[發明專利]一種陰極電子增強裝置

在審

• 申請號: 201711418089.3
• 申請日: 2017-12-25
• 公開（公告）號: CN109962003A
• 公開（公告）日: 2019-07-02
• 發明（設計）人: 李建;童洪輝;王坤;但敏;金凡亞
• 申請（專利權）人: 核工業西南物理研究院;成都理工大學工程技術學院
• 主分類號: H01J43/10
• 分類號: H01J43/10
• 代理公司: 核工業專利中心 11007
• 代理人: 劉昕宇

本發明屬于增強裝置，具體涉及一種陰極電子增強裝置。一種陰極電子增強裝置，由電源、陰極電子發射源和金屬薄板組組成，其中金屬薄板組設置在陰極電子發射源的電子發射端，金屬薄板組由若干長條形金屬薄板組成，金屬薄板組的截面呈鋸齒狀。本發明的顯著效果是：本申請所述的一種陰極電子增強裝置通過注入有銫、鎂等金屬的金屬薄板組在一定電壓作用下，將陰極出射的電子獲得加速，撞擊金屬薄板組表面而產生二次電子發射，實現電子倍增，從而實現陰極電子發射電流的提高。同時金屬薄板組的形狀可以調節，可以對陰極電子發射源的出射電子產生規范作用，實現聚焦等電子光學作用。

技術領域

本發明屬于增強裝置，具體涉及一種陰極電子增強裝置。

背景技術

陰極電子發射廣泛地應用于顯示技術、照明技術、X射線管、負離子產生等領域。當一定能量的陰極電子轟擊金屬材料表面時，如果電子能量足夠大，將會把材料表面的電子撞擊下來，從而產生電子倍增，實現陰極電子增強，這就是二次電子發射。為了提高材料的二次電子發射系數，可以通過注入或涂覆的方法在材料表面制備一層低場致電子發射層。

陰極電子源可以分為：熱電子發射源和場致電子發射源。熱電子發射是目前應用最廣泛、技術最成熟的技術。相對來說，場致電子發射源具有體積更小、壽命更長、快速響應、效率更高等優點。總體說來，無論熱電子發射源還是場致電子發射源，其總電流不夠大。要想獲得更高電流密度和更大電流，一味地改陰極電子源的性能只是問題的一個方面。對于熱電子發射源來說，要想獲得更大電子發射電流，將會需要更大的熱絲電流，這意味著熱電子發射源的壽命會進一步減小。為了實現陰極電子發射電流進一步增大，也可以利用二次電子發射裝置，通過二次電子發射效率來實現電子發射電流增大。

發明內容

本申請針對現有技術的缺陷，提供一種陰極電子增強裝置。

本申請是這樣實現的：一種陰極電子增強裝置，由電源、陰極電子發射源和金屬薄板組組成，其中金屬薄板組設置在陰極電子發射源的電子發射端，金屬薄板組由若干長條形金屬薄板組成，金屬薄板組的截面呈鋸齒狀。

如上所述的一種陰極電子增強裝置，其中，金屬薄板的材質為鉬或鎢的濺射金屬。

如上所述的一種陰極電子增強裝置，其中，應用等離子體注入或涂覆方法，在金屬薄板的金屬薄板表面注入或涂覆銫、鎂。

如上所述的一種陰極電子增強裝置，其中，所述的金屬薄板組由一系列截面呈特定形狀的金屬薄板相互組合而成，金屬薄板的截面形狀為三角形、四邊形、五邊形、六邊形、十邊形、十二邊形中的任意一種，或其中任意種類的組合。

如上所述的一種陰極電子增強裝置，其中，陰極電子發射源可為熱電子發射源或場致電子發射源。

本發明的顯著效果是：本申請所述的一種陰極電子增強裝置通過注入有銫、鎂等金屬的金屬薄板組在一定電壓作用下，將陰極出射的電子獲得加速，撞擊金屬薄板組表面而產生二次電子發射，實現電子倍增，從而實現陰極電子發射電流的提高。同時金屬薄板組的形狀可以調節，可以對陰極電子發射源的出射電子產生規范作用，實現聚焦等電子光學作用。

附圖說明

圖1為本發明的一種陰極電子增強裝置的連線部分及電子增強結構示意圖；

圖2為本發明的一種陰極電子增強裝置的單個金屬薄板結構示意圖；

圖3為本發明的一種陰極電子增強裝置的金屬薄板組示意圖；

圖中：1.金屬薄板，2.金屬薄板表面，3.金屬薄板組，4.陰極電子發射源，5.陰極電子束，6.經陰極電子增強裝置增強的陰極電子束。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實例對本發明做進一步的說明。