[發明專利]用于操作添加式地制造三維物體的設備的方法

在審

• 申請號: 201711429548.8
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN109664503A
• 公開（公告）日: 2019-04-23
• 發明（設計）人: F·皮爾茲韋格;M·利珀特
• 申請（專利權）人: CL產權管理有限公司
• 主分類號: B29C64/153
• 分類號: B29C64/153;B29C64/386;B29C64/393;B33Y50/00;B33Y50/02
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 吳鵬;金林輝

1.一種用于操作通過依次逐層地選擇性照射和固化由能借助能量束(4)固化的建造材料(3)構成的層來添加式地制造三維物體(2)的設備(1)的方法，其特征在于，基于由機器執行的確定程序自動重復地確定所述設備(1)的至少一個過程參數、特別是關鍵性能參數，其中所確定的所述至少一個過程參數被存儲并且相對于至少一個評估標準自動地被評估。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一個評估標準涉及所述至少一個過程參數的長期表現和/或涉及所述設備(1)的校準狀態。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，根據至少一個啟動參數來執行所述自動重復的確定，和/或根據所確定的所述至少一個過程參數來調整至少一個過程參數。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述至少一個啟動參數包括以下參數中的至少一個：

-時間參數，特別地涉及所述至少一個過程參數的兩次自動確定之間的時間間隔，優選為每天或每周或每月，

-事件參數，特別地依賴于至少一個過程步驟，優選地在制造過程的開始和/或結束時以及/或者在工具更換時的至少一個過程步驟，

-設備(1)的當前和/或未來的工作負載，

-操作者輸入。

5.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于，所述過程參數包括以下參數中的至少一個：

-照射參數，特別地是射束參數，優選為光斑尺寸和/或掃描速度和/或射束功率和/或波長和/或焦距和/或定位精度，

-設備(1)的至少一個部件——特別是承載裝置(7)——的移動速度，

-定位精度，特別是承載裝置(7)的定位精度。

6.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于，根據所確定的所述至少一個過程參數和至少一個基準參數來評估所述設備(1)的校準狀態。

7.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于，所述至少一個過程參數和/或被評估的所述至少一個校準狀態被存儲在存儲單元(9)中。

8.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于，在限定的時間段——特別是在一個月和/或一年——內存儲和評估所述校準狀態，其中評估在該限定的時間段內所述至少一個過程參數和/或校準狀態的變化。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，比較在所述時間段的相應部分中評估的、特別是在所述時間段的同一周或同一月中評估的至少兩個校準狀態和/或在所述時間段的相應部分中確定的、特別是在所述時間段的同一周或同一月中確定的至少兩個過程參數，其中，生成變化信息。

10.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于，設置至少一個預設值，所述預設值限定所述至少一個啟動參數和/或要被確定的所述至少一個過程參數和/或要被調整的所述至少一個過程參數。

11.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，所述預設值限定了用于所述至少一個過程參數的至少一個容限。

12.根據權利要求8或9所述的方法，其特征在于，設置多個預設值，其中一個預設值能根據制造過程來選擇，特別是根據要制造的物體(2)來選擇。

13.根據前述權利要求之一所述的方法，其特征在于包括以下步驟：

-基于啟動參數啟動確定程序和/或校準程序，

-將設備(1)自動設定在確定模式中，

-確定至少一個過程參數，

-存儲所確定的所述至少一個過程參數，

-評估校準狀態，

-根據校準狀態調整至少一個過程參數。