[發(fā)明專利]指紋辨識(shí)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711414696.2
• 申請(qǐng)日: 2017-12-22
• 公開（公告）號(hào): CN109918978B
• 公開（公告）日: 2021-09-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳品誠(chéng);林正軒;徐煜靈;林鼎晸
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院
• 主分類號(hào): G06K9/00
• 分類號(hào): G06K9/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種指紋辨識(shí)裝置，其特征在于，包括：

光源，用以發(fā)射出第一光線，所述第一光線具有第一波長(zhǎng)λ1；

光色轉(zhuǎn)換層，用以將所述第一光線轉(zhuǎn)換成第二光線，所述第二光線具有不同于所述第一波長(zhǎng)λ1的第二波長(zhǎng)λ2；

光偵測(cè)器，用以偵測(cè)指紋所反射的所述第二光線；以及

濾光片，設(shè)置于所述光色轉(zhuǎn)換層與所述光偵測(cè)器之間，用以實(shí)質(zhì)上濾除所述第一光線，并實(shí)質(zhì)上允許所述第二光線通過；

其中，所述濾光片的一側(cè)接觸所述光偵測(cè)器，所述濾光片的另一側(cè)接觸所述光色轉(zhuǎn)換層。

2.如權(quán)利要求1的指紋辨識(shí)裝置，其中所述光源位于所述光色轉(zhuǎn)換層的下方。

3.如權(quán)利要求1的指紋辨識(shí)裝置，其中所述光源位于所述光色轉(zhuǎn)換層的側(cè)方。

4.如權(quán)利要求1的指紋辨識(shí)裝置，其中所述光源環(huán)繞所述光偵測(cè)器并定義出中央開口部，所述光偵測(cè)器設(shè)置于所述中央開口部中。

5.如權(quán)利要求4的指紋辨識(shí)裝置，其中所述光源為電致發(fā)光片。

6.如權(quán)利要求1的指紋辨識(shí)裝置，其中所述光源為單色光源。

7.如權(quán)利要求1的指紋辨識(shí)裝置，其中所述光色轉(zhuǎn)換層包括介質(zhì)和散布于所述介質(zhì)內(nèi)的光色轉(zhuǎn)換粒子，所述光色轉(zhuǎn)換粒子由量子點(diǎn)材料、無(wú)機(jī)熒光粉材料、有機(jī)熒光粉材料和磷光粉材料其中至少一者形成。

8.如權(quán)利要求1的指紋辨識(shí)裝置，其中所述光色轉(zhuǎn)換層包括介質(zhì)和散布于所述介質(zhì)內(nèi)的光色轉(zhuǎn)換粒子，所述光色轉(zhuǎn)換粒子的粒徑小于所述第二波長(zhǎng)λ2。

9.如權(quán)利要求8的指紋辨識(shí)裝置，其中所述粒徑小于等于10nm。

10.如權(quán)利要求1的指紋辨識(shí)裝置，其中λ2-λ1≥20nm。

11.如權(quán)利要求1的指紋辨識(shí)裝置，其中所述濾光片對(duì)于所述第一波長(zhǎng)λ1具有一第一穿透率R1，所述濾光片對(duì)于所述第二波長(zhǎng)λ2具有一第二穿透率R2，R2-R1＞50％。

12.一種指紋辨識(shí)裝置，其特征在于，包括：

多個(gè)光源，用以發(fā)射出第一光線，所述第一光線具有第一波長(zhǎng)λ1；

光色轉(zhuǎn)換層，用以將所述第一光線轉(zhuǎn)換成第二光線，所述第二光線具有不同于所述第一波長(zhǎng)λ1的第二波長(zhǎng)λ2；

多個(gè)光偵測(cè)器，用以偵測(cè)指紋所反射的所述第二光線；以及

濾光片，設(shè)置于所述光色轉(zhuǎn)換層與所述光偵測(cè)器之間，用以實(shí)質(zhì)上濾除所述第一光線，并實(shí)質(zhì)上允許所述第二光線通過；

其中，該些光源和該些光偵測(cè)器設(shè)置在所述指紋辨識(shí)裝置的基板上，該些光源和該些光偵測(cè)器分別排列成行，且該些光源的所述行與該些光偵測(cè)器的所述行交替設(shè)置；以及

其中所述濾光片對(duì)于所述第一波長(zhǎng)λ1具有一第一穿透率R1，所述濾光片對(duì)于所述第二波長(zhǎng)λ2具有一第二穿透率R2，R2-R1＞50％。

13.一種指紋辨識(shí)裝置，其特征在于，包括：

多個(gè)光源，用以發(fā)射出第一光線，所述第一光線具有第一波長(zhǎng)λ1；

光色轉(zhuǎn)換層，用以將所述第一光線轉(zhuǎn)換成第二光線，所述第二光線具有不同于所述第一波長(zhǎng)λ1的第二波長(zhǎng)λ2；

多個(gè)光偵測(cè)器，用以偵測(cè)指紋所反射的所述第二光線；以及

濾光片，設(shè)置于所述光色轉(zhuǎn)換層與所述光偵測(cè)器之間，用以實(shí)質(zhì)上濾除所述第一光線，并實(shí)質(zhì)上允許所述第二光線通過；

其中，該些光源和該些光偵測(cè)器設(shè)置在所述指紋辨識(shí)裝置的基板上，該些光偵測(cè)器排列成矩陣并定義出所述基板的偵測(cè)區(qū)，該些光源在所述偵測(cè)區(qū)外排列成行；以及

其中所述濾光片對(duì)于所述第一波長(zhǎng)λ1具有一第一穿透率R1，所述濾光片對(duì)于所述第二波長(zhǎng)λ2具有一第二穿透率R2，R2-R1＞50％。

14.一種指紋辨識(shí)裝置，其特征在于，包括：

光源，用以發(fā)射出第一光線，所述第一光線具有第一波長(zhǎng)λ1；

光色轉(zhuǎn)換層，用以將所述第一光線轉(zhuǎn)換成第二光線，所述第二光線具有不同于所述第一波長(zhǎng)λ1的第二波長(zhǎng)λ2；

光偵測(cè)器，用以偵測(cè)指紋所反射的所述第二光線；

濾光片，設(shè)置于所述光色轉(zhuǎn)換層與所述光偵測(cè)器之間，用以實(shí)質(zhì)上濾除所述第一光線，并實(shí)質(zhì)上允許所述第二光線通過；

透鏡，位于所述光偵測(cè)器與所述濾光片之間，所述透鏡用以匯聚反射后的所述第二光線；

基板；以及

框架，所述框架連接所述光色轉(zhuǎn)換層與所述基板以定義出容置空間，所述光源、所述光偵測(cè)器、所述濾光片、及所述透鏡設(shè)置于所述容置空間內(nèi)，且所述濾光片與所述光色轉(zhuǎn)換層之間具有間隔；

其中所述濾光片對(duì)于所述第一波長(zhǎng)λ1具有一第一穿透率R1，所述濾光片對(duì)于所述第二波長(zhǎng)λ2具有一第二穿透率R2，R2-R1＞50％。