[發明專利]一種有機一維全光波長光學納米線的制備方法

在審

• 申請號: 201711398442.6
• 申請日: 2017-12-22
• 公開（公告）號: CN108101835A
• 公開（公告）日: 2018-06-01
• 發明（設計）人: 靳旺;孫燁;劉興;張博穎;李青;喬山林;劉潤靜
• 申請（專利權）人: 河北科技大學
• 主分類號: C07D209/86
• 分類號: C07D209/86;C07D209/84;C07D409/14;C09K11/06
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1.一種制備一維全光波長光學納米線的方法，所述方法包括如下步驟：

1）將有機分子溶解于良溶劑中，超聲，得到有機分子的良溶液；

2）將基地置于一個高于反溶劑液面的物體上的燒杯中，避免有機分子的浪溶液與反溶劑直接接觸;

3）取上述步驟1）所述的有機分子的良溶液，滴到基地上，并立即用保鮮膜密封燒杯，等待基地上的溶液完全揮發，得到有機一維發光納米線;

4）通過光學平臺對上述步驟3）的材料進行光學性能測試。

2.根據權利要求1所述的制備方法，步驟1）所用的具有光學性質響應的有機分子;其他具有光學性質的分子體系均在本專利的保護范圍內。

3.根據權利要求1所述的制備方法，步驟3）中，有機分子在靜置自組裝過程中形成直徑為微米尺度的納米材料。

4.根據權利要求1的制備方法，其特征在于，所述良溶劑和反溶劑劑;優選地，所述良溶劑選自丙酮、四氫呋喃、乙腈、二氯甲烷、三氯甲烷等;優選地，所述反劑選自丙酮、四氫呋喃、DMF、環己烷地，所述有機分子摩爾濃度為0.001-50毫摩爾每升。

5.根據權利要求1的制備方法，其特征在于，步驟1）中，超聲時間不大于5分鐘；有機分子在燒杯中，自組裝形成直徑為納米或微米尺度的單晶一維結構。

6.根據權利要求1的制備方法，其特征在于，步驟3）中，所用基片為各種常用的基片，如玻璃基片、石英基片、硅基片或導電玻璃基片。

7.權利要求1的方法制備獲得的有機低維光學性質材料。