[發(fā)明專利]一種激光發(fā)生器反射板制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711408163.3
• 申請日: 2017-12-22
• 公開（公告）號: CN108149197B
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 薛龍建;譚迪;黃家輝;張國棟
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢大學(xué)
• 主分類號: C23C14/16
• 分類號: C23C14/16;C23C14/08;C25D11/04;C23C28/00;C23C14/58
• 代理公司: 武漢科皓知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42222
• 代理人: 張火春

1.一種激光發(fā)生器反射板制作方法，其特征在于，通過該方法制成的反射板由銅基體、純鉻層、純鋁層和作為反射層的三氧化二鋁薄膜組成四層結(jié)構(gòu)，具體制作步驟如下：

步驟一、銅基體預(yù)處理，先對銅基體進行表面打磨拋光，然后進行清洗，得到預(yù)處理后的銅基體；

步驟二、鍍鉻，通過物理氣相沉積鍍鉻，在銅基體表面鍍上納米級厚度的純鉻層，形成鍍鉻層；

步驟三、鍍鋁，通過物理氣相沉積鍍鋁，在純鉻層表面鍍上微米級厚度的純鋁層，形成鍍鋁層；

步驟四、氧化，對純鋁層表面進行氧化處理，使純鋁層表面生成作為反射層的α晶型三氧化二鋁薄膜；

步驟五、通過去應(yīng)力退火消除步驟二到步驟四中產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力，即完成激光發(fā)生器反射板的制作；

所述銅基體為純銅基體或銅合金基體。

2.如權(quán)利要求1所述的激光發(fā)生器反射板制作方法，其特征在于：步驟一中，對銅基體先進行機械拋光后再進行化學(xué)拋光，機械拋光后，銅基體表面均方根粗糙度小于20nm，化學(xué)拋光后，銅基體均方根表面粗糙度為小于1nm。

3.如權(quán)利要求1所述的激光發(fā)生器反射板制作方法，其特征在于：步驟二中，鍍鉻采用的物理氣相沉積法為電阻真空蒸鍍、磁控濺射和多弧離子束濺射方法中的任意一種；步驟三中，鍍鋁采用的物理氣相沉積法為高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍、磁控濺射和多弧離子束濺射方法中的任意一種。

4.如權(quán)利要求1所述的激光發(fā)生器反射板制作方法，其特征在于：步驟二中，通過物理氣相沉積法得到的鍍鉻層，鍍鉻層厚度為5~100nm，鍍鉻層的均方根表面粗糙度為小于10nm。

5.如權(quán)利要求1所述的激光發(fā)生器反射板制作方法，其特征在于：步驟三中，通過物理氣相沉積法得到的鍍鋁層，鍍鋁層的厚度為15~20μm，均方根表面粗糙度為小于30nm。

6.如權(quán)利要求1所述的激光發(fā)生器反射板制作方法，其特征在于：步驟四中，采用反應(yīng)蒸鍍法、陽極氧化法和陰極多弧離子鍍氧化法中任意一種工藝對純鋁層表面進行氧化處理，使純鋁層表面生成三氧化二鋁薄膜。

7.如權(quán)利要求6所述的激光發(fā)生器反射板制作方法，其特征在于：步驟四中，陽極氧化法采用氧化法鍍鋁膜，采用酸性溶液作為電解液，純鋁層作為陽極電解氧化得到成三氧化二鋁薄膜。

8.如權(quán)利要求1所述的激光發(fā)生器反射板制作方法，其特征在于：步驟五中去應(yīng)力退火在氬氣保護氣氛中進行，具體去應(yīng)力退火的工藝為：

對步驟四中生成三氧化二鋁薄膜的激光發(fā)生器反射板在氬氣保護氣氛中進行去應(yīng)力退火，退火工藝參數(shù)為，300-400℃恒溫3-5h，然后以0.3-2℃/min的降溫速率退火，當(dāng)溫度降到50℃以下后取出。