[發(fā)明專利]一種金屬納米網(wǎng)絡(luò)柔性玻璃的加工方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711463432.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108179392B | 公開(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 彭壽;仲召進(jìn);馬立云;崔介東;操芳芳;王萍萍;高強(qiáng);趙鳳陽(yáng);曹欣;單傳麗;石麗芬;王巍巍;倪嘉;韓娜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中建材蚌埠玻璃工業(yè)設(shè)計(jì)研究院有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/14;H01L21/306 |
| 代理公司: | 安徽省蚌埠博源專利商標(biāo)事務(wù)所 34113 | 代理人: | 尹杰 |
| 地址: | 233010 安徽*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬納米 遮蓋層 薄膜 透明導(dǎo)電玻璃 柔性玻璃 犧牲層 滴加 去除 制備 裂縫 網(wǎng)絡(luò) 浸泡 腐蝕 磁控濺射 金屬薄膜 納米網(wǎng)絡(luò) 濕法刻蝕 網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu) 大顆粒 光學(xué)膠 硅片 基底 濺射 加工 金屬 生長(zhǎng) 透明 調(diào)控 制作 | ||
1.一種金屬納米網(wǎng)絡(luò)柔性玻璃的加工方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、采用磁控濺射法,以硅片為襯底,在硅片上制備SiO2薄膜作為犧牲層;
S2、采用磁控濺射法,在犧牲層上制備GZO薄膜、AZO薄膜或ZnO薄膜作為遮蓋層;
S3、采用濕法刻蝕法,在遮蓋層上滴加稀HNO3,腐蝕遮蓋層得到顆粒間的裂縫并增寬裂縫;
S4、采用濕法刻蝕法,在S3腐蝕完成后再滴加HF,腐蝕顆粒間裂縫下面的SiO2薄膜;
S5、S4完成后將硅片置于磁控濺射腔室內(nèi),濺射生長(zhǎng)出厚度為150~200nm的Ag金屬薄膜;
S6、采用濕法剝離法, S5完成后復(fù)合薄膜使用稀HCl浸泡處理,去除遮蓋層;
S7、采用濕法剝離法,S6完成后復(fù)合薄膜使用HF浸泡處理,去除犧牲層SiO2薄膜,得到具有晶粒生長(zhǎng)網(wǎng)絡(luò)形狀的金屬Ag納米網(wǎng)絡(luò);
S8、采用熱壓印方法,將S7得到的Ag納米網(wǎng)絡(luò)連續(xù)化無損轉(zhuǎn)移至薄膜太陽(yáng)能電池玻璃基板,得到電子信息顯示用玻璃。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬納米網(wǎng)絡(luò)柔性玻璃的加工方法,其特征在于:所述S1中的硅片采用硅陶瓷,磁控濺射時(shí),采用Ar離子作為濺射氣體,O2作為反應(yīng)氣體,射頻電源作用于陰極,濺射功率為220-280W,工作壓強(qiáng)為0 .4-0 .6Pa,靶電壓為85-95V,襯底與靶材的間距為65-75mm,制備得到厚度為280-320nm的SiO2薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種金屬納米網(wǎng)絡(luò)柔性玻璃的加工方法,其特征在于:所述濺射功率為250W,工作壓強(qiáng)為0 .5Pa,靶電壓為87V,襯底與靶材的間距為70mm,制備SiO2薄膜的厚度為300nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬納米網(wǎng)絡(luò)柔性玻璃的加工方法,其特征在于:所述S2中采用GZO/AZO/ZnO陶瓷靶材,磁控濺射時(shí),采用Ar離子作為濺射氣體,直流電源作用于陰極,濺射功率為300~400W,工作壓強(qiáng)為0 .1-0 .4Pa,靶電壓為419~468V,襯底與靶材的間距為60-80mm,制備GZO薄膜、AZO薄膜或ZnO薄膜的厚度為450-550nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種金屬納米網(wǎng)絡(luò)柔性玻璃的加工方法,其特征在于:所述濺射功率為350W,工作壓強(qiáng)為0 .2Pa,靶電壓為450V,襯底與靶材的間距為70mm,制備GZO薄膜、AZO薄膜或ZnO薄膜的厚度為500nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬納米網(wǎng)絡(luò)柔性玻璃的加工方法,其特征在于:所述S5中采用Ag金屬靶材,用Ar離子做為濺射氣體,以射頻電源作用于陰極,工作壓強(qiáng)為0 .3-0.4Pa,濺射功率為100W~200W,靶電壓為54~78V。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種金屬納米網(wǎng)絡(luò)柔性玻璃的加工方法,其特征在于:所述S5中濺射的工藝參數(shù)為:工作壓強(qiáng)為0 .35Pa,濺射功率為150W,靶電壓為65V,濺射生長(zhǎng)出Ag金屬薄膜的厚度為180nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬納米網(wǎng)絡(luò)柔性玻璃的加工方法,其特征在于:所述S8將涂有EVA光學(xué)膠厚度為1mm的PET柔性透明基底加熱至60℃,用熱壓印方法將硅片上的金屬納米網(wǎng)絡(luò)連續(xù)化無損轉(zhuǎn)移至PET上,得到金屬納米網(wǎng)絡(luò)透明導(dǎo)電玻璃。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





