[發(fā)明專利]散熱方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711401935.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109216208A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 余振華;陳明發(fā);陳琮瑜;洪文興 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/50 | 分類號(hào): | H01L21/50 |
| 代理公司: | 南京正聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243 | 代理人: | 顧伯興 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹科*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 集成電路管芯 半導(dǎo)體特征 堆疊 管芯 虛擬 粘合劑 電性隔離 橫向環(huán)繞 散熱裝置 傳導(dǎo)性 連接件 散熱 | ||
一種散熱裝置包括:集成電路管芯,具有第一側(cè)及與所述第一側(cè)相對(duì)的第二側(cè);管芯堆疊,位于所述集成電路管芯的所述第一側(cè)上;虛擬半導(dǎo)體特征,位于所述集成電路管芯的所述第一側(cè)上,所述虛擬半導(dǎo)體特征橫向環(huán)繞所述管芯堆疊,所述虛擬半導(dǎo)體特征與所述管芯堆疊及所述集成電路管芯電性隔離;第一粘合劑,設(shè)置在所述管芯堆疊與所述虛擬半導(dǎo)體特征之間;以及多個(gè)傳導(dǎo)性連接件,位于所述集成電路管芯的所述第二側(cè)上。
本申請(qǐng)主張?jiān)?017年6月30日提出申請(qǐng)的美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)第62/527,770號(hào)的權(quán)利,所述美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)的全文并入本文中供參考。
技術(shù)領(lǐng)域
本揭露的實(shí)施例是有關(guān)于一種散熱方法。
背景技術(shù)
在對(duì)集成電路進(jìn)行封裝時(shí),多個(gè)半導(dǎo)體管芯可通過(guò)結(jié)合被堆疊,且可結(jié)合到例如中介物(interposer)及封裝襯底等的其他封裝組件。所得的封裝被稱為三維集成電路(Three-Dimensional Integrated Circuit,3DIC)。在三維集成電路中,熱量耗散是一項(xiàng)挑戰(zhàn)。
在有效地耗散在三維集成電路的內(nèi)管芯中產(chǎn)生的熱量方面,可能存在瓶頸。在典型的三維集成電路中,在內(nèi)管芯中產(chǎn)生的熱量可必須被耗散到外組件后,所述熱量才能被傳導(dǎo)到散熱器。然而,在經(jīng)堆疊管芯與外組件之間,存在不能有效地傳導(dǎo)熱量的其他材料,例如底部填充劑、模塑化合物等。因此,熱量可能被陷滯在底部經(jīng)堆疊管芯的內(nèi)區(qū)中,且因此引起尖銳的局部溫度峰值(有時(shí)被稱為熱點(diǎn)(hot spot))。此外,因由高功率消耗管芯產(chǎn)生的熱量所致的熱點(diǎn)可對(duì)周圍管芯引起熱串?dāng)_(thermal crosstalk)問(wèn)題,從而負(fù)面地影響周圍管芯的性能及整個(gè)三維集成電路封裝的可靠性。
發(fā)明內(nèi)容
本揭露公開(kāi)一種散熱方法,其特征在于,包括:將管芯堆疊放置在裝置晶片的前側(cè)上;在所述裝置晶片的背側(cè)上形成傳導(dǎo)性連接件;將所述裝置晶片單體化以形成集成電路管芯,所述管芯堆疊設(shè)置在所述集成電路管芯上;將所述集成電路管芯放置在載體襯底上;將虛擬晶片的前側(cè)結(jié)合到所述集成電路管芯,所述管芯堆疊設(shè)置在所述虛擬晶片的所述前側(cè)中的凹槽中;從所述載體襯底剝離所述集成電路管芯;以及將所述虛擬晶片單體化以形成虛擬半導(dǎo)體特征,所述虛擬半導(dǎo)體特征橫向環(huán)繞所述管芯堆疊,所述虛擬半導(dǎo)體特征與所述管芯堆疊及所述集成電路管芯電性隔離。
附圖說(shuō)明
結(jié)合附圖閱讀以下詳細(xì)說(shuō)明,會(huì)最佳地理解本發(fā)明的各方面。應(yīng)注意,根據(jù)本行業(yè)中的標(biāo)準(zhǔn)慣例,各種特征并非按比例繪制。事實(shí)上,為使論述清晰起見(jiàn),可任意增大或減小各種特征的尺寸。
圖1A及圖1B說(shuō)明裝置晶片及集成電路管芯的剖視圖。
圖2至圖12B是根據(jù)一些實(shí)施例在用于形成裝置封裝的工藝期間的中間步驟的各種視圖。
圖13至圖17B是根據(jù)一些其他實(shí)施例在用于形成裝置封裝的工藝期間的中間步驟的各種視圖。
圖18至圖24B是根據(jù)一些其他實(shí)施例在用于形成裝置封裝的工藝期間的中間步驟的各種視圖。
圖25至圖32是根據(jù)一些其他實(shí)施例在用于形成裝置封裝的工藝期間的中間步驟的各種視圖。
圖33示出根據(jù)一些其他實(shí)施例在用于形成裝置封裝的工藝期間的中間步驟。
圖34至圖37是根據(jù)一些其他實(shí)施例在用于形成裝置封裝的工藝期間的中間步驟的各種視圖。
圖38示出根據(jù)一些其他實(shí)施例在用于形成裝置封裝的工藝期間的中間步驟。
附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明
50:集成電路管芯
52:襯底
54:裝置
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





