[發明專利]一種銀基復合光催化劑降解印染廢水的處理工藝在審
| 申請號: | 201711424981.2 | 申請日: | 2017-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN107935103A | 公開(公告)日: | 2018-04-20 |
| 發明(設計)人: | 李雪琴 | 申請(專利權)人: | 李雪琴 |
| 主分類號: | C02F1/30 | 分類號: | C02F1/30;B01J23/50;C02F103/30;C02F101/30 |
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| 地址: | 251700 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 復合 光催化劑 降解 印染 廢水 處理 工藝 | ||
1.一種可見光降解印染廢水的處理工藝,其特征在于,包括如下步驟:將銀納米團簇-銀納米粒子/TiO2/石墨烯復合光催化劑加入到一定濃度的印染廢水中,充分攪拌并調節溶液pH=3.5~4.5,將混合溶液轉入玻璃瓶中,黑暗環境中暗反應0.5~1h,然后在500W~600W的氙燈下進行常溫、攪拌可見光催化降解反應0.5~2.5h。
2.如權利要求1所述的可見光降解印染廢水的處理工藝,其特征在于,所述印染廢水中含有酸性大紅GR。
3.如權利要求1所述的可見光降解印染廢水的處理工藝,其特征在于,所述的銀納米團簇-銀納米粒子/TiO2/石墨烯復合光催化劑的制備方法包括如下步驟:在250~350mg石墨粉、1.5~2.5g硝酸鈉的混合溶液中,加入15~25mL 98wt%的濃硫酸,在<5℃的溫度下攪拌,讓其在燒杯中反應1.5~2.0 h;將高錳酸鉀研磨成粉末,然后在0.5h內,于燒杯中加入1.5~2.0g粉末,在<5℃中反應1.5~2.0h;將燒杯放在恒溫箱中升溫到45~50℃,然后恒溫1.5~2h,恒溫結束后向燒杯中加入40~50mL去離子水,再將溫度升至80~90℃,恒溫10~20min;然后把燒杯中的溶液冷卻到室內溫度,加入80~120mL去離子水稀釋,溶液變為亮黃色,之后再加入10~15mL 35wt%的過氧化氫溶液;然后進行過濾,將濾渣用300~400mL 5wt%的鹽酸洗滌,用抽氣泵抽干重復洗滌三次,然后再用去離子水洗滌三次,最后用透析袋透析兩天,之后放入真空干燥箱內在80℃下干燥20h,最后研磨粉末得到氧化石墨烯。
4.如權利要求1所述的可見光降解印染廢水的處理工藝,其特征在于,所述的銀納米團簇-銀納米粒子/TiO2/石墨烯復合光催化劑的制備方法包括如下步驟:取上述制得的氧化石墨烯20~30mg,再加入20~30mL去離子水,利用超聲波處理器在60W功率下超聲處理30~60min,便可得到質量濃度為1mg/mL的氧化石墨烯溶液;將5.0~6.0g十六烷基三甲基溴化銨溶解在5~20mL正戊醇和50~65mL正己烷的混合溶液中,得到十六烷基三甲基氯化銨溶液;將十六烷基三甲基氯化銨溶液加入到氧化石墨烯溶液的同時,在室溫下攪拌30min后,倒入高壓反應釜中,放置在烘箱中,200℃恒溫6h;將恒溫后的產物放入旋轉蒸發器中減壓處理并沉淀,除去有機溶劑,得到的沉淀反復用去離子水和無水乙醇洗滌2~5次,除去表面活性劑和其他雜質,得到的最終產物放置在80℃條件下干燥1~4h,即得到石墨烯-納米二氧化鈦復合物。
5.如權利要求1所述的可見光降解印染廢水的處理工藝,其特征在于,所述的銀納米團簇-銀納米粒子/TiO2/石墨烯復合光催化劑的制備方法包括如下步驟:將硝酸銀溶于水中,加還原型谷胱甘肽攪拌至無色,然后于70℃下回流24h,加入乙腈純化后,離心、洗滌、干燥,得到固體銀納米團簇,將所得固體銀納米團簇重新分散到水中,得到銀納米團簇溶液;將石墨烯-納米二氧化鈦復合物和銀納米團簇溶液在弱酸性條件下混合攪拌4h,離心、洗滌、干燥,得到銀納米團簇/TiO2/石墨烯;將其置于真空環境中、犧牲劑存在的條件下進行光照,得到所述銀納米團簇-銀納米粒子/TiO2/石墨烯復合光催化劑。
6.如權利要求5所述的可見光降解印染廢水的處理工藝,其特征在于,硝酸銀與還原型谷胱甘肽的重量比為1:1。
7.如權利要求5所述的可見光降解印染廢水的處理工藝,其特征在于,弱酸條件為pH值為4。
8.如權利要求5所述的可見光降解印染廢水的處理工藝,其特征在于,所述石墨烯-納米二氧化鈦復合物和固體銀納米團簇的重量比為100:2~100:8。
9.如權利要求5所述的可見光降解印染廢水的處理工藝,其特征在于,所述光照的波長為300nm~800nm,照射時間為3~60h,以利用光照條件的不同使銀納米團簇經不同程度的原位轉化,得到具有不同粒徑的銀納米粒子。
10.如權利要求5所述的可見光降解印染廢水的處理工藝,其特征在于,所述犧牲劑為乳酸。
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