[發(fā)明專利]一種均勻氣流激光剝蝕池及其應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711434961.3
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN107870118B
• 公開（公告）日: 2019-07-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 謝烈文
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學院地質(zhì)與地球物理研究所
• 主分類號: G01N1/44
• 分類號: G01N1/44;G01N27/62
• 代理公司: 北京格允知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609
• 代理人: 譚輝;周嬌嬌

1.一種均勻氣流激光剝蝕池，包括均勻氣流發(fā)生器、樣品室和樣品導(dǎo)出部，其特征在于：

所述均勻氣流發(fā)生器包括壁部、由所述壁部圍成的發(fā)生器內(nèi)腔、將所述發(fā)生器內(nèi)腔分隔成第一緩沖區(qū)和第二緩沖區(qū)的具有緩沖網(wǎng)區(qū)的單層緩沖篩板、由所述壁部植入所述第一緩沖區(qū)中的金屬氣管；

所述金屬氣管的外端為氣體入口，所述金屬氣管植入所述第一緩沖區(qū)中的部分設(shè)置有至少5個散氣孔，所述至少5個散氣孔被設(shè)置成使得從氣體入口導(dǎo)入的氣體朝向遠離所述單層緩沖篩板的一側(cè)散放；

所述第一緩沖區(qū)與第二緩沖區(qū)通過所述單層緩沖篩板氣體連通，所述樣品室與所述第二緩沖區(qū)通過多層篩板氣體連通，所述樣品導(dǎo)出部與所述樣品室流體連通；

所述樣品導(dǎo)出部設(shè)置有導(dǎo)出口。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻氣流激光剝蝕池，其特征在于：

所述單層緩沖篩板設(shè)置在所述發(fā)生器內(nèi)腔大致中央的位置；和/或所述緩沖網(wǎng)區(qū)分布在所述單層緩沖篩板大致中央的位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻氣流激光剝蝕池，其特征在于：

所述樣品室垂直連接在所述均勻氣流發(fā)生器大致中央的位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻氣流激光剝蝕池，其特征在于：

所述樣品導(dǎo)出部呈水滴狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻氣流激光剝蝕池，其特征在于：

所述均勻氣流發(fā)生器與所述樣品室呈長方體狀；

所述均勻氣流發(fā)生器的長度為50mm，寬度為8mm，并且高度為25mm；

所述樣品室的長度為50mm，寬度為3.6mm，并且高度為60mm；

所述樣品導(dǎo)出部的高度為50mm；

所述多層篩板的長度為50mm，寬度為3.6mm；

所述單層緩沖篩板上的緩沖網(wǎng)區(qū)的長度為50mm，寬度為3.6mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均勻氣流激光剝蝕池，其特征在于：

所述樣品室內(nèi)設(shè)置有多個用于容納樣品靶的樣品定位盤；

所述樣品靶由嵌有樣品的環(huán)氧樹脂板制成。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的均勻氣流激光剝蝕池，其特征在于：

所述樣品定位盤的深度與所述樣品靶的厚度相同；

所述樣品定位盤的直徑與所述樣品靶的直徑相同；和/或

所述樣品靶的直徑為1.77cm或者2.54cm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的均勻氣流激光剝蝕池，其特征在于：

所述樣品室內(nèi)設(shè)置3個樣品定位盤，分別是兩個直徑為1.77cm的樣品定位盤和一個直徑為2.54cm的樣品定位盤。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的均勻氣流激光剝蝕池，其特征在于：

所述樣品室的壁部設(shè)有用于向樣品定位盤垂直投射激光的激光投射窗。

10.一種均勻氣流激光剝蝕池在元素同位素組成分析中的應(yīng)用，其特征在于：

所述均勻氣流激光剝蝕池為權(quán)利要求1至9任一項所述的均勻氣流激光剝蝕池。