[發明專利]一種鋁/氧化鋁復合阻氫涂層在審
| 申請號： | 201711439307.1 | 申請日： | 2017-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN109957756A | 公開（公告）日： | 2019-07-02 |
| 發明（設計）人： | 李帥;何迪;張華;呂琴麗;王樹茂;劉曉鵬;蔣利軍 | 申請（專利權）人： | 北京有色金屬研究總院 |
| 主分類號： | C23C14/06 | 分類號： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100 | 代理人： | 劉秀青 |
| 地址： | 100088 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 金屬基體 氧化鋁 復合 熱膨脹 抗冷熱沖擊性能 奧氏體不銹鋼 馬氏體不銹鋼 物理氣相沉積 表面氧化鋁 熱膨脹系數 氧化鋁薄膜 氧化鋁膜層 磁控濺射 單層涂層 金屬結合 金屬鋁層 氧化鋁靶 原位生成 濺射 鋁靶 失配 優選 薄膜 破損 金屬 | ||
【權利要求書】：
1.一種鋁/氧化鋁復合阻氫涂層，其特征在于，該阻氫涂層為形成在金屬基體上的組成為xAl-(1-x)Al2O3的單層涂層，其中0＜x＜1。
2.根據權利要求1所述的鋁/氧化鋁復合阻氫涂層，其特征在于，所述金屬基體材質為奧氏體不銹鋼或馬氏體不銹鋼。
3.根據權利要求1所述的鋁/氧化鋁復合阻氫涂層，其特征在于，采用物理氣相沉積法制備。
4.根據權利要求3所述的鋁/氧化鋁復合阻氫涂層，其特征在于，采用磁控濺射法制備，通過同時濺射鋁靶和氧化鋁靶而獲得所述阻氫涂層。
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