[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體器件的壓力均衡制作參數(shù)優(yōu)化方法及制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711432765.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108170944B | 公開(公告)日: | 2021-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林仲康;田麗紛;韓榮剛;石浩;張朋;李現(xiàn)兵;張喆;武偉;唐新靈;王亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 全球能源互聯(lián)網(wǎng)研究院有限公司;國(guó)網(wǎng)山東省電力公司電力科學(xué)研究院;國(guó)家電網(wǎng)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06F30/23 | 分類號(hào): | G06F30/23;G06F111/06;G06F113/18;G06F119/14 |
| 代理公司: | 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250 | 代理人: | 李博洋 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 半導(dǎo)體器件 壓力 均衡 制作 參數(shù) 優(yōu)化 方法 制作方法 | ||
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種半導(dǎo)體器件的壓力均衡制作參數(shù)優(yōu)化方法及制作方法,該半導(dǎo)體器件的壓力均衡制作參數(shù)優(yōu)化方法包括:根據(jù)并聯(lián)多芯片子模組的外輪廓確定半導(dǎo)體器件的電極蓋板的形狀,根據(jù)半導(dǎo)體器件參數(shù)建立半導(dǎo)體器件的有限元模型,并對(duì)有限元模型進(jìn)行有限元分析,從而得到有限元分析結(jié)果,然后根據(jù)半導(dǎo)體器件的電極蓋板的形狀及有限元分析結(jié)果,確定半導(dǎo)體器件的制作參數(shù)。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例提供的半導(dǎo)體器件的壓力均衡制作參數(shù)優(yōu)化方法得到制作參數(shù),利用該制作參數(shù)制作半導(dǎo)體器件,實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體器件的壓力均衡,提高了半導(dǎo)體器件的電氣特性和可靠性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及功率半導(dǎo)體器件封裝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種半導(dǎo)體器件的壓力均衡制作參數(shù)優(yōu)化方法及制作方法。
背景技術(shù)
壓接型功率半導(dǎo)體器件,具有功率密度大、雙面散熱、易于串聯(lián)以及可靠性高等優(yōu)點(diǎn),已逐步應(yīng)用于電力系統(tǒng)的高壓直流輸電、電力機(jī)車等高壓、大功率應(yīng)用場(chǎng)合。隨著智能電網(wǎng)的發(fā)展,尤其是未來(lái)全球能源互聯(lián)網(wǎng)的構(gòu)建,壓接型功率半導(dǎo)體器件在電網(wǎng)中的需求量將會(huì)越來(lái)越大,這對(duì)壓接型大功率半導(dǎo)體器件的性能和可靠性提出了嚴(yán)格的要求。
壓接型功率半導(dǎo)體器件通過(guò)外部施加壓力將內(nèi)部各個(gè)組件組裝在一起,然而各個(gè)零部件在加工過(guò)程中可能會(huì)存在一定的加工誤差,芯片的制造過(guò)程也會(huì)存在一定的厚度差,這種零部件的加工誤差和芯片的厚度差在組裝時(shí)會(huì)出現(xiàn)累積,如果不加以控制,在大功率模塊多芯片并聯(lián)封裝過(guò)程中,會(huì)導(dǎo)致各芯片的受力出現(xiàn)較大偏差,部分芯片可能會(huì)承受過(guò)大的壓力導(dǎo)致發(fā)生脆性斷裂而損壞,或者部分芯片所受壓力過(guò)小而引起接觸不良,導(dǎo)致接觸熱阻和接觸電阻增大,從而影響器件的電氣特性和可靠性。因此,如何實(shí)現(xiàn)功率半導(dǎo)體器件在封裝過(guò)程中的壓力均衡成為亟待解決的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述的分析,本發(fā)明實(shí)施例提出了一種半導(dǎo)體器件的壓力均衡制作參數(shù)優(yōu)化方法及制作方法,用以實(shí)現(xiàn)壓接型功率半導(dǎo)體器件在封裝過(guò)程中的壓力均衡。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
根據(jù)第一方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種半導(dǎo)體器件的壓力均衡制作參數(shù)優(yōu)化方法,該半導(dǎo)體器件的壓力均衡制作參數(shù)優(yōu)化方法包括:根據(jù)并聯(lián)多芯片子模組的外輪廓確定半導(dǎo)體器件的電極蓋板的形狀,電極蓋板包括位于半導(dǎo)體器件下部的第一電極蓋板和位于半導(dǎo)體器件上部的第二電極蓋板;獲取半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體器件參數(shù);根據(jù)半導(dǎo)體器件參數(shù)建立半導(dǎo)體器件的有限元模型,對(duì)有限元模型進(jìn)行有限元分析,得到有限元分析結(jié)果;根據(jù)半導(dǎo)體器件的電極蓋板的形狀及有限元分析結(jié)果,確定半導(dǎo)體器件的制作參數(shù)。
結(jié)合第一方面,在第一方面第一實(shí)施方式中,半導(dǎo)體器件參數(shù)包括:電極蓋板的第一電極尺寸。
結(jié)合第一方面第一實(shí)施方式,在第一方面第二實(shí)施方式中,根據(jù)半導(dǎo)體器件參數(shù)建立半導(dǎo)體器件的有限元模型,對(duì)有限元模型進(jìn)行有限元分析,得到有限元分析結(jié)果,包括:根據(jù)多個(gè)第一電極尺寸建立半導(dǎo)體器件的幾何模型;對(duì)幾何模型劃分映射網(wǎng)格,生成半導(dǎo)體器件的有限元模型;對(duì)有限元模型加載邊界條件;對(duì)加載邊界條件后的有限元模型進(jìn)行有限元分析,得到半導(dǎo)體器件的多個(gè)第一電極尺寸對(duì)應(yīng)的多個(gè)芯片最大受力偏差;根據(jù)多個(gè)第一電極尺寸及多個(gè)芯片最大受力偏差,建立第一電極尺寸和芯片最大受力偏差的關(guān)系曲線,作為有限元分析結(jié)果。
結(jié)合第一方面第二實(shí)施方式,在第一方面第三實(shí)施方式中,對(duì)加載邊界條件后的有限元模型進(jìn)行有限元分析,得到半導(dǎo)體器件的多個(gè)第一電極尺寸對(duì)應(yīng)的多個(gè)芯片最大受力偏差,包括:對(duì)加載邊界條件后的各第一電極尺寸對(duì)應(yīng)的有限元模型,執(zhí)行:采集各芯片上表面的節(jié)點(diǎn)力;分別對(duì)各芯片上表面的節(jié)點(diǎn)力求和,得到各芯片的平均壓力;根據(jù)各芯片的平均壓力計(jì)算半導(dǎo)體器件的芯片最大受力偏差。
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