[發明專利]顆粒物檢測前處理設備

在審

• 申請號: 201711437343.4
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN107991162A
• 公開（公告）日: 2018-05-04
• 發明（設計）人: 甘佳俊;陳硯;董寧
• 申請（專利權）人: 蘇州市華測檢測技術有限公司
• 主分類號: G01N1/34
• 分類號: G01N1/34;G01N1/28;G01N1/44;G01N1/22
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及顆粒物采樣技術領域，尤其涉及一種能夠對濾膜上的顆粒物進行徹底清洗、結構簡單、自動化程度高的顆粒物檢測前處理設備。

背景技術

大氣采樣是采集大氣中污染物樣品或受污染空氣樣品的過程。現場采樣方法有兩類：一類是使大量空氣通過液體吸收劑或固體吸附劑，將大氣中濃度較低的污染物富集起來，如抽氣法、濾膜法。另一類是用容器(玻璃瓶、塑料袋等)采集含有污染物的空氣。前者測得的是采樣時間內大氣中污染物的平均濃度；后者測得的是瞬時濃度或短時間內的平均濃度。采樣的方式應根據采樣的目的和現場情況而定。所采樣品應有代表性。采樣效率要高，操作務求簡便，并便于進行隨后的分析測定，以獲得可靠的大氣污染的基本數據。采集大氣中污染物的樣品或受污染空氣的樣品，以期獲得大氣污染的基本數據。

大氣采樣是大氣環境監測的重要步驟，對于監測數據的可靠性關系極大。采集大氣樣品的方法，主要有兩類:一類是使大量空氣通過液體吸收劑或固體吸附劑,以吸收或阻留污染物，把原來大氣中濃度較低的污染物富集起來，如抽氣法、濾膜法。用這類方法測得的結果是采樣時間內大氣中污染物的平均濃度。另一類是用容器(玻璃瓶、塑料袋、橡皮球膽、注射器等)采集含有污染物的空氣。這類方法適用于下述情況：大氣中污染物的濃度較高；或測定方法的靈敏度較高；不易被液體吸收劑吸收或固體吸附劑吸附的污染氣體和蒸汽。用此法測得的結果為大氣中污染物的瞬時濃度或短時間內的平均濃度。此外，還有低溫冷凍法，可用于采集揮發性氣體和蒸汽，如烷基鉛。采樣器中的液體吸收劑主要用于吸收氣態和蒸汽態物質。常用的吸收劑有：水、化合物水溶液、有機溶劑等。吸收劑必須能與污染物發生快速的化學反應或能把污染物迅速地溶解，并便于進行分析操作。例如空氣中的氟化氫、氯化氫可用水作為吸收劑；二氧化硫可用四氯汞鈉作為吸收劑；甲拌磷(3911)、內吸磷(1059)等有機磷農藥可用5％甲醇作為吸收劑等。固體吸附劑有顆粒狀吸附劑和纖維狀吸附劑兩種。常用的顆粒狀吸附劑有硅膠、素陶瓷等，用于氣態、蒸汽態和顆粒物的采樣。纖維狀吸附劑有濾紙、濾膜、脫脂棉、玻璃棉等，吸附作用主要是物理性的阻留，用于采集顆粒物。有時吸附劑先用某種化學試劑浸漬處理，使污染物同它發生化學作用而被吸附，主要用于采集氣態或蒸汽態污染物。

普通室外大氣采樣設備，體積小，容易搬運，但是其檢測的性能比較有限，難以做到對顆粒物進行精確的檢測和分析，而大型的實驗設備則一般體積龐大，不易搬動，經常放置于室內。因此如果選擇濾膜法，則需要對積累在濾膜上的顆粒物從濾膜上清洗出來，再將顆粒物重新進入大型實驗儀器進行測試和分析。

因此，亟需一種能夠對濾膜上的顆粒物進行徹底清洗、結構簡單、自動化程度高的顆粒物檢測前處理設備。

發明內容

本發明的目的是提供一種能夠對濾膜上的顆粒物進行徹底清洗、結構簡單、自動化程度高的顆粒物檢測前處理設備。

為了實現上述目的，本發明提供的技術方案為：提供一種顆粒物檢測前處理設備，包括：儲液槽、清洗槽及霧化槽，所述清洗槽內設有若干相互獨立的子清洗槽，所述儲液槽內裝設有清洗液，且所述儲液槽與每個所述子清洗槽均連通，所述清洗槽還設有可進入每個所述子清洗槽的超聲波清洗設備，顆粒物采樣濾膜固定于所述超聲波清洗設備上，顆粒物采樣濾膜隨著所述超聲波清洗設備進入每個所述子清洗槽，每個所述子清洗槽均與所述霧化槽連通，所述霧化槽連接大型實驗儀器。

還包括滑動機構，所述滑動機構設于所述清洗槽上方，并可在每個子清洗槽上方移動，所述超聲波清洗設備設于所述滑動機構上并可進入每個子清洗槽內。

所述清洗槽的上方兩側分別設有兩沿所述子清洗槽排列方向布設的導軌，所述滑動機構包括步進電機、絲杠、龍門架、滑塊，所述超聲波清洗設備設于所述龍門架上，所述龍門架通過所述滑塊滑動地設于所述導軌上，所述步進電機通過所述絲杠驅動所述龍門架在所述導軌上往復運動。

還包括升降機構，所述升降機構設于所述龍門架上，所述升降機構用于執行所述超聲波清洗設備的提升或降落動作。

所述龍門架包括橫梁和支柱，所述支柱上設有豎直方向的長槽，所述升降機構沿所述長槽做提升或降落動作。

所述升降機構包括兩相對設置的安裝板，每個所述安裝板分別設有所述超聲波清洗設備，而顆粒物采樣濾膜設于兩所述超聲波清洗設備之間。

每個所述子清洗槽與所述霧化槽連通之前，先進入一緩沖槽，所述緩沖槽設于所述清洗槽底部。

所述霧化槽底部設有霧化片及加熱裝置。