[發(fā)明專利]金屬柵偏光片及其制作方法、液晶顯示器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711459334.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108121031A | 公開(公告)日: | 2018-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李子然 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B5/30 | 分類號(hào): | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰;武岑飛 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬柵條 金屬柵 偏光片 液晶顯示器 制作 金屬材料 間隔設(shè)置 減小 線寬 阻擋 保證 | ||
1.一種金屬柵偏光片,其特征在于,包括:基片、多個(gè)第一金屬柵條和多個(gè)第二金屬柵條,所述多個(gè)第一金屬柵條彼此間隔設(shè)置在所述基片上,所述第二金屬柵條與所述第一金屬柵條一一對(duì)應(yīng),并且每個(gè)第二金屬柵條設(shè)置于其對(duì)應(yīng)的一個(gè)第一金屬柵條上,所述第一金屬柵條和所述第二金屬柵條采用不同的金屬材料制成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬柵偏光片,其特征在于,所述第一金屬柵條由鋁制成,所述第二金屬柵條由銅制成。
3.一種金屬柵偏光片的制作方法,其特征在于,包括步驟:
在基片上依序形成層疊的第一金屬膜層、第二金屬膜層和待壓印膜層;
對(duì)所述待壓印膜層進(jìn)行壓印處理以形成多個(gè)壓印條,所述壓印條彼此間隔;
將位于所述壓印條之間的所述第一金屬膜層和所述第二金屬膜層去除;
將所述壓印條去除,以形成多個(gè)第一金屬柵條和位于每個(gè)第一金屬柵條上的一個(gè)第二金屬柵條。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的金屬柵偏光片的制作方法,其特征在于,對(duì)所述待壓印膜層進(jìn)行壓印處理以形成多個(gè)壓印條的方法包括:
采用納米壓印模板對(duì)所述待壓印膜層進(jìn)行納米壓印處理,以形成多個(gè)壓印條和位于每相鄰兩個(gè)壓印條之間的壓印層;
利用干法灰化的方法將每相鄰兩個(gè)壓印條之間的壓印層去除。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的金屬柵偏光片的制作方法,其特征在于,將位于所述壓印條之間的所述第一金屬膜層和所述第二金屬膜層去除的方法包括:
利用高功率干法刻蝕的方法將位于所述壓印條之間的所述第二金屬膜層刻蝕去除;
利用低功率干法刻蝕的方法將將位于所述壓印條之間的所述第一金屬膜層刻蝕去除。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的金屬柵偏光片的制作方法,其特征在于,所述第一金屬膜層由鋁制成,所述第二金屬膜層由銅制成。
7.一種液晶顯示器,其特征在于,包括:
液晶盒;
背光模塊,與所述液晶盒相對(duì)設(shè)置;
第一偏光片,設(shè)置于所述液晶盒的背向所述背光模塊的一側(cè);
第二偏光片,設(shè)置于所述液晶盒的朝向所述背光模塊的一側(cè);
其中,所述第一偏光片和/或所述第二偏光片為權(quán)利要求1或2所述的金屬柵偏光片;或者所述第一偏光片和/或所述第二偏光片為利用權(quán)利要求3至6任一項(xiàng)所述的制作方法制成的偏光片。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示器,其特征在于,所述液晶盒包括:
彩色濾光片基板,與所述背光模塊相對(duì)設(shè)置,所述第一偏光片設(shè)置于所述彩色濾光片基板的背向所述背光模塊的一側(cè);
陣列基板,設(shè)置于所述彩色濾光片基板和所述背光模塊之間,所述陣列基板與所述彩色濾光片基板對(duì)盒設(shè)置,所述第二偏光片設(shè)置于所述陣列基板和所述背光模塊之間;
液晶層,設(shè)置于所述彩色濾光片基板和所述陣列基板之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的液晶顯示器,其特征在于,所述背光模塊為側(cè)入式背光模塊或者直下式背光模塊。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市華星光電技術(shù)有限公司,未經(jīng)深圳市華星光電技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711459334.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





