[發(fā)明專利]一種激光發(fā)生器反射板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711409166.9 | 申請日： | 2017-12-22 |
| 公開（公告）號： | CN108008476B | 公開（公告）日： | 2019-09-10 |
| 發(fā)明（設計）人： | 薛龍建;譚迪;黃家輝 | 申請（專利權）人： | 武漢大學 |
| 主分類號： | G02B5/08 | 分類號： | G02B5/08;C23C28/00;C23C14/16;C23C14/58 |
| 代理公司： | 武漢科皓知識產(chǎn)權代理事務所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 張火春 |
| 地址： | 430072 湖*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 激光 發(fā)生器 反射 | ||
1.一種激光發(fā)生器反射板，其特征在于：由基底、純鉻層、純鋁層和作為反射層的三氧化二鋁薄膜組成四層結構，所述基底為具有高導熱性的銅基體，通過沉積法依次在銅基體上表面形成純鉻層，在純鉻層上形成純鋁層，在純鋁層上沉積或生長作為反射層的三氧化二鋁薄膜。
2.如權利要求1所述的激光發(fā)生器反射板，其特征在于：所述純鉻層厚度為5～100nm，純鋁層厚度為8～10μm，三氧化二鋁薄膜的厚度為1～5μm。
3.如權利要求1所述的激光發(fā)生器反射板，其特征在于：所述三氧化二鋁薄膜表面均方根粗糙度范圍為10nm～100nm。
4.如權利要求1所述的激光發(fā)生器反射板，其特征在于：所述銅基體為純銅基體或銅合金基體，所述三氧化二鋁薄膜為α晶型三氧化二鋁薄膜。
5.如權利要求1所述的激光發(fā)生器反射板，其特征在于：銅基體要預先拋光，先機械拋光，之后再化學拋光，拋光后銅基體表面均方根粗糙度小于1nm。
6.如權利要求1所述的激光發(fā)生器反射板，其特征在于：通過沉積法在銅基體上表面鍍鉻得到純鉻層，純鉻層表面粗糙度小于10nm。
7.如權利要求1所述的激光發(fā)生器反射板，其特征在于：通過沉積法在純鉻層上表面鍍鋁得到純鋁層，純鋁層表面粗糙度小于30nm。
8.如權利要求1所述的激光發(fā)生器反射板，其特征在于：鍍鉻采用的物理氣相沉積法為電阻真空蒸鍍、磁控濺射和多弧離子束濺射方法中的任意一種；鍍鋁采用的物理氣相沉積法為高頻感應加熱蒸發(fā)鍍、磁控濺射和多弧離子束濺射方法中的任意一種。
9.如權利要求1所述的激光發(fā)生器反射板，其特征在于：采用反應蒸鍍法、陽極氧化法和陰極多弧離子鍍氧化法中任意一種方法將純鋁層氧化，制備三氧化二鋁薄膜。
10.如權利要求9所述的激光發(fā)生器反射板，其特征在于：對純鋁層氧化后在氬氣保護氣氛中進行去應力退火。
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