[發明專利]一種印章鑒別方法及裝置有效
| 申請號: | 201711418942.1 | 申請日: | 2017-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN108197642B | 公開(公告)日: | 2021-11-30 |
| 發明(設計)人: | 高鵬超;陳兆亮;王冠軍;梁延灼 | 申請(專利權)人: | 山東浪潮云服務信息科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/62 | 分類號: | G06K9/62;G06T7/11;G06T7/30 |
| 代理公司: | 濟南信達專利事務所有限公司 37100 | 代理人: | 李世喆 |
| 地址: | 250100 山東省濟南市高*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 印章 鑒別方法 裝置 | ||
1.一種印章鑒別方法,其特征在于,包括:
提取目標圖像中的紅色區域以形成第一圖像;
從所述第一圖像中分割出包括有待鑒別印章的第二圖像;
根據所述第二圖像以及預設的標準印章圖像鑒別所述待鑒別印章,其中,所述待鑒別印章與所述標準印章圖像相對應;
所述提取目標圖像中的紅色區域以形成第一圖像,包括:
將所述目標圖像從RGB顏色空間轉換為HSV顏色空間;
針對于所述目標圖像中的每一個像素點,確定當前像素點對應的H值、S值以及V值;判斷所述當前像素點對應的所述H值是否在(0,8)∪(156,180)的范圍內、所述S值是否在(43,255)的范圍內以及所述V值是否在(43,255)的范圍內;如果均判斷為是,則將所述當前像素點設置為白像素點;否則,將所述當前像素點設置為黑像素點;
各個所述白像素點和各個所述黑像素點形成所述第一圖像;
和/或,
所述從所述第一圖像中分割出包括有待鑒別印章的第二圖像,包括:
根據所述第一圖像中的像素點分布,形成若干個輪廓;
確定外接矩形為正方形的至少一個目標輪廓;
針對于每一個所述目標輪廓,計算當前目標輪廓的面積,計算所述當前目標輪廓外接正方形的內接圓的面積,計算所述當前目標輪廓的面積與所述內接圓的面積之間的差值;
從計算出的各個所述差值中確定絕對值最小的目標差值,其中,與所述目標差值對應的所述目標輪廓為所述待鑒別印章最外層的輪廓;
從所述第一圖像中分割出與所述目標差值對應的所述目標輪廓的外接正方形形成的所述第二圖像;
所述根據所述第二圖像以及預設的標準印章圖像鑒別所述待鑒別印章,包括:
計算所述第二圖像和所述標準印章圖像分別對應的HU矩特征;
計算兩個所述HU矩特征之間的歐式距離;
確定計算出的所述歐式距離是否高于預設的距離閾值;
當確定計算出的所述歐式距離高于所述距離閾值時,確定所述待鑒別印章為假印章;
進一步包括:
當確定計算出的所述歐式距離不高于所述距離閾值時,執行:
將所述第二圖像和所述標準印章圖像分別轉換為極坐標圖像;
確定兩個所述極坐標圖像的和圖像;
確定所述和圖像與每一個所述極坐標圖像的差圖像;
針對于兩個所述差圖像中的每一個差圖像,確定所述差圖像中滿足條件一的行數以及滿足條件二的列數;其中,所述條件一為:
其中,ri表征所述差圖像中第i行中的不同點個數;C表征所述差圖像中的總列數;a表征第一相似度閾值;
所述條件二為:
其中,ci表征所述差圖像中第j列中的不同點個數;R表征所述差圖像中的總行數;a表征所述第一相似度閾值;
根據公式一計算所述第二圖像和所述標準印章圖像之間的相似度,其中,所述公式一為:
其中,S表征所述第二圖像和所述標準印章圖像之間的相似度;n表征其中一個所述差圖像中滿足所述條件一的行數;m表征n對應的所述差圖像中滿足所述條件二的列數;u表征另一個所述差圖像中滿足所述條件一的行數;v表征u對應的所述差圖像中滿足所述條件二的列數;R表征所述差圖像中的總行數;C表征所述差圖像中的總列數;α、β、η、ζ、p以及q均為常數;
判斷計算出的所述相似度是否低于預設的第二相似度閾值;
如果是,則確定所述待鑒別印章為假印章;否則,確定所述待鑒別印章為真印章;
在所述將所述第二圖像和所述標準印章圖像分別轉換為極坐標圖像之前,進一步包括:
確定所述待鑒別印章的厚度以及圓心;所述厚度為所述待鑒別印章中的外層圓和內層圓之間的半徑差;
以所述厚度為單位,從所述第二圖像的外邊緣向內依次形成若干個圓;
從形成的所述若干個圓中提取相鄰的兩個目標圓之間的環形區域,并對所述環形區域中的像素點取反以形成第三圖像;
根據所述第三圖像中的像素點分布,形成若干個輪廓;
確定每一個所述輪廓的最小外接矩形;
從各個所述最小外接矩形中確定面積最大的目標最小外接矩形;
根據所述目標最小外接矩形的中心以及所述圓心,確定所述待鑒別印章的旋轉角度;
根據所述旋轉角度旋轉所述第二圖像;
所述將所述第二圖像和所述標準印章圖像分別轉換為極坐標圖像,包括:
將擺正后的所述第二圖像以及所述標準印章圖像分別轉換為所述極坐標圖像。
2.一種印章鑒別裝置,其特征在于,包括:紅色區域提取單元、圖像分割單元以及印章鑒別單元,其中,
所述紅色區域提取單元,用于提取目標圖像中的紅色區域以形成第一圖像;
所述圖像分割單元,用于從所述第一圖像中分割出包括有待鑒別印章的第二圖像;
所述印章鑒別單元,用于根據所述第二圖像以及預設的標準印章圖像鑒別所述待鑒別印章,其中,所述待鑒別印章與所述標準印章圖像相對應;
所述紅色區域提取單元,用于將所述目標圖像從RGB顏色空間轉換為HSV顏色空間;針對于所述目標圖像中的每一個像素點,確定當前像素點對應的H值、S值以及V值;判斷所述當前像素點對應的所述H值是否在(0,8)∪(156,180)的范圍內、所述S值是否在(43,255)的范圍內以及所述V值是否在(43,255)的范圍內;如果均判斷為是,則將所述當前像素點設置為白像素點;否則,將所述當前像素點設置為黑像素點;各個所述白像素點和各個所述黑像素點形成所述第一圖像;
和/或,
所述圖像分割單元,用于根據所述第一圖像中的像素點分布,形成若干個輪廓;確定外接矩形為正方形的至少一個目標輪廓;針對于每一個所述目標輪廓,計算當前目標輪廓的面積,計算所述當前目標輪廓外接正方形的內接圓的面積,計算所述當前目標輪廓的面積與所述內接圓的面積之間的差值;從計算出的各個所述差值中確定絕對值最小的目標差值,其中,與所述目標差值對應的所述目標輪廓為所述待鑒別印章最外層的輪廓;從所述第一圖像中分割出與所述目標差值對應的所述目標輪廓的外接正方形形成的所述第二圖像;
所述印章鑒別單元,用于計算所述第二圖像和所述標準印章圖像分別對應的HU矩特征;計算兩個所述HU矩特征之間的歐式距離;確定計算出的所述歐式距離是否高于預設的距離閾值;當確定計算出的所述歐式距離高于所述距離閾值時,確定所述待鑒別印章為假印章;
所述印章鑒別單元,進一步用于當確定計算出的所述歐式距離不高于所述距離閾值時,執行:將所述第二圖像和所述標準印章圖像分別轉換為極坐標圖像;確定兩個所述極坐標圖像的和圖像;確定所述和圖像與每一個所述極坐標圖像的差圖像;針對于兩個所述差圖像中的每一個差圖像,確定所述差圖像中滿足條件一的行數以及滿足條件二的列數;根據公式一計算所述第二圖像和所述標準印章圖像之間的相似度;判斷計算出的所述相似度是否低于預設的第二相似度閾值;如果是,則確定所述待鑒別印章為假印章;否則,確定所述待鑒別印章為真印章;其中,
所述條件一為:
其中,ri表征所述差圖像中第i行中的不同點個數;C表征所述差圖像中的總列數;a表征第一相似度閾值;
所述條件二為:
其中,ci表征所述差圖像中第j列中的不同點個數;R表征所述差圖像中的總行數;a表征所述第一相似度閾值;
所述公式一為:
其中,S表征所述第二圖像和所述標準印章圖像之間的相似度;n表征其中一個所述差圖像中滿足所述條件一的行數;m表征n對應的所述差圖像中滿足所述條件二的列數;u表征另一個所述差圖像中滿足所述條件一的行數;v表征u對應的所述差圖像中滿足所述條件二的列數;R表征所述差圖像中的總行數;C表征所述差圖像中的總列數;α、β、η、ζ、p以及q均為常數;
進一步包括:印章配準單元;
所述印章配準單元,用于在所述印章鑒別單元將所述第二圖像和所述標準印章圖像分別轉換為極坐標圖像之前,確定所述待鑒別印章的厚度以及圓心;所述厚度為所述待鑒別印章中的外層圓和內層圓之間的半徑差;以所述厚度為單位,從所述第二圖像的外邊緣向內依次形成若干個圓;從形成的所述若干個圓中提取相鄰的兩個目標圓之間的環形區域,并對所述環形區域中的像素點取反以形成第三圖像;根據所述第三圖像中的像素點分布,形成若干個輪廓;確定每一個所述輪廓的最小外接矩形;從各個所述最小外接矩形中確定面積最大的目標最小外接矩形;根據所述目標最小外接矩形的中心以及所述圓心,確定所述待鑒別印章的旋轉角度;根據所述旋轉角度旋轉所述第二圖像;
所述印章鑒別單元,用于將所述印章配準單元擺正后的所述第二圖像以及所述標準印章圖像分別轉換為所述極坐標圖像。
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