[發(fā)明專利]一種退鉻液及其制備方法與應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711452196.8
• 申請日: 2017-12-28
• 公開（公告）號: CN108085685B
• 公開（公告）日: 2019-11-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 董恩蓮;陽文
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東山之風(fēng)環(huán)保科技有限公司
• 主分類號: C23F1/26
• 分類號: C23F1/26
• 代理公司: 44387 佛山幫專知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 顏春艷<國際申請>=<國際公布>=<進(jìn)入

本發(fā)明屬于真空鍍技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種退鉻液及其制備方法與應(yīng)用；尤其是在真空鍍鉻層中的退鉻應(yīng)用。該退鉻液包括氧化劑、促進(jìn)劑、穩(wěn)定劑、緩蝕劑以及水配制，應(yīng)用時退鉻液的溫度為20～70℃，退鉻速度1～2μm/min。本發(fā)明不但退鉻時間比同類產(chǎn)品縮短50％以上，且退鍍干凈而不傷基材，尤其是低溫條件下仍具有優(yōu)良的的退鉻效果，減小了對環(huán)境的污染。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于真空鍍技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種退鉻液及其制備方法與應(yīng)用，該退鉻液能快速退除工件上的真空鍍鉻層。

背景技術(shù)

鉻鍍層具有優(yōu)良的裝飾性能和功能性能，真空鍍鉻是在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式將鉻沉積在工件表面。真空鍍鉻相比傳統(tǒng)濕法鍍鉻具有明顯的優(yōu)越性：真空鍍鉻層不僅附著力更好、致密度更高，而且具有優(yōu)良的硬度及耐蝕性能，可以得到很薄的表面鉻鍍層。由于鉻是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，所以避免了生產(chǎn)及廢液處理過程中造成的環(huán)境污染。因此，真空鍍鉻在高科技產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中得到廣泛應(yīng)用。

鍍鉻工件在使用完畢或發(fā)現(xiàn)有瑕疵時通常需要進(jìn)行退鍍。目前，工業(yè)上主要使用電解法和化學(xué)法兩種方法進(jìn)行退鍍鉻。其中電解法由于不僅需要外加直流電源，工藝相對復(fù)雜；而且受電力線分布不均勻的影響，對工件難以均勻退鍍，尤其對幾何形狀復(fù)雜的工件難有良好的退鍍效果，因而更傾向于使用化學(xué)法。但是現(xiàn)有化學(xué)法還存在一些不足，比如：退鉻速度緩慢、難以退鍍干凈及環(huán)境污染大的問題，嚴(yán)重影響了工業(yè)生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述問題，本發(fā)明的目的之一在于提供一種快速高效退鉻的化學(xué)退鉻液。

本發(fā)明的目的之二是提供了所述退鉻液的制備方法，該方法簡單易控，易于產(chǎn)業(yè)化。

本發(fā)明的目的之三是提供了所述退鉻液的應(yīng)用和具體應(yīng)用方法，尤其是應(yīng)用在真空鍍技術(shù)領(lǐng)域中，快速退工件上的真空鍍鉻層。

本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的：

一種退鉻液，包括氧化劑、促進(jìn)劑、穩(wěn)定劑、緩蝕劑以及水；所述氧化劑在退鉻液中的含量為200～300g/L，所述促進(jìn)劑在退鉻液中的含量為5～20g/L，所述穩(wěn)定劑在退鉻液中的含量為20～50g/L，所述緩蝕劑在退鉻液中的含量為0.5～5g/L，所述水為去離子水；其中所述氧化劑為硝酸銨，所述促進(jìn)劑為乙酸鈷。該退鉻液中，起主要作用的是硝酸銨和乙酸鈷；穩(wěn)定劑和緩蝕劑也可以選擇本領(lǐng)域中常用的物質(zhì)。促進(jìn)劑對于該退鉻反應(yīng)的進(jìn)行具有明顯的促進(jìn)作用，退鉻速度為1～2μm/min，退鉻時間比同類產(chǎn)品縮短50％以上，且退鍍干凈而不傷基材。

較佳地，所述穩(wěn)定劑為硼酸。

較佳地，所述緩蝕劑為苯并三氮唑、巰基苯并噻唑鈉、聚環(huán)氧琥珀酸、丙烯基硫脲中的一種或幾種組合物。苯并三氮唑、巰基苯并噻唑鈉、丙烯基硫脲的極性基團(tuán)可被基體金屬的表面電荷吸附，在整個陽極和陰極區(qū)域形成一層單分子膜，從而阻止或減緩相應(yīng)的引起腐蝕的電極反應(yīng)，聚環(huán)氧琥珀酸可與金屬離子結(jié)合生成沉積保護(hù)膜，阻止腐蝕的進(jìn)一步發(fā)生。

所述退鉻液的配制方法，先將按退鉻液計量四分之三的水加入到容器中，接著依次加入所述氧化劑、促進(jìn)劑、穩(wěn)定劑、緩蝕劑，前一種物質(zhì)溶解后再加入后一種物質(zhì)，待完全溶解后用水補充至計量值完成制備，制得所述真空鍍鉻快速退鉻液。其中，各種物質(zhì)的加入順序很關(guān)鍵，加入溶解完全也即是反應(yīng)完全，反應(yīng)是否完全也直接影響最終的品質(zhì)。

本發(fā)明中的退鉻液可以用在其他任何需要進(jìn)行退鉻處理的地方，當(dāng)然，用在退真空鍍鉻層效果最好。

所述退鉻液用于退真空鍍鉻層的方法為，先將真空鍍鉻的工件浸沒在上述退鉻液中浸泡，待退鍍完全后再取出用水沖凈，完成工件退鉻。

較佳地，所述退鉻速度為1～2μm/min。

較佳地，所述浸泡過程中可同時進(jìn)行超聲或者機械攪拌處理；超聲或者機械攪拌可以提高退鉻速度。