[發(fā)明專利]一種平面雙閃耀光柵的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711434100.5
• 申請(qǐng)日: 2017-12-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108227056B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-11-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 糜小濤;叢敏;于宏柱;李文昊;張善文;楊國(guó)軍;齊向東;巴音賀希格;唐玉國(guó)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號(hào): G02B5/18
• 分類號(hào): G02B5/18
• 代理公司: 44316 深圳市科進(jìn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 趙勍毅<國(guó)際申請(qǐng)>=<國(guó)際公布>=<進(jìn)入

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種制作平面雙閃耀光柵的方法，制作具有第一閃耀角的第一平面閃耀光柵以及具有第二閃耀角的第二平面閃耀光柵，通過(guò)第一閃耀角和第二閃耀角的兩塊平面閃耀光柵的拼接和復(fù)制，來(lái)實(shí)現(xiàn)平面雙閃耀光柵的制作，制作方法光柵效率高、波前質(zhì)量好，制作的雙閃耀光柵成品率高、易于實(shí)現(xiàn)，該平面雙閃耀光柵制作方法具有很強(qiáng)的靈活性，不受光柵閃耀角、光柵面積等因素的限制，所制作出的雙閃耀光柵擺脫了調(diào)整機(jī)構(gòu)的束縛，在存儲(chǔ)過(guò)程中光柵的位置和姿態(tài)不會(huì)再發(fā)生變化，在使用過(guò)程中也更加靈活和方便。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及衍射光柵制作技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種制作平面雙閃耀光柵的方法、平面雙閃耀光柵及平面多閃耀光柵。

背景技術(shù)

衍射光柵是一種高分辨率的色散光學(xué)元件，廣泛地應(yīng)用于單色儀、光譜分析、光通信技術(shù)等科學(xué)領(lǐng)域。

多縫光柵的光能主要集中在零級(jí)，而且不能把各種波長(zhǎng)分開(kāi)，而光柵的實(shí)際應(yīng)用中則需要將盡可能多的光能集中在某一特定的級(jí)次上。因此需要設(shè)計(jì)衍射光柵的槽型，使大部分光能量集中在設(shè)計(jì)的衍射級(jí)次上。從設(shè)計(jì)方向探測(cè)時(shí)，光譜的強(qiáng)度最大，這種現(xiàn)象稱為閃耀(blaze)，這種光柵稱為閃耀光柵。閃耀使得光柵的衍射效率得到極大的提高。但是在寬波段上，如從紫外到紅外波段都想獲得較高的衍射效率，還是很困難，因此，出現(xiàn)了雙閃耀光柵產(chǎn)品，以實(shí)現(xiàn)寬波段內(nèi)，均有較高的，均勻的衍射效率。雙閃耀光柵由于具有寬波段的高效率優(yōu)勢(shì)，具有非常廣闊的市場(chǎng)前景。

目前，雙閃耀光柵的主要制作方法主要包括以下兩種：一種是機(jī)械刻劃制作方法，中國(guó)發(fā)明專利“一種雙閃耀光柵的制作方法”，申請(qǐng)?zhí)枺篊N201310561094.5，該方法改進(jìn)了閃耀區(qū)域間精密過(guò)渡時(shí)的刻刀更換方法，但是機(jī)械刻劃制作雙閃耀光柵很容易受機(jī)器精度的影響導(dǎo)致銜接位置不適進(jìn)而產(chǎn)生刻線誤差，無(wú)法保證波前質(zhì)量，降低了雙閃耀光柵的理論效率，另外，不同刻劃面積和刻線密度均需要一套刻刀更換結(jié)構(gòu)，制作雙閃耀光柵成本大周期長(zhǎng)；另一種方法是利用全息方法制作雙閃耀光柵，中國(guó)發(fā)明專利“一種全息雙閃耀光柵的制作方法”，申請(qǐng)?zhí)枺篊N201110318455.4，該方法理論上便于實(shí)現(xiàn)，但是全息方法刻蝕的光柵槽型難以控制，刻槽粗糙，衍射效率低。因此，有必要尋求一種新的方法來(lái)制作平面雙閃耀光柵，進(jìn)而解決上述問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種制作平面雙閃耀光柵的方法、平面雙閃耀光柵及平面多閃耀光柵，通過(guò)第一閃耀角和第二閃耀角的兩塊平面閃耀光柵的拼接和復(fù)制，來(lái)實(shí)現(xiàn)平面雙閃耀光柵的制作，制作方法光柵效率高、波前質(zhì)量好，制作的雙閃耀光柵成品率高、易于實(shí)現(xiàn)，該平面雙閃耀光柵制作方法具有很強(qiáng)的靈活性，不受光柵閃耀角、光柵面積等因素的限制。

本發(fā)明提供一種制作平面雙閃耀光柵的方法，所述方法包括：

制作具有第一閃耀角的第一平面閃耀光柵以及具有第二閃耀角的第二平面閃耀光柵，其中第一閃耀角和第二閃耀角不同；

將所述第一平面閃耀光柵和所述第二平面閃耀光柵分別進(jìn)行鍍油膜及鋁膜并放置于拼接機(jī)構(gòu)；

調(diào)整所述第一平面閃耀光柵和所述第二平面閃耀光柵在所述拼接機(jī)構(gòu)上的位置和姿態(tài)使得五個(gè)維度的拼接誤差小于允許值后進(jìn)行固定，所述五個(gè)維度的拼接誤差為所述第一平面閃耀光柵和所述第二平面閃耀光柵之間的三維角度誤差及兩維位移誤差，其中所述三維角度誤差包括繞柵線方向轉(zhuǎn)動(dòng)誤差、繞色散方向轉(zhuǎn)動(dòng)誤差、繞光柵法線方向轉(zhuǎn)動(dòng)誤差；所述兩維位移誤差包括縱向位移誤差、橫向位移誤差；

將拼接后的所述第一平面閃耀光柵和所述第二平面閃耀光柵涂布樹(shù)脂膠；

將雙閃耀光柵基底放置在樹(shù)脂膠上并對(duì)正所述第一平面閃耀光柵和所述第二平面閃耀光柵；

待所述樹(shù)脂膠固化后將所述雙閃耀光柵基底與所述第一平面閃耀光柵和所述第二平面閃耀光柵進(jìn)行分離后得到平面雙閃耀光柵。