[發(fā)明專利]化學(xué)增幅型負(fù)型抗蝕劑組合物和抗蝕劑圖案形成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711458964.0
• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN108255015B
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小竹正晃;渡邊聰;增永惠一;山田健司;大橋正樹
• 申請（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/038;G03F7/20
• 代理公司: 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 何楊

1.負(fù)型抗蝕劑組合物，包括具有式(A)的锍化合物和(B)基礎(chǔ)聚合物，該基礎(chǔ)聚合物含有包含具有式(B1)的重復(fù)單元和選自具有式(B2)、(B3)和(B4)的重復(fù)單元中的至少一種的重復(fù)單元的聚合物，

其中R¹、R²和R³各自獨(dú)立地為可含有雜原子的C₁-C₂₀直鏈、支化或環(huán)狀的一價(jià)烴基，p和q各自獨(dú)立地為0-5的整數(shù)，r為0-4的整數(shù)，在p＝2-5的情況下，兩個(gè)相鄰的基團(tuán)R¹可以鍵合在一起以與它們所結(jié)合的碳原子形成環(huán)，在q＝2-5的情況下，兩個(gè)相鄰的基團(tuán)R²可以鍵合在一起以與它們所結(jié)合的碳原子形成環(huán)，在r＝2-4的情況下，兩個(gè)相鄰的基團(tuán)R³可以鍵合在一起以與它們所結(jié)合的碳原子形成環(huán)，

其中R^A為氫、氟、甲基或三氟甲基，R¹¹各自獨(dú)立地為鹵素、任選鹵代的C₂-C₈直鏈、支化或環(huán)狀的酰氧基、任選鹵代的C₁-C₆直鏈、支化或環(huán)狀的烷基、或者任選鹵代的C₁-C₆直鏈、支化或環(huán)狀的烷氧基，A¹為單鍵或者C₁-C₁₀直鏈、支化或環(huán)狀的亞烷基，其中醚鍵可介于碳-碳鍵之間，s為0或1，w為0-2的整數(shù)，a為滿足0≤a≤5+2w-b的整數(shù)，并且b為1-3的整數(shù)，

其中R^A如上所定義，R¹²和R¹³各自獨(dú)立地為羥基、鹵素、任選鹵代的C₂-C₈直鏈、支化或環(huán)狀的酰氧基、任選鹵代的C₁-C₈直鏈、支化或環(huán)狀的烷基、或者任選鹵代的C₁-C₈直鏈、支化或環(huán)狀的烷氧基，R¹⁴為乙酰基、C₁-C₂₀直鏈、支化或環(huán)狀的烷基、C₁-C₂₀直鏈、支化或環(huán)狀的烷氧基、C₂-C₂₀直鏈、支化或環(huán)狀的酰氧基、C₂-C₂₀直鏈、支化或環(huán)狀的烷氧基烷基、C₂-C₂₀烷硫基烷基、鹵素原子、硝基、氰基、亞硫酰基、或者磺酰基，A²為單鍵或C₁-C₁₀直鏈、支化或環(huán)狀的亞烷基，其中醚鍵可介于碳-碳鍵之間，c和d各自獨(dú)立地為0-4的整數(shù)，e為0-5的整數(shù)，x為0-2的整數(shù)，并且t為0或1。

2.如權(quán)利要求1所述的負(fù)型抗蝕劑組合物，其中該聚合物還包含具有式(B5)的重復(fù)單元：

其中R^A如上所定義，A³為單鍵或者其中醚鍵可介于碳-碳鍵之間的C₁-C₁₀直鏈、支化或環(huán)狀的亞烷基，R¹⁵各自獨(dú)立地為鹵素、任選鹵代的C₂-C₈直鏈、支化或環(huán)狀的酰氧基、任選鹵代的C₁-C₆直鏈、支化或環(huán)狀的烷基、或者任選鹵代的C₁-C₆直鏈、支化或環(huán)狀的烷氧基，W為氫、其中醚基、羰基或羰氧基可介于碳-碳鍵之間的C₁-C₁₀直鏈、支化或環(huán)狀的一價(jià)脂族烴基、或者任選取代的一價(jià)芳環(huán)基團(tuán)，Rx和Ry各自獨(dú)立地為氫、任選羥基或烷氧基取代的C₁-C₁₅烷基或者任選取代的一價(jià)芳環(huán)基團(tuán)，條件是Rx和Ry兩者不同時(shí)為氫，Rx和Ry可以鍵合在一起以與它們所結(jié)合的碳原子形成環(huán)，y為0-2的整數(shù)，u為0或1，f為滿足0≤f≤5+2y-g的整數(shù)，并且g為1-3的整數(shù)。