[發(fā)明專利]一種用于測(cè)量兩平行有限厚度鍍層薄膜之間粘結(jié)能的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711459754.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108120671B | 公開(公告)日: | 2019-10-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙軍華;董淑宏;鮮敏;于培師;劉汝盟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江南大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N19/04 | 分類號(hào): | G01N19/04 |
| 代理公司: | 無錫華源專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32228 | 代理人: | 聶啟新 |
| 地址: | 214122 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 粘結(jié) 鍍層薄膜 薄膜 解析表達(dá)式 平行石墨 平行 范德華力 連續(xù)力學(xué) 測(cè)量 測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域 石墨烯薄膜 測(cè)量成本 界面粘結(jié) 平衡距離 準(zhǔn)確度 界面處 鍍層 求導(dǎo) | ||
1.一種用于測(cè)量兩平行有限厚度鍍層薄膜之間粘結(jié)能的方法,其特征在于,所述方法包括:
根據(jù)鍍層與薄膜之間的范德華力相互作用,利用連續(xù)力學(xué)理論建立單位面積兩平行石墨烯薄膜之間粘結(jié)能的解析表達(dá)式;
兩原子之間的范德華相互作用勢(shì)能可以表示為:其中,r表示兩原子的距離,∈表示平衡位置的非鍵作用能,σ表示決定兩原子之間平衡位置的參數(shù);將石墨烯片看做是平面薄膜,假設(shè)石墨烯網(wǎng)格上的碳原子是均勻分布的,密度ρ來表示碳原子在石墨烯網(wǎng)格上的分布情況,當(dāng)石墨烯表面受到載荷作用時(shí),石墨烯表面積將發(fā)生變化,從而導(dǎo)致面密度值隨之改變;假設(shè)一張石墨烯薄膜的面積為dA,由面密度的定義可知,石墨烯面上的碳原子數(shù)為ρdA,在上表面石墨烯薄膜上取一點(diǎn),坐標(biāo)為(0,0),并在下表面石墨烯薄膜上取一點(diǎn),坐標(biāo)為(x,y)(x≥0,z=h),兩點(diǎn)之間的距離為單位面積上兩平行石墨烯薄膜之間粘結(jié)能φ表示為:其中,ρl=ρu、Al=Au分別表示上下薄膜的面密度和面積;
將兩平行石墨烯薄膜之間的平衡距離確定為界面粘結(jié)能的最小處,在所述最小處對(duì)所述單位面積平行石墨烯薄膜之間粘結(jié)能的解析表達(dá)式求導(dǎo),得到石墨烯薄膜最小粘結(jié)能;
根據(jù)鍍層與薄膜之間的范德華力相互作用,利用連續(xù)力學(xué)理論建立單位面積兩平行有限厚度鍍層薄膜之間粘結(jié)能的解析表達(dá)式;
假設(shè)薄膜和鍍層上的原子都是均勻分布的,則體密度可以用ρc和ρf表示,其中ρc和ρf大小與變形前薄膜和鍍層單位體積上原子數(shù)量有關(guān);此處鍍層與薄膜彼此間保持平衡,用h表示彼此間的平衡距離,下方薄膜上的點(diǎn)A(xf,z)(-(h+l)≤xf≤-h,z≥0)與上方鍍層上的點(diǎn)B(xc,0)(0≤xc≤H)之間距離為則單位面積兩平行有限厚度鍍層薄膜之間的粘結(jié)能φ可以表示為:其中,H和l分別表示鍍層和薄膜的厚度;
將代入可得:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
當(dāng)薄膜厚度趨向于無窮且鍍層厚度趨向于無窮時(shí),所述單位面積兩平行有限厚度鍍層薄膜之間粘結(jié)能的解析表達(dá)式用于描述半無限厚薄膜之間的粘結(jié)能分布;
當(dāng)薄膜厚度趨向于無窮時(shí),所述單位面積兩平行有限厚度鍍層薄膜之間粘結(jié)能的解析表達(dá)式用于描述有限厚度的鍍層與無限厚度的基體之間的粘結(jié)能分布。
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