[發明專利]一種ITO線路化學鎳金工藝在審
| 申請號： | 201711400794.0 | 申請日： | 2017-12-20 |
| 公開（公告）號： | CN108118316A | 公開（公告）日： | 2018-06-05 |
| 發明（設計）人： | 于中生 | 申請（專利權）人： | 蘇州聯卓電子有限公司 |
| 主分類號： | C23C18/36 | 分類號： | C23C18/36;C23C18/42;C23C18/18 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學鎳金 電容觸摸屏 耐磨性 傳輸信號 工藝實現 抗氧化性 性能要求 性質穩定 脫脂 鍍層 鍍鎳 活化 微蝕 鍍金 客戶 污染 保證 | ||
1.一種ITO線路化學鎳金工藝，其特征在于，包括以下步驟：
A.脫脂：ITO玻璃基板在堿性清潔劑中進行清洗和脫脂處理，溫度45±5℃，時間4～6分鐘；
B.熱水洗：ITO玻璃基板用熱水洗凈，溫度45±5℃，時間1～2分鐘，之后常溫下兩次用純水洗凈，每次時間0.5～1分鐘，烘干；
C.微蝕：ITO玻璃基板中部貼上隔絕膜露出四周邊緣的ITO線路，在微蝕劑中進行蝕刻和粗化處理，溫度25±2℃，時間4～6分鐘，之后常溫下兩次用純水洗凈，每次時間0.5～1分鐘，烘干；
D.活化：ITO玻璃基板在鈀活化劑中進行Pd沉積和活化處理，溫度20±2℃，時間4～6分鐘，之后常溫下兩次用純水洗凈，每次時間0.5～1分鐘，烘干；
E.后浸：ITO玻璃基板在后浸劑中常溫浸泡，時間4～6分鐘，之后常溫下兩次用純水洗凈，每次時間0.5～1分鐘，烘干；
F.鍍鎳：ITO玻璃基板在化學鎳磷合金鍍液中進行鍍鎳處理，溫度75～80℃，時間5～8分鐘，化學鎳磷合金鍍液中鎳含量4.5±0.3g/L，PH值控制在4.4～4.8，之后常溫下兩次用純水洗凈，每次時間0.5～1分鐘，烘干；
G.鍍金：ITO玻璃基板在化學金鍍液中進行鍍金處理，溫度80±5℃，時間20秒～3分鐘，化學金鍍液中金含量1.0～3.0g/L，PH值控制在5.0～5.4，之后常溫下三次用純水洗凈，第一次時間0.5分鐘，后兩次每次時間0.5～1分鐘，之后用熱水洗凈，溫度50±2℃，時間1～2分鐘，烘干。
2.根據權利要求1所述的一種ITO線路化學鎳金工藝，其特征在于：所述堿性清潔劑中包含濃度為50g/L的氫氧化鈉。
3.根據權利要求1所述的一種ITO線路化學鎳金工藝，其特征在于：所述微蝕劑包含濃度為20g/L的過硫酸氫鉀和濃度為200ml/L的甲基磺酸。
4.根據權利要求1所述的一種ITO線路化學鎳金工藝，其特征在于：所述鈀活化劑包含濃度為25～35ml/L的氯化鈀。
5.根據權利要求1所述的一種ITO線路化學鎳金工藝，其特征在于：所述后浸劑包括濃度為8～12ml/L的次亞磷酸。
6.根據權利要求1所述的一種ITO線路化學鎳金工藝，其特征在于：所述化學鎳磷合金鍍液包含硫酸鎳和乳酸，所述化學鎳磷合金鍍液于ITO玻璃基板上析出鎳時添加有輔充液，所述輔充液包含氫氧化鈉、次亞磷酸鈉、硫代硫酸鈉和乳酸。
7.根據權利要求1所述的一種ITO線路化學鎳金工藝，其特征在于：所述化學金鍍液包含濃度為80～120ml/L的乙二胺四乙酸鈉。
8.根據權利要求1所述的一種ITO線路化學鎳金工藝，其特征在于：所述步驟G中ITO玻璃基板鍍金處理后第一次洗凈所用純水經管道回收。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法，例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法，例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍，即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理
