[發明專利]一種X射線強度準無損二維成像裝置

有效

• 申請號: 201711426316.7
• 申請日: 2017-12-26
• 公開（公告）號: CN107870346B
• 公開（公告）日: 2023-09-19
• 發明（設計）人: 任寬;江少恩;曹柱榮;姚立;謝旭飛;余波;陳進文;王哲斌;王峰;胡智民;劉慎業;徐濤;趙陽;劉偉;楊志文;董建軍;韋敏習;馬波;黃天暄;張繼彥;丁永坤
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: G01T1/29
• 分類號: G01T1/29;G01T1/16
• 代理公司: 中國工程物理研究院專利中心 51210
• 代理人: 翟長明;韓志英

1.?一種X射線強度準無損二維成像裝置，其特征在于：所述的成像裝置適用于50eV~80keV?的X射線，包括同軸心設置的可調光闌（2）、輔助瞄準裝置（3）、X射線成像器件（4）、支撐與調節機構（5）、屏蔽筒（6）和多重X射線成像板（7）；

所述的支撐與調節機構（5）為水平放置的圓筒，輔助瞄準裝置（3）卡在圓筒的靠前位置并面向靶（1），X射線成像器件（4）位于輔助瞄準裝置（3）中心；所述的可調光闌（2）為圓環形并位于輔助瞄準裝置（3）的前方，與支撐與調節機構（5）的圓筒前端面配裝；所述的支撐與調節機構（5）通過位于圓筒后部的調節器調節輔助瞄準裝置（3）和X射線成像器件（4）的光學指向；所述的屏蔽筒（6）的前端與支撐與調節機構（5）密封連接，后端與多重X射線成像板（7）密封連接，屏蔽筒（6）的中間部分從調節機構（5）到多重X射線成像板（7）之間圓滑過渡；

所述的成像裝置的工作過程如下：

靶（1）發出的可見光在可調光闌（2）打開狀態下，通過輔助瞄準裝置（3）和支撐與調節機構（5）實現輔助X射線成像器件（4）對靶（1）的瞄準；靶（1）發出的X射線在可調光闌（2）關閉狀態下，經過X射線成像器件（4）成像到多重X射線成像板（7）上；通過計算機對多重X射線成像板（7）上的多重X光像進行數據提取、轉換和疊加處理，獲得強度準無損圖像；所述的多重X射線成像板（7）的成像板數量大于等于3，并且小于等于8，成像板型號為MS、SR或TR中的一種；所述的多重X射線成像板（7）的成像板貼在一起，放置在X射線成像器件（4）的成像位置上；所述的50eV~80keV的?X射線為能量為50eV~80keV的單能或混合X射線；

將各圖灰度值轉換成PSL，而后將各圖的PSL相加，再將這些求和后的PSL轉換回灰度值進行顯示。

2.根據權利要求1所述的X射線強度準無損二維成像裝置，其特征在于：所述的靶（1）為慣性約束聚變ICF使用的腔靶、球靶或平面靶中的一種。

3.根據權利要求1所述的X射線強度準無損二維成像裝置，其特征在于：所述的可調光闌（2）在關閉狀態下，限光孔徑大于靶（1）尺寸，并且小于X射線成像器件（4）邊界尺寸。

4.根據權利要求1所述的X射線強度準無損二維成像裝置，其特征在于，所述的輔助瞄準裝置（3）為雙光路瞄準裝置、透鏡瞄準裝置或多節限位瞄準裝置中的一種。

5.根據權利要求1所述的X射線強度準無損二維成像裝置，其特征在于：所述的X射線成像器件（4）為慣性約束聚變ICF中用于X射線成像的針孔及其陣列、狹縫及其陣列、異形孔及其陣列、KB鏡或彎晶中的一種。

6.根據權利要求1所述的X射線強度準無損二維成像裝置，其特征在于：所述的支撐與調節機構（5）在垂直于輔助瞄準裝置（3）的軸線的平面上進行基于平面的X軸和Y軸的平面位移，和基于平面的X軸和Y軸的翻轉。

7.根據權利要求1所述的X射線強度準無損二維成像裝置，其特征在于：所述的屏蔽筒（6）材料為鉛，筒壁厚度大于5mm。