[發明專利]一種采用電解法制備二氧化錫漿料的工藝

在審

• 申請號: 201711423159.4
• 申請日: 2017-12-25
• 公開（公告）號: CN109957825A
• 公開（公告）日: 2019-07-02
• 發明（設計）人: 王文軍;劉敏;張天芳
• 申請（專利權）人: 株洲冶煉集團股份有限公司;王文軍
• 主分類號: C25D11/34
• 分類號: C25D11/34;C25B1/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種采用電解法制備二氧化錫漿料的工藝，其特征在于，包括如下步驟：

（1）電解：以金屬錫為陽極，在電解液中加入陰離子表面活性劑進行電解；

（2）煅燒：電解完成后將電解產物進行洗滌、烘干、煅燒；

（3）超細磨分散處理：對所得煅燒產物進行超細磨分散處理，即得到所述二氧化錫漿料；其中，在電解過程中，所述電解液的pH值控制在7～9。

2.根據權利要求1所述采用電解法制備二氧化錫漿料的工藝，其特征在于，所述電解液為氯化銨、硝酸銨或者硫酸銨，電解液濃度為0.1～3.0mol/L。

3.根據權利要求1所述采用電解法制備二氧化錫漿料的工藝，其特征在于，電解過程中，向電解液中逐步加入陰離子表面活性劑，所述陰離子表面活性劑選自木質磺酸鹽、硬質酸鈉、聚甲基丙烯酰胺、聚丙烯酸銨、聚乙二醇、聚丙烯酸乙脂中的一種或幾種， 電解過程中陰離子表面活性劑質量為陽極金屬錫質量的0.01%～1%。

4.根據權利要求1所述采用電解法制備二氧化錫漿料的工藝，其特征在于，在電解過程中采用電解液循環的方式進行電解，并在電解過程中保持對電解液進行攪拌。

5.根據權利要求1所述采用電解法制備二氧化錫漿料的工藝，其特征在于，電解產物洗滌完畢干燥后，以1～5℃/分鐘的升溫速度升溫至400℃~900℃進行煅燒，保溫1~4小時。

6.根據權利要求1所述采用電解法制備二氧化錫漿料的工藝，其特征在于，所得煅燒產物為四方體二氧化錫，所述煅燒產物的一次粒徑為0.03～0.08um，所述煅燒產物的BET比表面積為5~10m²/g。

7.根據權利要求1所述采用電解法制備二氧化錫漿料的工藝，其特征在于，超細磨分散處理過程是將分散劑、純水加入煅燒產物中，再采用直徑為0.3～2.0mm的氧化鋯球體對添加有分散劑和純水的煅燒產物進行超細磨，超細磨的線速度為5~11米/秒。

8.根據權利要求7所述采用電解法制備二氧化錫漿料的工藝，其特征在于，所述分散劑溶劑為聚丙烯酸、聚丙烯酸銨、丙烯酸銨、氨水、聚甲基丙烯酸酰胺、聚乙二醇的一種或幾種。