[發明專利]一種三維結構電磁屏蔽織物及其制備方法

在審

• 申請號: 201711439286.3
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN108035049A
• 公開（公告）日: 2018-05-15
• 發明（設計）人: 許福軍;周夢婕
• 申請（專利權）人: 東華大學
• 主分類號: D03D25/00
• 分類號: D03D25/00
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司 31001
• 代理人: 翁若瑩;王文穎

1.一種三維結構電磁屏蔽織物，其特征在于，包括由經紗(1)和緯紗(3)組成的上、下面紗層及由間隔紗(2)組成的介于上、下面紗層之間的間隔層，間隔層與上、下面紗層之間填充有具有電磁屏蔽功能的納米結構碳材料集合體組成的填充物(4)。

2.如權利要求1所述的三維結構電磁屏蔽織物，其特征在于，所述的三維結構電磁屏蔽織物為三維間隔機織物、三維間隔針織物、三維編織物或蜂窩結構織物。

3.如權利要求1所述的三維結構電磁屏蔽織物，其特征在于，所述經紗(1)、緯紗(3)、間隔紗(2)為芳綸，玻璃纖維，碳纖維、滌綸、錦綸、氨綸、維綸、棉纖維或麻纖維。

4.如權利要求3所述的三維結構電磁屏蔽織物，其特征在于，所述的經紗(1)、緯紗(3)的密度為2～50根/厘米，間隔紗(2)的密度為2～50根/厘米。

5.如權利要求1所述的三維結構電磁屏蔽織物，其特征在于，所述填充物(4)為碳納米管膜、碳納米管紗線或石墨烯紗線。

6.如權利要求1或5所述的三維結構電磁屏蔽織物，其特征在于，所述填充物(4)為未經處理的原材料或經化學試劑修飾過的材料。

7.一種權利要求1-6任意一項所述的三維結構電磁屏蔽織物的制備方法，其特征在于，織造上、下面紗層，每層面紗層包括兩層經紗(1)和一層緯紗(3)，然后采用兩組間隔紗(2)相互交織將上、下面紗層捆綁成為一個整體；控制間隔紗(2)的高度，同時將填充物(4)織入中空間隔層中；織造完畢后將三維織物浸入膨松劑與相容劑的混合溶液中，混合溶液浸入填充物(4)內部分解產生的氣泡具有微爆破作用，使得填充物(4)結構逐漸疏松膨脹填滿整個三維中空結構，從而制得三維結構電磁屏蔽織物。

8.如權利要求7所述的三維結構電磁屏蔽織物的制備方法，其特征在于，所述間隔紗(2)的高度由隔距片來控制或采用定伸長送經紗的方式控制。

9.如權利要求7所述的三維結構電磁屏蔽織物的制備方法，其特征在于，所述混合溶液中，所述相容劑為乙醇溶液、丙酮溶液或二氯甲烷溶液；膨松劑為質量濃度為10～70％的過氧化氫溶液、質量濃度為10～15％的稀硫酸與金屬鋅粉末以重量比20∶1的比例混合的混合物或質量濃度為8～12％的稀硝酸于亞硫酸鈉以重量比20∶1的比例混合的混合物。