn)材料由于其量子點(diǎn)納米結(jié)構(gòu)而具有更優(yōu)異的光電特性,例如:量子點(diǎn)材料的量子效率越高,光電檢測器件的吸收率越大。然而,有時候,傳統(tǒng)的量子點(diǎn)有源區(qū)帶來的吸收率也不能滿足紅外光電探測器的應(yīng)用需求。而為了解決這個問題,現(xiàn)有技術(shù)通常采用一些工藝復(fù)雜、成本高昂的手段來提高紅外光電探測器的吸收率,限制了擁有量子點(diǎn)有源區(qū)的紅外探測器的廣泛應(yīng)用和批量生產(chǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明克服現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,所要解決的技術(shù)問題為:提供一種紅外吸收率較高,且結(jié)構(gòu)和制造工藝較簡單的紅外探測器的量子點(diǎn)有源區(qū)結(jié)構(gòu)、其制作方法及紅外探測器。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:紅外探測器的量子點(diǎn)有源區(qū)結(jié)構(gòu),包括:襯底,所述襯底上具有緩沖層,所述緩沖層上具有第一間隔層,所述第一間隔層上具有一個或多個層疊設(shè)置在一起的量子點(diǎn)復(fù)合層,所述量子點(diǎn)復(fù)合層包括下方的量子點(diǎn)層和上方的第二間隔層,位于最上方的第二間隔層上具有金屬層,所述金屬層上具有陣列式通孔,所述襯底的背面為光線的入射面。
優(yōu)選地,所述金屬層的制作材料為Au,或?yàn)锳g,或?yàn)锳l,或?yàn)镃u,其厚度為10~40nm。
優(yōu)選地,所述金屬層的制作材料為Au。
優(yōu)選地,所述通孔的孔徑大小為50~65nm。
優(yōu)選地,所述第一間隔層和所述第二間隔層的制作材料均為Al0.3Ga0.7As,其厚度均為70~85nm。
優(yōu)選地,所述量子點(diǎn)層的數(shù)量為多個,其制作材料為GaAs,厚度為5~9nm。
優(yōu)選地,所述襯底的制作材料為Si,或?yàn)镚aAs。
相應(yīng)地,本發(fā)明提供的一種紅外探測器的量子點(diǎn)有源區(qū)結(jié)構(gòu)的制作方法,包括:S101、提供襯底,經(jīng)過500~600℃的脫氧處理;S102、在600~700℃下生長緩沖層;S103、在緩沖層上生長第一間隔層;S104、在第一間隔層生長一個或多個層疊設(shè)置在一起的量子點(diǎn)復(fù)合層;其中,生長一個量子點(diǎn)復(fù)合層,具體包括:在第一間隔層/第二間隔層上生長量子點(diǎn)層;在量子點(diǎn)層上生長第二間隔層;S105、在位于最上方的第二間隔層上生長金屬層;S106、在金屬層上形成陣列式通孔。
相應(yīng)地,本發(fā)明提供的一種紅外探測器,所述紅外探測器包含如上所述的量子點(diǎn)有源區(qū)結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下有益效果:
本發(fā)明在傳統(tǒng)的量子點(diǎn)有源區(qū)中加入了金屬層,并將金屬層設(shè)置成孔狀結(jié)構(gòu),采用背面入射的方式,當(dāng)紅外光照射入有源區(qū)后,紅外光線先穿過量子點(diǎn)有源區(qū)再進(jìn)入金屬層,而下面的金屬材料和上面的半導(dǎo)體材料構(gòu)成的界面,以及金屬孔和孔內(nèi)空氣之間的界面,可以產(chǎn)生等離子體增強(qiáng)效應(yīng),使得量子點(diǎn)有源區(qū)中能夠局域更多的入射光波,從而導(dǎo)致量子點(diǎn)有源區(qū)對入射光的吸收率更高,而將上述這種對紅外光具有更高吸收率的量子點(diǎn)有源區(qū)應(yīng)用于紅外探測器中,必將使得紅外探測器具備更好的光電特性,例如:更好的光電流、更大的量子效率等。
附圖說明
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
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- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
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- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
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- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





