[發(fā)明專利]機(jī)器人基坐標(biāo)系校準(zhǔn)的方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711439547.1 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108161935B | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊躒;譚龍山;周飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中科新松有限公司 |
| 主分類號(hào): | B25J9/16 | 分類號(hào): | B25J9/16;B25J19/00 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 郭新娟 |
| 地址: | 200120 上海市浦東新區(qū)中國(上海)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 機(jī)器人 坐標(biāo)系 校準(zhǔn) 方法 裝置 | ||
1.一種機(jī)器人基坐標(biāo)系校準(zhǔn)的方法,其特征在于,應(yīng)用于測試系統(tǒng)軟件,所述測試系統(tǒng)軟件設(shè)置在終端設(shè)備上,所述方法包括:
獲取基坐標(biāo)系校準(zhǔn)的校準(zhǔn)點(diǎn),其中,所述校準(zhǔn)點(diǎn)的數(shù)量至少為5個(gè),且所述校準(zhǔn)點(diǎn)不在同一平面;
通過機(jī)器人控制器控制機(jī)器人沿著所述校準(zhǔn)點(diǎn)移動(dòng),其中,在所述機(jī)器人移動(dòng)過程中,測量設(shè)備追隨所述機(jī)器人移動(dòng),所述機(jī)器人的末端方向固定,且待測量點(diǎn)相對(duì)所述機(jī)器人的末端位置固定;
獲取所述機(jī)器人控制器發(fā)送的第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述測量設(shè)備測得到第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù),其中,所述第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)為所述機(jī)器人在所述校準(zhǔn)點(diǎn)時(shí),機(jī)器人基坐標(biāo)系中的所述機(jī)器人的末端坐標(biāo),所述第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù)為所述機(jī)器人在所述校準(zhǔn)點(diǎn)時(shí),所述測量設(shè)備在測量設(shè)備坐標(biāo)系測得的所述待測量點(diǎn)坐標(biāo);
通過基坐標(biāo)系校準(zhǔn)算法對(duì)所述第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,得到轉(zhuǎn)換矩陣,以完成所述機(jī)器人基坐標(biāo)系校準(zhǔn),其中,所述轉(zhuǎn)換矩陣能夠?qū)⑺鰷y量設(shè)備坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換到所述機(jī)器人基坐標(biāo)系中;
在獲取基坐標(biāo)系校準(zhǔn)的校準(zhǔn)點(diǎn)之前,所述方法還包括:
分別建立與機(jī)器人系統(tǒng),測量設(shè)備的連接關(guān)系,
其中,已預(yù)先通過手動(dòng)引光的方式將所述測量設(shè)備指向固定在所述機(jī)器人末端的待測量點(diǎn),所述機(jī)器人系統(tǒng)包括:所述機(jī)器人和所述機(jī)器人控制器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,通過基坐標(biāo)系校準(zhǔn)算法對(duì)所述第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,得到轉(zhuǎn)換矩陣包括:
根據(jù)所述第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)計(jì)算得到多個(gè)第一差值,其中,所述第一差值為所述機(jī)器人在相鄰兩個(gè)校準(zhǔn)點(diǎn)時(shí),對(duì)應(yīng)的所述機(jī)器人的末端坐標(biāo)之間的差值;
根據(jù)所述第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù)計(jì)算得到多個(gè)第二差值,其中,所述第二差值為所述機(jī)器人在相鄰兩個(gè)校準(zhǔn)點(diǎn)時(shí),對(duì)應(yīng)的所述測量設(shè)備測得的所述待測量點(diǎn)坐標(biāo)之間的差值;
通過旋轉(zhuǎn)矩陣計(jì)算公式計(jì)算基坐標(biāo)系校準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)矩陣,所述旋轉(zhuǎn)矩陣為所述測量設(shè)備坐標(biāo)系和所述機(jī)器人基坐標(biāo)系之間轉(zhuǎn)換時(shí)的旋轉(zhuǎn)分量,其中,E為所述多個(gè)第一差值組成的第一矩陣,F(xiàn)為所述多個(gè)第二差值組成第二矩陣,A為所述機(jī)器人基坐標(biāo)系,B為所述測量設(shè)備坐標(biāo)系;
通過坐標(biāo)系轉(zhuǎn)換公式計(jì)算轉(zhuǎn)換常數(shù),所述轉(zhuǎn)換常數(shù)為所述測量設(shè)備坐標(biāo)系和所述機(jī)器人基坐標(biāo)系之間轉(zhuǎn)換時(shí)的位移分量,其中,pA(i)為所述第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù),mB(i)為所述第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù),為所述旋轉(zhuǎn)矩陣,C為轉(zhuǎn)換常數(shù);
基于所述旋轉(zhuǎn)矩陣和所述轉(zhuǎn)換常數(shù)計(jì)算所述轉(zhuǎn)換矩陣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述測量設(shè)備包括:激光跟蹤儀,所述待測量點(diǎn)包括:固定在機(jī)器人末端的靶球。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述旋轉(zhuǎn)矩陣為3×3階的矩陣,所述轉(zhuǎn)換矩陣為4×4階的矩陣。
5.一種機(jī)器人基坐標(biāo)系校準(zhǔn)的裝置,其特征在于,所述裝置設(shè)置在終端設(shè)備上,所述裝置包括:
第一獲取模塊,用于獲取基坐標(biāo)系校準(zhǔn)的校準(zhǔn)點(diǎn),其中,所述校準(zhǔn)點(diǎn)的數(shù)量至少為5個(gè),且所述校準(zhǔn)點(diǎn)不在同一平面;
控制模塊,用于通過機(jī)器人控制器控制機(jī)器人沿著所述校準(zhǔn)點(diǎn)移動(dòng),其中,在所述機(jī)器人移動(dòng)過程中,測量設(shè)備追隨所述機(jī)器人移動(dòng),所述機(jī)器人的末端方向固定,且待測量點(diǎn)相對(duì)所述機(jī)器人的末端位置固定;
第二獲取模塊,用于獲取所述機(jī)器人控制器發(fā)送的第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述測量設(shè)備測得到第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù),其中,所述第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)為所述機(jī)器人在所述校準(zhǔn)點(diǎn)時(shí),機(jī)器人基坐標(biāo)系中的所述機(jī)器人的末端坐標(biāo),所述第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù)為所述機(jī)器人在所述校準(zhǔn)點(diǎn)時(shí),所述測量設(shè)備在測量設(shè)備坐標(biāo)系測得的所述待測量點(diǎn)坐標(biāo);
處理模塊,用于通過基坐標(biāo)系校準(zhǔn)算法對(duì)所述第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,得到轉(zhuǎn)換矩陣,以完成所述機(jī)器人基坐標(biāo)系校準(zhǔn),其中,所述轉(zhuǎn)換矩陣能夠?qū)⑺鰷y量設(shè)備坐標(biāo)系中的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換到所述機(jī)器人基坐標(biāo)系中;
所述裝置還包括:
建立模塊,用于分別建立與機(jī)器人系統(tǒng),測量設(shè)備的連接關(guān)系,
其中,已預(yù)先通過手動(dòng)引光的方式將所述測量設(shè)備指向固定在所述機(jī)器人末端的待測量點(diǎn),所述機(jī)器人系統(tǒng)包括:所述機(jī)器人和所述機(jī)器人控制器。
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