[發(fā)明專(zhuān)利]一種凹凸相間微織構(gòu)導(dǎo)軌及其制作方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711403818.8
• 申請(qǐng)日: 2017-12-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108274246A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱維南;王浩;符永宏;鐘行濤;解玄;韓洪松;康正陽(yáng)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 南通大學(xué);江蘇大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): B23Q1/01
• 分類(lèi)號(hào): B23Q1/01;B23P15/00
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種凹凸間隔分布微織構(gòu)導(dǎo)軌，其特征在于，在導(dǎo)軌表面分布的凹凸相間微織構(gòu)，所述凹凸相間微織構(gòu)為單行微凹坑形貌和單行微凸起形貌等間距彼此相間隔排列。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種凹凸間隔分布微織構(gòu)導(dǎo)軌，其特征在于，所述微凹坑形貌的幾何參數(shù)為：凹坑直徑d=20-500um，凹坑深度h=1-50um，形貌間距k1=100-2000um，微凹坑形貌列陣的形貌面積占有率為S1=1%-40%。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種凹凸間隔分布微織構(gòu)導(dǎo)軌，其特征在于，所述微凹坑形貌列陣的形貌面積占有率為S1=6-16%。

4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的一種凹凸間隔分布微織構(gòu)導(dǎo)軌，其特征在于，所述微凸起織構(gòu)形貌的幾何參數(shù)為：微凸起直徑D=20-500um，微凸起高度H=1-10um，形貌間距k2=100-2000um，微凸起織構(gòu)形貌列陣的形貌面積占有率為S2=8%-50%。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種凹凸間隔分布微織構(gòu)導(dǎo)軌，其特征在于，所述微凸起織構(gòu)形貌列陣的形貌面積占有率為S2=16-28%。

6.根據(jù)權(quán)利要求1—5中任一項(xiàng)所述的一種凹凸間隔分布微織構(gòu)導(dǎo)軌的制作方法，其特征在于，具體步驟為：

步驟1）設(shè)計(jì)導(dǎo)軌表面凹凸相間微織構(gòu)形貌，微凹坑和微凸起織構(gòu)形貌間隔分布存在導(dǎo)軌全部行程工作表面；

步驟2）導(dǎo)軌表面進(jìn)行前處理磨削工藝，使導(dǎo)軌表面粗糙度和幾何公差達(dá)到激光微造型的要求；

步驟3）導(dǎo)軌清潔，用干棉布擦拭直到光亮無(wú)塵，去除表面灰塵及油污；

步驟4）采用二級(jí)管泵浦YAG激光器在導(dǎo)軌表面加工織構(gòu)，采用混合式步進(jìn)電機(jī)控制載有導(dǎo)軌的工作臺(tái)線位移和角位移，保持激光束不動(dòng)的加工方式制備相間分布的陣列微凹坑織構(gòu)和微凸起織構(gòu)，具體的激光加工參數(shù)激光波長(zhǎng)532nm或1064nm，離焦量0mm，脈沖寬度0.5ms，脈沖頻率1-10KHz，激光能量密度為10-500 J/cm2，電流為10-25A，無(wú)輔吹氣體，空氣氛圍。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述步驟4）中，先加工微凹坑形貌，后加工微凸起形貌，在激光加工微凹坑織構(gòu)陣列后，在導(dǎo)軌表面進(jìn)行拋光處理，去除激光加工微凹坑時(shí)產(chǎn)生的熔渣，拋光工藝的參數(shù)為：結(jié)合劑為樹(shù)脂，材質(zhì)綠色碳化，粒度1500#的軟砂條，壓力0.8-1.0MPa，時(shí)間10-25s。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的制作方法，其特征在于，所述步驟1）激光微造型的要求為：輪廓的算術(shù)平均偏差Ra≤0.8um，輪廓的最大高度Rz≤3.2um，直線度和平面度≤0.01um。