[發明專利]計算機斷層掃描

有效

• 申請號: 201711404282.1
• 申請日: 2017-12-22
• 公開（公告）號: CN108240998B
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 米倫·加特什基;D·貝克爾斯
• 申請（專利權）人: 馬爾文帕納科公司
• 主分類號: G01N23/046
• 分類號: G01N23/046;G01N23/207;G01N23/20016;G01N23/20008
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 陸建萍;楊明釗

1.一種執行計算機斷層掃描測量的方法，包括：

在X射線源中生成X射線的束；

創建在第一方向上線性延伸的X射線的線焦點；

使來自所述線焦點的所述X射線的束穿過掩模中的機械狹縫，所述機械狹縫在基本上垂直于所述線焦點的狹縫方向上延伸；

在穿過所述機械狹縫之后使所述X射線的束穿過待測量的對象；以及

在二維檢測器上對所述X射線的束成像。

2.根據權利要求1所述的方法，包括：

使所述對象順序地旋轉到多個位置；

針對所述多個位置中的每個位置，在所述二維檢測器上捕獲相應的二維圖像；以及

根據所述相應的二維圖像來計算所述對象的三維表示。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，計算所述對象的所述三維表示包括對所捕獲的二維圖像執行錐束計算機斷層掃描算法，其中每個捕獲的二維圖像相對于垂直于所述第一方向的方向在平行于所述第一方向的方向上按縮放因子S來縮放。

4.根據權利要求3所述的方法，其中

S由以下得出：

S＝(d_mo/d_so)(d_sd/d_md)；

d_mo是所述掩模和所述對象之間的距離；

d_so是所述X射線源和所述對象之間的距離；

d_sd是所述X射線源和所述二維檢測器之間的距離；以及

d_md是所述掩模和所述二維檢測器之間的距離。

5.根據任一前述權利要求所述的方法，其中，所述X射線源使用具有的原子序數在24至47的范圍內的金屬元素的靶，并且所述X射線源具有從600W至3000W的功率。

6.一種計算機斷層掃描測量裝置，包括：

X射線源，所述X射線源用于生成在第一方向上線性延伸的線焦點；

樣品臺，所述樣品臺用于保持待測量的對象；以及

二維檢測器，所述二維檢測器用于檢測已經穿過所述樣品臺上的所述對象的來自所述X射線源的X射線，并生成二維圖像；

其特征在于，

掩模界定在基本上垂直于所述線焦點的狹縫方向上延伸的機械狹縫，所述掩模被安裝在所述線焦點和所述樣品臺之間，將來自所述線焦點的X射線引導通過所述機械狹縫，并隨后向前通過所述樣品臺上的所述對象到所述二維檢測器，以創建所述二維圖像。

7.根據權利要求6所述的計算機斷層掃描測量裝置，

其中，所述樣品臺圍繞旋轉軸線是可旋轉的，

所述計算機斷層掃描測量裝置還包括：計算機系統，所述計算機系統連接到所述樣品臺以用于控制所述對象的旋轉，并且所述計算機系統連接到所述二維檢測器以用于處理所述二維圖像；

其中，所述計算機系統適用于：

旋轉所述樣品臺以將所述對象順序地旋轉到多個位置；

針對所述多個位置中的每個位置，在所述二維檢測器上捕獲相應的二維圖像；以及

根據所述相應的二維圖像來計算所述對象的三維表示。

8.根據權利要求7所述的計算機斷層掃描測量裝置，其中，所述計算機系統適用于：

通過對所捕獲的二維圖像執行錐束計算機斷層掃描算法來計算所述對象的所述三維表示，其中每個捕獲的二維圖像相對于垂直于所述第一方向的方向在平行于所述第一方向的方向上按縮放因子S來縮放。