[發明專利]基于光片結構光的顯微層析超分辨率成像方法及系統有效
| 申請號： | 201711447792.7 | 申請日： | 2017-12-27 |
| 公開（公告）號： | CN108227233B | 公開（公告）日： | 2020-02-21 |
| 發明（設計）人： | 戴瓊海;邊麗蘅;陳峰 | 申請（專利權）人： | 清華大學 |
| 主分類號： | G02B27/58 | 分類號： | G02B27/58;G02B21/36 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 張潤 |
| 地址： | 10008*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 結構 顯微 層析 分辨率 成像 方法 系統 | ||
1.一種基于光片結構光的顯微層析超分辨率成像方法，其特征在于，包括以下步驟：
對光照端的入射光進行空間調制，以生成光片從側面照明樣本；
將所述光照端的光片調制成多個不同頻率且不同方向的樣式圖案，并相應地在探測端拍攝多張圖像；以及
根據所述多張圖像通過結構光超分辨率方法提高圖像分辨率，以得到超分辨率顯微層析成像圖像；
通過改變掃描函數、DMD調制、聲光可調諧濾波器調制、旋轉樣本等方法，將所述光片調成成不同圖案。
2.根據權利要求1所述的基于光片結構光的顯微層析超分辨率成像方法，其特征在于，所述對光照端的入射光進行空間調制，進一步包括：
利用柱透鏡、貝塞爾(Bessel)光線調制或者柵格(lattice)光線調制方法將所述入射光調制成所述光片，以從側面照明所述樣本的某一深度層。
3.根據權利要求1所述的基于光片結構光的顯微層析超分辨率成像方法，其特征在于，通過頻域拼接算法、交替投影算法等重構所述樣本圖像。
4.一種基于光片結構光的顯微層析超分辨率成像系統，其特征在于，包括：
第一調制模塊，用于對光照端的入射光進行空間調制，以生成光片從側面照明樣本；
第二調制模塊，用于將所述光照端的光片調制成多個不同頻率且不同方向的樣式圖案，并相應地在探測端拍攝多張圖像；以及
獲取模塊，用于根據所述多張圖像通過結構光超分辨率方法提高圖像分辨率，以得到超分辨率顯微層析成像圖像；
通過改變掃描函數、DMD調制、聲光可調諧濾波器調制或者旋轉樣本，將所述光片調成成不同圖案。
5.根據權利要求4所述的基于光片結構光的顯微層析超分辨率成像系統，其特征在于，所述第一調制模塊，進一步包括：
調制單元，用于利用柱透鏡、貝塞爾(Bessel)光線調制或者柵格(lattice)光線調制方法將所述入射光調制成所述光片，以從側面照明所述樣本的某一深度層。
6.根據權利要求4所述的基于光片結構光的顯微層析超分辨率成像系統，其特征在于，通過頻域拼接算法、交替投影算法等重構所述樣本圖像。
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