[發明專利]一種城鎮污水處理設備

在審

• 申請號: 201711413214.1
• 申請日: 2017-12-24
• 公開（公告）號: CN107935322A
• 公開（公告）日: 2018-04-20
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 湖南千幻科技有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14;C02F101/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及污水處理設備領域，更具體的涉及一種城鎮污水處理設備。

背景技術

隨著我國大量的農村人口涌入城鎮，城鎮人口不斷增加，城鎮的水資源遭到了嚴重破壞，我國面臨著水資源枯竭的問題。水資源是人類賴以生存的保障，它是不可再生資源，它不僅僅影響人們的生產生活，更對我國的國情國運有著重要的影響。由此可見，加強我國的城鎮污水處理工作刻不容緩。城鎮污水主要是城鎮中排放的生活污水、工業廢水等等，這些廢水主要是通過城鎮的污水管網匯集后或者經過城鎮的污水處理廠處理之后排入水體。近些年來，我國的城鎮污水排放量在不斷增加。而我國的廢水污染源主要有工業源、農業源、城鎮生活源以及少部分的集中式污染設施排放源，其中，具有關資料顯示，城鎮生活污水排放量是增加我國污水排放量的主要原因。由此可見，雖然我國成立了許多污水處理廠，我國的城鎮污水處理工作仍然不夠到位。因此，發明一種污水處理設備來處理城鎮污水，對促進污水處理發展和保護水資源重復利用具有重要意義。

發明內容

為解決上述問題，本發明提供一種城鎮污水處理設備包括反應池、填料、濾料、內筒和外筒；所述反應池中設有內筒、外筒；所述內筒、外筒將反應池分為三個區，內筒內部的區域為沉淀區，內筒、外筒之間的區域為生物接觸氧化區，外筒與反應池池壁之間的區域為過濾區；所述外筒底部設有多個過流孔；所述沉淀區設有進水口；所述過濾區設有出水口。

所述填料設置在生物接觸氧化區中；所述濾料設置在過濾區中。

進一步地，所述沉淀區中心設有中心筒，所述中心筒從上至下包括中心管、喇叭口、反射板。

進一步地，所述填料為軟性填料。

進一步地，所述濾料包括焦炭、碎石。

進一步地，所述反應池為圓筒結構，反應池底部為倒圓錐形。

進一步地，所述反應池的上方設有格柵板。

本發明具有如下優點：

1、采用沉淀、生物接觸氧化、生物濾池的工藝組合，取消了通常城鎮污水處理所需的二沉池，占地面積小。

2、污泥產量低、運行維護簡單、運行費用少。

附圖說明

圖1為本發明實施例1提供的一種城鎮污水處理設備的結構視示意圖。

圖例說明：

1、沉淀區；2、生物接觸氧化區；3、過濾區；4、內筒；5、外筒；51、過流孔；6、中心筒；61、中心管；62、喇叭口；63、反射板；7、軟性填料；8、曝氣裝置；9、濾料；10、支架。

具體實施方式

為了讓本領域技術人員更好地理解并實現本發明的技術方案，以下結合說明書附圖和具體實施例做進一步詳細說明。

實施例1

如圖1所示，一種城鎮污水處理設備包括反應池、填料、濾料9、內筒4和外筒5；所述反應池中設有內筒4、外筒5；所述內筒4、外筒5將反應池分為三個區，內筒4內部的區域為沉淀區1，內筒4、外筒5之間的區域為生物接觸氧化區2，外筒5與反應池池壁之間的區域為過濾區3；所述外筒5底部設有多個過流孔51；所述過濾區3設有出水口。

所述填料為軟性填料7,設置在生物接觸氧化區2中；所述濾料包括焦炭、碎石,設置在過濾區3中。

所述反應池為圓筒結構，反應池底部為倒圓錐形。沉淀區1和生物接觸氧化區2底部都設有排泥口。

所述沉淀區1中心設有中心筒6，中心筒從上至下分為中心管61、喇叭口62、反射板63。

所述反應池的上方設有格柵板，工作人員可以站在格柵板上對反應池內的污水進行投料、觀察、檢測等工作。

所述反應池底部設有支架10。

該實施例中，污水處理的具體實施過程如下：

污水從中心筒6頂部進入設備的沉淀區1，污水中含有的雜質、懸浮物在沉淀區1進行沉淀，沉淀后的沉淀物落入沉淀區1的底部，通過排泥口排出，去除部分雜質、懸浮物后的污水上清液溢流經過內筒4的上表面進入生物接觸氧化區2，生物接觸氧化區2設有軟性填料7，生物接觸氧化區2底部設置的曝氣裝置8對污水進行曝氣，為軟性填料7上好氧細菌提供所需要的氧氣，污水在生物接觸氧化區2進行硝化反硝化反應，去除污水中的大部分有機物、氨氮和少量的磷，形成的少量污泥通過底部的排泥口排出。最后污水通過外筒5底部的過流孔51進入過濾區3，由過濾區3中的濾料9去除污水中部分懸浮物和磷后，完成處理，通過出水口排出，使最后的出水達到《城鎮污水處理廠污染物排放標準》中的一級B標準。

以上對本發明所提供的一種城鎮污水處理設備進行了詳細介紹。本文中應用了具體個例對本發明的技術方案及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本發明的技術方案及其核心思想。應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明的技術方案的前提下，還可以對本發明進行若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本發明權利要求的保護范圍內。