[發(fā)明專利]基于動(dòng)態(tài)光學(xué)遮蔽板的切趾光柵二次曝光制作系統(tǒng)及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711440772.7 | 申請日: | 2017-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN108051887A | 公開(公告)日: | 2018-05-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳根祥;田愷;呂敏;王義全 | 申請(專利權(quán))人: | 中央民族大學(xué) |
| 主分類號: | G02B6/02 | 分類號: | G02B6/02 |
| 代理公司: | 北京萬象新悅知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11360 | 代理人: | 王巖 |
| 地址: | 100081 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 動(dòng)態(tài) 光學(xué) 遮蔽 光柵 二次 曝光 制作 系統(tǒng) 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種基于動(dòng)態(tài)光學(xué)遮蔽板的切趾光柵二次曝光制作系統(tǒng)及方法。本發(fā)明采用一次曝光光學(xué)遮蔽板和二次曝光光學(xué)補(bǔ)償板,二者擋板的中心分別開設(shè)有為共軛函數(shù)的開孔,并采用一次曝光光學(xué)遮蔽板控制器控制一次曝光光學(xué)遮蔽板沿垂直于氫載光纖的運(yùn)動(dòng)速度,以控制不同區(qū)域的曝光時(shí)間,完成一次曝光;二次曝光光學(xué)補(bǔ)償板控制器控制二次曝光光學(xué)補(bǔ)償板的運(yùn)動(dòng)速度,完成二次曝光補(bǔ)償,以實(shí)現(xiàn)對切趾光柵的直流折射率補(bǔ)償;本發(fā)明成本低廉;采用光學(xué)擋板做遮蔽板,系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單,精度可控;采用數(shù)字化控制光學(xué)遮蔽板運(yùn)動(dòng),易于調(diào)節(jié)、控制靈活、重復(fù)性好、效率高、易于工業(yè)化生產(chǎn);本發(fā)明給出了明確的運(yùn)動(dòng)函數(shù),可以實(shí)現(xiàn)任意切趾光柵的制作。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光纖傳感制備技術(shù),具體涉及一種基于動(dòng)態(tài)光學(xué)遮蔽板的切趾光柵二次曝光制作系統(tǒng)及其制備方法。
背景技術(shù)
光纖光柵(FBG)是折射率沿光纖軸向程周期變化的一類光纖器件,可以通過特殊的折射率結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)制作出獨(dú)特的濾波和色散特性,在光纖傳感、激光技術(shù)、波分復(fù)用等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用價(jià)值。光柵反射譜的半波線寬(FWHM)、邊模抑制比(SMSR)以及邊模滾降特性(SLSR)決定了系統(tǒng)波長的復(fù)用度以及測試精度。通過在光纖光柵制作過程中采用適當(dāng)?shù)那兄杭夹g(shù)可以使光柵反射譜的旁瓣得到抑制并改善反射譜的形狀或色散性質(zhì)。常見的切趾函數(shù)有線性切趾函數(shù)、余弦切趾函數(shù)、升余弦切趾函數(shù)、高斯切趾函數(shù)、超高斯切趾函數(shù)、塔爾切趾函數(shù)等,不同的切趾函數(shù)制作出的切趾光柵特性均有所差別。
目前,已經(jīng)有切趾相位掩模板法、利用紫外脈沖相干寫入切趾光柵、掃描電鏡法、逐點(diǎn)寫入法、二次曝光法、特殊遮蔽板制作法等多種方法被應(yīng)用于切趾光柵的實(shí)驗(yàn)研制。但切趾相位掩模法需要對相位模版進(jìn)行精確的設(shè)計(jì)和制備,在不同的場合需要定制不同的相位掩模板,成本較高;采用紫外脈沖相干寫入法對紫外光源相干性要求很高,并不能嚴(yán)格控制切趾函數(shù)形狀,重復(fù)性不好;反射鏡掃描法雖然能夠控制切趾函數(shù)的形狀,但在光柵寫入過程中需要改變光路,穩(wěn)定性較差;逐點(diǎn)寫入法制作比較耗時(shí),對光纖的精確運(yùn)動(dòng)控制要求很高,需要將光斑聚焦到光柵周期內(nèi),在技術(shù)上也比較難控制。
發(fā)明內(nèi)容
針對以上現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,本發(fā)明提出了一種基于動(dòng)態(tài)光學(xué)遮蔽板的切趾光柵二次曝光制作系統(tǒng)及其制備方法,針對普遍使用的均勻相位掩模板,設(shè)計(jì)一組動(dòng)態(tài)光學(xué)遮蔽板以及運(yùn)動(dòng)函數(shù),基于此種光學(xué)遮蔽板的光柵曝光系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)切趾光柵的可控制備,控制精度能夠達(dá)到為1μm,光柵長度可以任意選擇。本系統(tǒng)具有系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單、改進(jìn)成本低廉、易于調(diào)節(jié)、控制靈活、重復(fù)性好、效率高、易于工業(yè)化生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種基于動(dòng)態(tài)光學(xué)遮蔽板的切趾光柵二次曝光制作系統(tǒng)。
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