[發(fā)明專利]一種薄膜組分在薄膜表面方向連續(xù)變化的多激光沉積薄膜的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711461103.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108193176A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-06-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 程勇;陸益敏;郭延龍;黃國(guó)俊;萬(wàn)強(qiáng);劉旭;黎偉;田方濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)人民解放軍陸軍工程大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/34 | 分類號(hào): | C23C14/34;C23C14/02;C23C14/54 |
| 代理公司: | 武漢宇晨專利事務(wù)所 42001 | 代理人: | 王敏鋒 |
| 地址: | 430073 湖*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 等離子體 激光束 薄膜 多組分薄膜 靶材 薄膜表面 激光沉積 激光燒蝕 不均勻 襯底 燒蝕 測(cè)試和分析 表面形成 襯底表面 分布形態(tài) 漸變分布 直線排列 均勻性 漸變 膜層 粒子 合成 保證 | ||
1.一種薄膜組分在薄膜表面方向連續(xù)變化的多激光沉積薄膜的方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)清洗襯底;
(2)調(diào)試激光:襯底放置在靶材前方,啟動(dòng)激光器,發(fā)射2~3束激光束,經(jīng)聚焦分別燒蝕真空室內(nèi)相應(yīng)數(shù)量的靶材,產(chǎn)生各自相應(yīng)的等離子體,調(diào)整各激光束在對(duì)應(yīng)靶材上的燒蝕位置,呈直線分布,調(diào)整結(jié)束后關(guān)閉激光器;
(3)沉積:在真空條件或者一定氣壓的環(huán)境氣氛下,使用2~3束激光光束,分別燒蝕對(duì)應(yīng)的靶材,并調(diào)整各激光束的參數(shù),使脈沖激光束照射在靶材表面,沉積1~200min從而在襯底上沉積出薄膜表面方向組分連續(xù)變化的薄膜;所述襯底沿垂直于激光燒蝕點(diǎn)連線的方向做往復(fù)直線運(yùn)動(dòng),往復(fù)頻率低于脈沖激光重復(fù)頻率十分之一以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種薄膜組分在薄膜表面方向連續(xù)變化的多激光沉積薄膜的方法,其特征在于,所述步驟(1)中,襯底可以是一個(gè),也可以是處于同一平面上的若干個(gè)襯底。
3.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的一種薄膜組分在薄膜表面方向連續(xù)變化的多激光沉積薄膜的方法,其特征在于,所述步驟(2)中,所需數(shù)量的激光束可以是相應(yīng)臺(tái)數(shù)激光器同時(shí)發(fā)射實(shí)現(xiàn),也可以是少于所需激光束數(shù)量的1臺(tái)或多臺(tái)激光器同時(shí)發(fā)射、而后全部或部分激光束經(jīng)過(guò)分束實(shí)現(xiàn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的一種薄膜組分在薄膜表面方向連續(xù)變化的多激光沉積薄膜的方法,其特征在于,所述步驟(3)中,調(diào)整各激光束的參數(shù),使脈沖激光束照射在靶材表面的光斑的激光能量密度達(dá)到0.1J/cm2~20J/cm2,脈沖激光重復(fù)頻率1~100kHz。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種薄膜組分在薄膜表面方向連續(xù)變化的多激光沉積薄膜的方法,其特征在于,所述激光的波長(zhǎng)在193nm~10.6μm之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的一種薄膜組分在薄膜表面方向連續(xù)變化的多激光沉積薄膜的方法,其特征在于,所述步驟(3)中,真空條件的真空度為1×10-6Pa~5×10-3Pa,一定氣壓的環(huán)境氣氛是指包含氫氣、氧氣、氬氣、氮?dú)狻⑼轭悮怏w中的一種或多種混合氣體,且氣壓為1×10-2Pa~3Pa的環(huán)境氣氛。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的一種薄膜組分在薄膜表面方向連續(xù)變化的多激光沉積薄膜的方法,其特征在于,所述步驟(1)中,清洗方法為:采用酒精、丙酮、酸或堿將襯底擦拭3~5遍、浸泡或超聲清洗5~15分鐘。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





