[發(fā)明專利]基板的涂布方法以及基板的涂布裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711439897.8
• 申請(qǐng)日: 2017-12-26
• 公開（公告）號(hào): CN109574511A
• 公開（公告）日: 2019-04-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 夏貞雄;永井久也
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中外爐工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C03C17/00
• 分類號(hào): C03C17/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 肖茂深

本發(fā)明提供一種基板的涂布方法以及基板的涂布裝置，其在同時(shí)開始噴嘴的移動(dòng)與涂敷液從噴嘴的噴出的情況下，能夠容易地使從涂布開始時(shí)起幾秒內(nèi)的期間的涂膜厚度盡可能地恒定，從而能夠防止基板的利用面積減少。在同時(shí)開始噴出涂敷液(D)的噴嘴(3)的移動(dòng)與涂敷液從噴嘴的噴出而向基板(8)涂布涂敷液時(shí)，逐漸增加噴嘴的移動(dòng)速度(Vt)(Vt1、Vt2、Vt3)，以使得基板的單位面積的涂敷液量恒定，從而涂膜厚度恒定。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種基板的涂布方法以及基板的涂布裝置，其在同時(shí)開始噴嘴的移動(dòng)與自噴嘴的涂敷液的噴出的情況下，能夠容易地將自涂布開始時(shí)起幾秒內(nèi)的期間的涂膜厚度盡可能地設(shè)置為恒定，從而能夠防止基板的利用面積減少。

背景技術(shù)

在對(duì)玻璃制等的基板涂布涂敷液的臺(tái)式涂布機(jī)等涂布裝置中，設(shè)置為能夠向基板整體以均勻的涂膜厚度(膜厚分布的容許誤差為1微米以下的單位)涂布涂敷液，但從噴嘴開始噴出涂敷液后至涂敷液的噴出流量恒定為止有幾秒的時(shí)間滯后，在此期間噴嘴的移動(dòng)范圍的涂膜厚度變薄，無法作為產(chǎn)品而使用，因此將其從基板切除并廢棄。于是，要求防止基板的利用面積變少的對(duì)策，作為其對(duì)策的涂布裝置、涂布方法，已知專利文獻(xiàn)1～4。

專利文獻(xiàn)1的“基板用涂布裝置”的課題在于，能夠即時(shí)且高精度地調(diào)整基板的表面的涂敷液的涂布量，能夠減少在涂布開始時(shí)以及涂布結(jié)束時(shí)產(chǎn)生的膜厚不均勻區(qū)域，基板用涂布裝置具備狹縫噴嘴、第一相機(jī)、第二相機(jī)、控制部、泵以及調(diào)壓腔。控制部根據(jù)第一相機(jī)拍攝到的液珠形狀與基準(zhǔn)形狀的比較結(jié)果來控制從泵向狹縫噴嘴供給的涂敷液的供給量。另外，控制部基于從第二相機(jī)拍攝到的圖像測(cè)定出的距離與基準(zhǔn)距離的比較結(jié)果來控制調(diào)壓腔的狹縫噴嘴的上游側(cè)的氣壓。

專利文獻(xiàn)2的“藥液的涂布方法以及裝置”的課題在于，在將從狹縫噴出的藥劑向相對(duì)移動(dòng)的基板的表面涂布的基本的結(jié)構(gòu)中，包含涂布開始時(shí)以及涂布結(jié)束時(shí)在內(nèi)，整體上抑制膜厚的變動(dòng)，從而能夠均勻地涂布藥液，在從相對(duì)于相對(duì)移動(dòng)的基板而將在后的第一狹縫和在先的第二狹縫平行排列配置而成的噴嘴對(duì)基板進(jìn)行藥液的涂布之際，在涂布開始時(shí)，以首先進(jìn)行藥液自第一狹縫的噴出，接下來進(jìn)行藥液自第二狹縫的噴出的方式進(jìn)行控制，從而抑制藥液在涂布開始時(shí)的涌出，使得基板上的面內(nèi)膜厚均勻化。

專利文獻(xiàn)3的“涂布裝置以及涂布方法”具備：涂液供給源，其通過加壓而擠出涂液并向涂液供給系統(tǒng)供給；噴嘴，其與涂液供給系統(tǒng)連接且進(jìn)行涂布處理；注射泵，其設(shè)置于涂液供給系統(tǒng)，且在內(nèi)部充滿涂液，僅在開始涂布處理時(shí)噴出涂液并供給至噴嘴，另一方面，在停止向噴嘴供給涂液時(shí)抑制從涂液供給源朝向噴嘴傳播的壓力的變化；注射泵填充用開閉閥，其僅在向注射泵供給涂液時(shí)關(guān)閉；以及開閉閥，其在利用注射泵開始涂布處理時(shí)關(guān)閉，在向注射泵供給涂液時(shí)、以及為了向噴嘴供給涂液而與通過注射泵停止涂料的供給相應(yīng)地打開。

專利文獻(xiàn)4的“涂敷裝置”的課題在于，在使用模頭的涂布裝置中減小在涂布開始時(shí)產(chǎn)生的膜厚不足區(qū)域，涂布裝置具備：保持并移動(dòng)基材的卡盤臺(tái)、向基材涂布涂布液的涂敷用模頭、為了向模頭供給涂布液而連結(jié)的配管以及泵，其中，在位于接近模頭的位置的配管設(shè)置將直至泵為止的配管內(nèi)保持為期望的壓力的背壓閥，始終向配管內(nèi)施加適當(dāng)?shù)膲毫Γ诒玫墓ぷ鏖_始時(shí)迅速地使噴出壓上升，從而能夠以短時(shí)間確保期望的噴出量。

在先技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本再公表特許2010/106979號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開平11-179262號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)3：日本特開2016-87601號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)4：日本特開2004-50026號(hào)公報(bào)

在專利文獻(xiàn)1中，需要拍攝液珠形狀的第一相機(jī)、拍攝用于氣壓控制的圖像的第二相機(jī)，且需要進(jìn)行圖像處理等復(fù)雜處理的控制部，存在設(shè)備大且成本高的課題。