[發明專利]一種半導體器件的多功能腐蝕裝置

有效

• 申請號: 201711404625.4
• 申請日: 2017-12-22
• 公開（公告）號: CN107993967B
• 公開（公告）日: 2023-10-03
• 發明（設計）人: 袁鵬;古進;郭榮;簡青青;壽強亮
• 申請（專利權）人: 中國振華集團永光電子有限公司（國營第八七三廠）
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 貴州派騰知識產權代理有限公司 52114
• 代理人: 谷慶紅

1.一種半導體器件的多功能腐蝕裝置，包括提手(1)、籃架(2)、酸洗盤(3)、支架(4)，其特征在于：所述支架(4)安裝在支架(4)內，所述支架(4)安裝在籃架(2)內，所述提手(1)安裝在籃架(2)的上端，所述酸洗盤(3)在支架(4)內上下水平布置有若干排。

2.如權利要求1所述的半導體器件的多功能腐蝕裝置，其特征在于：所述酸洗盤(3)包括襯板(31)、面板(32)，所述面板(32)通過支柱(34)支撐安裝在襯板(31)上，所述襯板(31)的下端通過螺栓固接有襯腳(33)。

3.如權利要求2所述的半導體器件的多功能腐蝕裝置，其特征在于：所述襯板(31)的端端面上均加工有通孔(5)和襯腳連接孔(312),所述通孔(5)內安裝有支柱(34)，所述襯腳連接孔(312)通過螺栓將襯腳(33)固接在襯板(31)下端，襯板(31)的中部加工有若干均勻布置的襯孔(311),襯孔(311)的上端設置有倒圓臺槽(6)。

4.如權利要求2所述的半導體器件的多功能腐蝕裝置，其特征在于：所述面板(32)的兩端端面上加工有通孔(5)，通孔(5)與支柱(34)連接，所述面板(32)的中部設置有酸液槽(322),酸液槽(322)內加工有若干限位孔(321),限位孔(321)上端設置有倒圓臺槽(6)。

5.如權利要求1所述的半導體器件的多功能腐蝕裝置，其特征在于：所述支架(4)包括限位柱(41)、頂板(42)、抵板(43)、中間限位柱(44)、側面支撐柱(45)、底板(47)，所述頂板(42)和底板(47)分別通過鎖緊件(46)安裝在限位柱(41)兩端，所述側面支撐柱(45)和中間限位柱(44)通過鎖緊件(46)安裝在頂板(42)和底板(47)之間且在頂板(42)或底板(47)的一側，所述側面支撐柱(45)在頂板(42)的兩端，中間限位柱(44)在頂板(42)的中部。

6.如權利要求1所述的半導體器件的多功能腐蝕裝置，其特征在于：所述籃架(2)包括側板(21)和拉緊螺桿(22)，所述側板(21)平行設置有兩塊，兩塊側板(21)之間通過拉緊螺桿(22)連接，所述拉緊螺桿(22)設置在側板(21)的左右兩側及其下端。

7.如權利要求1所述的半導體器件的多功能腐蝕裝置，其特征在于：所述提手(1)包括左提桿(11)、右提桿(12)、提板(13)，所述提板(13)設置為四塊，四塊提板(13)的一端分別與兩塊側板(21)的上端兩側部鉸接，所述兩塊側板(21)上相對一側的提板(13)中下部之間通過拉緊螺桿(22)連接，其上端分別通過左提桿(11)和右提桿(12)連接。

8.如權利要求2所述的半導體器件的多功能腐蝕裝置，其特征在于：所述襯腳(33)一側面上加工了導向槽(332),導向槽(332)安裝在抵板(43)的一端，所述襯腳(33)上還豎直加工有若干螺栓孔(331)，通過螺栓孔(331)與螺栓將襯腳(33)固定在襯板(31)下端。

9.如權利要求5所述的半導體器件的多功能腐蝕裝置，其特征在于：所述限位柱(41)兩端設置有螺紋，限位柱(41)中部等間距交叉布置有若干上限位臺(411)和下限位臺(412)，每對上限位臺(411)和下限位臺(412)的相對面邊角均加工有倒角(4111)，所述上限位臺(411)的下端面與面板(32)的上端面接合，所述下限位臺(412)的上端面與襯腳(33)的下端面接合。

10.如權利要求7所述的半導體器件的多功能腐蝕裝置，其特征在于：所述左提桿(11)和右提桿(12)兩端均設置有螺紋，左提桿(11)和右提桿(12)相鄰面上分別加工有卡槽(111)和凸臺(121),凸臺(121)可以卡裝在卡槽(111)內。