[發(fā)明專利]光學(xué)補(bǔ)償膜、掩膜版以及曝光機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711435037.7
• 申請(qǐng)日: 2017-12-26
• 公開（公告）號(hào): CN108169997B
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 熊興
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G03F1/38
• 分類號(hào): G03F1/38;G03F7/20
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種光學(xué)補(bǔ)償膜，應(yīng)用于曝光機(jī)，所述曝光機(jī)包括多個(gè)棱鏡，相鄰兩個(gè)所述棱鏡部分重疊設(shè)置，形成重疊部分和非重疊部分，其特征在于，所述光學(xué)補(bǔ)償膜包括：第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜和第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜；

所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜與所述重疊部分棱鏡相對(duì)設(shè)置，所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜用于將光透射到所述重疊部分棱鏡；

所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜與所述非重疊部分棱鏡相對(duì)設(shè)置，所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜用于將光透射到所述非重疊部分棱鏡，其中所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的光透過率大于所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的光透過率；

其中，所述光學(xué)補(bǔ)償膜設(shè)置在掩膜版中，所述掩膜版還包括承載部、遮光膜以及支柱；

所述遮光膜用于確定曝光區(qū)域，所述遮光膜設(shè)置在所述承載部上；

所述支柱設(shè)置在所述遮光膜上，用于支撐所述光學(xué)補(bǔ)償膜，所述遮光膜和所述光學(xué)補(bǔ)償膜相互分離。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補(bǔ)償膜，其特征在于，所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的組成材料包括硝化纖維素、纖維脂、特氟龍中的一種或多種，所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的組成材料包括硝化纖維素、纖維脂、特氟龍中的一種或多種，所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的厚度小于所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的厚度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)補(bǔ)償膜，其特征在于，所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的厚度范圍為0.5～3um，所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜比所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜厚0.2～1um。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補(bǔ)償膜，其特征在于，所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的組成材料包括硝化纖維素、纖維脂、特氟龍中的一種或多種，所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的主體材料包括硝化纖維素、纖維脂、特氟龍中的一種或多種，所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的摻雜材料包括氟化鎂、硅氧烷雜化膜中的一種或多種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)補(bǔ)償膜，其特征在于，所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的摻雜材料占所述主體材料的0.05％～0.5％。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補(bǔ)償膜，其特征在于，所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的組成材料包括硝化纖維素、纖維脂、特氟龍中的一種或多種，所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的主體材料包括硝化纖維素、纖維脂、特氟龍中的一種或多種，所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜的摻雜材料包括醋酸纖維脂類材料。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補(bǔ)償膜，其特征在于，所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜和第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜均包括透光層，所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜還包括遮光層，所述遮光層的透光率小于所述透光層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)補(bǔ)償膜，其特征在于，所述透光層的組成材料包括硝化纖維素、纖維脂、特氟龍中的一種或多種，所述遮光層的組成材料包括醋酸纖維脂類材料。

9.一種掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括承載部、遮光膜、支柱以及如權(quán)利要求1-8任意一項(xiàng)所述的光學(xué)補(bǔ)償膜；

所述遮光膜設(shè)置在所述承載部上；

所述支柱設(shè)置在所述遮光膜上，用于支撐所述光學(xué)補(bǔ)償膜。

10.一種曝光機(jī)，其特征在于，包括：光源、多個(gè)棱鏡以及設(shè)置在所述光源和所述多個(gè)棱鏡之間的如權(quán)利要求1-8任意一項(xiàng)所述的光學(xué)補(bǔ)償膜；

相鄰兩個(gè)所述棱鏡部分重疊設(shè)置，形成重疊部分棱鏡和非重疊部分棱鏡；

所述光學(xué)補(bǔ)償膜包括第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜和第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜；

所述光源，用于向所述光學(xué)補(bǔ)償膜發(fā)射光，所述光經(jīng)所述第一區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜后，照射到所述重疊部分棱鏡；所述光經(jīng)所述第二區(qū)域光學(xué)補(bǔ)償膜后，照射到所述非重疊部分棱鏡；

其中，所述光學(xué)補(bǔ)償膜設(shè)置在掩膜版中，所述掩膜版還包括承載部、遮光膜以及支柱；

所述遮光膜用于確定曝光區(qū)域，所述遮光膜設(shè)置在所述承載部上；

所述支柱設(shè)置在所述遮光膜上，用于支撐所述光學(xué)補(bǔ)償膜，所述遮光膜和所述光學(xué)補(bǔ)償膜相互分離。