[發(fā)明專利]一種制備W和N共摻雜類金剛石薄膜的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711456568.4 | 申請日: | 2017-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN108085642A | 公開(公告)日: | 2018-05-29 |
| 發(fā)明(設計)人: | 彭壽;沈洪雪;姚婷婷;楊勇;金克武 | 申請(專利權)人: | 中建材蚌埠玻璃工業(yè)設計研究院有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/34 |
| 代理公司: | 安徽省蚌埠博源專利商標事務所 34113 | 代理人: | 尹杰 |
| 地址: | 233010 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 類金剛石薄膜 共摻雜 制備 薄膜 氮氣 樣品置于樣品 超聲波清洗 旋轉樣品臺 氬氣 襯底材料 高電阻率 高透過率 潤滑性能 氬氣轟擊 抽真空 預濺射 靶材 摻入 高阻 起輝 | ||
1.一種制備W和N共摻雜類金剛石薄膜的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一、對襯底材料進行超聲波清洗,去除表面油污和雜質;
步驟二、把樣品置于360°無死角旋轉的樣品臺上;
步驟三、啟動設備,抽真空,真空度達到2.5*10
步驟四、通過氬氣轟擊W、C兩靶材,活化靶材和去除表層氧化物;
步驟五、通入氮氣,啟動旋轉樣品臺,制備W、N共摻雜類金剛石薄膜。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種制備W和N共摻雜類金剛石薄膜的方法,其特征在于:所述襯底材料為玻璃。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種制備W和N共摻雜類金剛石薄膜的方法,其特征在于:步驟四中所述真空度為3.0*10
4.根據(jù)權利要求1所述的一種制備W和N共摻雜類金剛石薄膜的方法,其特征在于:所述旋轉樣品臺包括樣品架(1),在樣品架(1)上設有旋轉座(2),在旋轉座(2)上轉動配合連接伸縮桿(3),伸縮桿(3)通過球頭(4)連接支撐桿(5),在支撐桿(5)上固定連接托盤(6)。
5.根據(jù)權利要求4所述的一種制備W和N共摻雜類金剛石薄膜的方法,其特征在于:所述樣品架(1)為桿狀結構,所述旋轉座(2)包括與樣品架(1)套接的轉筒(7),在轉筒(7)上通過鉸接座(8)連接所述伸縮桿(3),轉筒(7)通過第一鎖緊件(9)鎖緊固定在所述樣品架(1)上,所述伸縮桿(3)通過第二鎖緊件(10)鎖緊固定在所述鉸接座(8)上。
6.根據(jù)權利要求4所述的一種制備W和N共摻雜類金剛石薄膜的方法,其特征在于:所述伸縮桿(3)包括底桿(11),在底桿(11)上套接調節(jié)桿(12),在調節(jié)桿(12)的一側設有套接在底桿(11)上的套筒(13),調節(jié)桿(12)連接所述球頭(4),底桿(11)和所述調節(jié)桿(12)之間通過第三鎖緊件(14)鎖緊固定。
7.根據(jù)權利要求1所述的一種制備W和N共摻雜類金剛石薄膜的方法,其特征在于:在整個鍍膜過程中所述W、C兩靶材都是單獨起輝。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





