[發(fā)明專(zhuān)利]涂覆產(chǎn)品或制品及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711457824.1 | 申請(qǐng)日： | 2017-12-28 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN109971016A | 公開(kāi)（公告）日： | 2019-07-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 金晨;魏松麗;高阿南;安錦年 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 科思創(chuàng)德國(guó)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C08J7/04 | 分類(lèi)號(hào)： | C08J7/04;C09D4/06;C09D4/02;C09D175/14;C09J175/04;B32B37/10;B32B37/06;B32B27/30;B32B25/00;B32B25/08;C08L23/08 |
| 代理公司： | 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 邵長(zhǎng)準(zhǔn);萬(wàn)雪松 |
| 地址： | 德國(guó)勒*** | 國(guó)省代碼： | 德國(guó);DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基材 基材表面 涂覆產(chǎn)品 聚合物 光化輻射 加熱 照射 聚氨酯聚脲 自由基聚合 組合物涂布 干燥涂布 光引發(fā)劑 基底接觸 粘合性能 聚氨酯 可選的 粘合 聚脲 聚合 制造 | ||
1.制造涂覆產(chǎn)品的方法，包含以下步驟：
將一組合物A涂布在一基材的至少一個(gè)表面，所述組合物A包含一聚合物A、一可以通過(guò)自由基聚合反應(yīng)聚合的化合物、一光引發(fā)劑和可選的水，所述聚合物A的量為不少于50重量%，以所述組合物A的固體含量為100重量%計(jì)， 所述聚合物A是下列的一種或多種：聚氨酯、聚脲和聚氨酯聚脲；
加熱并干燥涂布有組合物A的基材表面；
用光化輻射照射加熱并干燥后的基材表面，所述光化輻射的劑量在1250mJ/cm2-1950mJ/cm2之間；和
使經(jīng)照射后的基材表面與所述基材自身或一另外的基底接觸，得到所述涂覆產(chǎn)品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述聚合物A在20-100℃的熔融焓大于3J/g，根據(jù)DIN65467通過(guò)DSC以20K/min的加熱速率測(cè)量第一次升溫曲線得到。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述用組合物A涂布的基材沒(méi)有用底漆、高能輻射或臭氧處理過(guò)。
4. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述基材是由下列的一種或多種材料制成的：乙烯乙酸乙烯酯共聚物、橡膠、聚烯烴、 熱塑性聚氨酯和聚氨酯泡棉。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、3或4所述的方法，其特征在于，所述另外的基底與所述基材相同或不相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述照射是在所述加熱并干燥后的基材表面溫度不低于35℃時(shí)進(jìn)行的，最優(yōu)選是在所述加熱并干燥后立即進(jìn)行的。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述經(jīng)照射后的基材表面與所述基材自身或一另外的基底接觸之前，不需要引入熱至光化輻射照射后的基材表面。
8.通過(guò)如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的方法制備的涂覆產(chǎn)品。
9.制造涂覆制品的方法，包含以下步驟：
將一組合物B涂布在一基材的至少一個(gè)表面，所述組合物B包含一聚合物B、一可以通過(guò)自由基聚合反應(yīng)聚合的化合物、一光引發(fā)劑和可選的水，所述聚合物B的量為不少于50重量%，以所述組合物B的固體含量為100重量%計(jì)，所述聚合物B是下列的一種或多種：聚氨酯、聚脲和聚氨酯聚脲；所述聚合物B在20-100℃的熔融焓不大于3J/g，根據(jù)DIN65467通過(guò)DSC以20K/min的加熱速率測(cè)量第一次升溫曲線得到；
加熱并干燥涂布有組合物B的基材表面；
用光化輻射照射加熱并干燥后的基材表面；和
使經(jīng)照射后的基材表面與所述基材自身或一另外的基底接觸，得到所述涂覆制品。
10. 如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述基材是由下列的一種或多種材料制成的：乙烯乙酸乙烯酯共聚物、橡膠、聚烯烴、 熱塑性聚氨酯和聚氨酯泡棉。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述光化輻射的劑量在1250mJ/cm2至1950mJ/cm2之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的方法，其特征在于，所述另外的基底與所述基材相同或不相同。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述照射是在所述加熱并干燥后的基材表面溫度不低于35℃時(shí)進(jìn)行的，最優(yōu)選是在所述加熱并干燥后立即進(jìn)行的。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述經(jīng)照射后的基材表面與所述基材自身或一另外的基底接觸之前，不需要引入熱至光化輻射照射后的基材表面。
15.通過(guò)如權(quán)利要求9至14任一項(xiàng)所述的方法制備的涂覆制品。
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