[發明專利]一種雙層透明觸控電極電容式觸摸屏的制備方法

在審

• 申請號: 201711452525.9
• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN108196734A
• 公開（公告）日: 2018-06-22
• 發明（設計）人: 白少勇;魏艷彪
• 申請（專利權）人: 蘇州柏特瑞新材料有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 南京正聯知識產權代理有限公司 32243
• 代理人: 顧伯興

本發明涉及了一種雙層透明觸控電極電容式觸摸屏的制備方法。一種雙層透明觸控電極電容式觸摸屏的制備方法：一、制作觸摸屏邊框；二、涂布第一納米線透明導電膜層；三、進行圖案化形成X方向透明觸控電極；四、涂布透明絕緣層；五、涂布第二納米線透明導電膜層；六、進行圖案化形成Y方向透明觸控電極；七、涂布周邊引線；八、涂布透明保護層，即完成電容式觸摸屏的制備。本發明的一種雙層透明觸控電極電容式觸摸屏的制備方法，避免使用成本高昂的氧化銦錫材料及濺射氧化銦錫透明導電層所需的真空鍍膜設備；簡化工藝、降低成本、提高良率，增大透過率，適用且不限于OGS、TOL、OPS等結構的觸摸屏制備。

技術領域

本發明涉及觸摸屏制造領域，特別是涉及一種雙層透明觸控電極電容式觸摸屏的制備方法。

背景技術

隨著現代觸控技術的進步，觸摸屏應用范圍不斷擴大，手機、平板電腦中觸控功能幾近成為標準配置；在筆記本電腦、超極本、一體機中，具備觸控功能的產品占有市場份額也不斷擴大；從觸摸屏產業的角度看，觸摸屏低成本、量產性是未來發展的方向；而對于普通消費者，觸摸屏的輕薄性、高透過性則會得到更多關注；隨著觸控技術的發展，傳統的電阻式觸摸屏逐步被更輕薄、觸控性能更佳的電容式觸摸屏技術所取代；在諸多電容式觸摸屏結構中，以OGS及TOL結構的觸摸屏輕薄性、透過率最佳；對于已有OGS及TOL工藝，業界通常使用單層ITO或ITO垮橋結構來形成觸摸電極結構，工藝上需要使用真空濺射設備沉積ITO薄膜，然后使用黃光制程形成圖形，對于垮橋結構還需在垮橋下制作透明絕緣層材料；無論是哪種結構，都需要昂貴的真空濺射工藝沉積ITO透明導電膜層；另外核心材料的氧化銦錫也逐漸暴露出諸多問題：第一、銦資源儲備有限，ITO作為透明電極在越來越多的領域得到廣泛應用，這就加速銦資源的消耗速度，銦價格也逐步提高，直接造成器件制造成本的增加；第二、ITO薄膜需要昂貴的真空鍍膜設備并且在較高的基板溫度下才能獲得高性能的ITO透明導電膜，設備投資巨大，工藝難度較高，并且濺射機臺很容易成為產線瓶頸，限制產能；第三、為了獲得較小的方阻值，通常ITO沉積的厚度較大，這就造成ITO圖形易見，為了克服這個缺點，業界往往在沉積ITO之前使用真空濺射沉積二氧化硅、五氧化二鈮等復合消隱層，這就更加增加了制造成本，限制產能。

發明內容

本發明提供了一種雙層透明觸控電極電容式觸摸屏的制備方法，通過本發明方法避免使用成本高昂的氧化銦錫(ITO)材料及濺射氧化銦錫透明導電層所需的真空鍍膜設備；并且由于金屬納米線透明導電膜極佳的導電性，優于ITO薄膜材料的高透過率特性，省去了ITO透明導電電極所必須的消隱層結構及所需的真空濺射設備；適用且不限于OGS、TOL、OPS等結構的觸摸屏制備。

一種雙層透明觸控電極電容式觸摸屏的制備方法，具體是按以下步驟進行的：一、在透明蓋板上使用印刷工藝制作觸摸屏邊框；二、在透明蓋板的上表面采用導電納米線墨水材料涂布第一納米線透明導電膜層；三、對步驟二得到的第一納米線透明導電膜層通過黃光制程進行圖案化，形成X方向透明觸控電極；四、在X方向透明觸控電極的上方涂布透明絕緣層；五、在透明絕緣層的上表面采用導電納米線墨水材料涂布第二納米線透明導電膜層；六、對步驟五得到的第二納米線透明導電膜層通過黃光制程進行圖案化，形成Y方向透明觸控電極；七、通過低溫固化導電銀漿涂布周邊引線；八、在最上側涂布透明保護層，即完成電容式觸摸屏的制備。

步驟一中的透明蓋板為鋼化玻璃、普通玻璃或透明塑料基板。

步驟一中的觸摸屏邊框的厚度為1-20μm。

步驟二或步驟五中的導電納米線墨水材料涂布的方式為狹縫擠壓式涂布工藝、旋涂工藝、刮涂工藝或輥涂工藝；導電納米線墨水材料為金屬納米線墨水材料或碳納米管墨水材料；其中，金屬納米線墨水材料為金納米線材料、銀納米線材料、銅納米線材料和鋁納米線材料中的一種或其中幾種按任意比例的復合墨水材料。