[發(fā)明專利]基板處理裝置、基板處理系統(tǒng)以及基板處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711406516.6
• 申請(qǐng)日: 2017-12-22
• 公開（公告）號(hào): CN108257891B
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 井上正史;田中孝佳;巖田智巳;谷口寬樹;新莊淳一;高橋弘明;樋口鲇美;大跡明;中野佑太
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社斯庫林集團(tuán)
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L21/68;H01L21/02
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇

1.一種基板處理裝置，具備：

紫外線照射裝置，位于第一處理室和第二處理室的邊界，并且能夠向所述第一處理室和所述第二處理室照射紫外線；

第一基板保持裝置，配置于所述第一處理室，將基板保持成與所述紫外線照射裝置對(duì)置；

第二基板保持裝置，配置于所述第二處理室，將基板保持成與所述紫外線照射裝置對(duì)置；

遮光裝置，以將所述紫外線照射裝置和所述第二基板保持裝置之間的空間分隔為所述紫外線照射裝置側(cè)的第一空間和所述第二基板保持裝置側(cè)的第二空間的方式配置，并且遮擋來自所述紫外線照射裝置的紫外線，而且使所述第一空間內(nèi)的氣體和所述第二空間內(nèi)的氣體連通；

氣體供給裝置，向所述第一空間供給氣體；

第一移動(dòng)裝置，

所述遮光裝置具備對(duì)紫外線具有遮光性的第一板部和第二板部，

在所述第一板部形成有至少一個(gè)第一貫通孔，

在所述第二板部形成有至少一個(gè)第二貫通孔，

所述第一板部和所述第二板部以所述至少一個(gè)第一貫通孔的位置和所述至少一個(gè)第二貫通孔的位置在與各個(gè)板面平行的方向上互相錯(cuò)開的配置關(guān)系，互相隔開間隔且對(duì)置配置，

所述第一移動(dòng)裝置使所述第一板部和所述第二板部在第一位置和第二位置之間相對(duì)地進(jìn)行移動(dòng)，所述第一位置是所述至少一個(gè)第一貫通孔和所述至少一個(gè)第二貫通孔互相錯(cuò)開的位置，所述第二位置是所述至少一個(gè)第一貫通孔和所述至少一個(gè)第二貫通孔在位置上互相對(duì)齊的位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中，

所述至少一個(gè)第一貫通孔包括多個(gè)第一貫通孔，

所述至少一個(gè)第二貫通孔包括多個(gè)第二貫通孔，

在所述第二位置上，所述多個(gè)第一貫通孔與所述多個(gè)第二貫通孔一對(duì)一地對(duì)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中，還具備：

第三基板保持裝置，在所述遮光裝置和所述紫外線照射裝置之間將基板保持成與所述紫外線照射裝置對(duì)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中，還具備：

第一氣體供給裝置，向所述第一處理室供給氣體。

5.一種基板處理裝置，具備：

紫外線照射裝置，位于第一處理室和第二處理室的邊界，并且能夠向所述第一處理室和所述第二處理室照射紫外線；

第一基板保持裝置，配置于所述第一處理室，將基板保持成與所述紫外線照射裝置對(duì)置；

第二基板保持裝置，配置于所述第二處理室，將基板保持成與所述紫外線照射裝置對(duì)置；

至少一個(gè)反射裝置，配置于所述第一處理室和所述第二處理室中的至少任意一個(gè)處理室，并且將來自所述紫外線照射裝置的紫外線向所述第一處理室和所述第二處理室中的另一個(gè)處理室反射；以及

第二移動(dòng)裝置，使所述至少一個(gè)反射裝置在所述至少一個(gè)反射裝置與所述紫外線照射裝置對(duì)置的位置和所述至少一個(gè)反射裝置不與所述紫外線照射裝置對(duì)置的位置之間進(jìn)行移動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其中，具備：

第一氣體供給裝置，向所述第一處理室供給氣體；

第二氣體供給裝置，向所述第二處理室供給氣體。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其中，

所述第一氣體供給裝置和所述第二氣體供給裝置中的至少任意一個(gè)選擇性地供給多種氣體。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中，還具備：

第四基板保持裝置，在所述第二基板保持裝置和所述紫外線照射裝置之間將未形成低電介質(zhì)膜的基板保持成與所述紫外線照射裝置對(duì)置，

形成有低電介質(zhì)膜的基板被移交到所述第二基板保持裝置，并保持成與所述紫外線照射裝置對(duì)置。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中，

所述第一基板保持裝置將具有形成有低電介質(zhì)膜的第一主表面和未形成有低電介質(zhì)膜的第二主表面的基板，保持成所述第二主表面朝向所述紫外線照射裝置的姿勢(shì)。