[發明專利]一種分光器以及采用該分光器的分光方法

有效

• 申請號: 201711396942.6
• 申請日: 2017-12-21
• 公開（公告）號: CN108061936B
• 公開（公告）日: 2019-07-12
• 發明（設計）人: 張迪;任夢昕;兀偉;高寧慧;禹宣伊;蔡衛;張心正;許京軍
• 申請（專利權）人: 南開大學
• 主分類號: G02B6/125
• 分類號: G02B6/125
• 代理公司: 北京中政聯科專利代理事務所(普通合伙) 11489
• 代理人: 陳超

1.一種分光器，其包括：

一透光基底，與該透光基底的表面平行且相互垂直的兩個方向分別定義為X方向和Y方向；

設置于該透光基底表面的多個周期性的第一微結構單元，所述第一微結構單元包括多個沿X方向平行且間隔設置的第一微納米柱，所述多個第一微納米柱的高度相同，且所述多個第一微納米柱的橫截面尺寸梯度變化；以及

設置于該透光基底表面的多個周期性的第二微結構單元，所述第二微結構單元包括多個沿X方向平行且間隔設置的第二微納米柱，所述多個第二微納米柱的高度相同，所述多個第二微納米柱的橫截面尺寸梯度變化，且所述多個第一微納米柱的橫截面尺寸梯度與所述多個第二微納米柱的橫截面尺寸梯度相同但梯度相反；

其特征在于，所述多個周期性的第一微結構單元和多個周期性的第二微結構單元在X方向和Y方向的至少一個方向交替設置。

2.如權利要求1所述的分光器，其特征在于，所述多個周期性的第一微結構單元和多個周期性的第二微結構單元僅在Y方向交替設置，且相鄰的第一微結構單元和第二微結構單元在Y方向對齊。

3.如權利要求1所述的分光器，其特征在于，所述多個周期性的第一微結構單元和多個周期性的第二微結構單元僅在Y方向交替設置，且相鄰的第一微結構單元和第二微結構單元在Y方向錯位。

4.如權利要求1所述的分光器，其特征在于，所述多個周期性的第一微結構單元和多個周期性的第二微結構單元在X方向和Y方向均向交替設置。

5.如權利要求1所述的分光器，其特征在于，所述多個第一微納米柱沿X方向中心對對齊，該多個第二微納米柱也沿X方向中心對對齊。

6.如權利要求1所述的分光器，其特征在于，所述多個第一微納米柱沿X方向側邊對齊，該多個第二微納米柱也沿X方向側邊對齊。

7.如權利要求1所述的分光器，其特征在于，所述多個第一微納米柱的材料吸收系數與多個第二微納米柱的材料吸收系數不同。

8.如權利要求1所述的分光器，其特征在于，所述多個第一微納米柱在X方向的間距為50納米-500納米，高度H為300納米-2000納米，橫截面尺寸為20納米-1000納米；所述多個第二微納米柱在X方向的間距為50納米-500納米，高度H為300納米-2000納米，橫截面尺寸為20納米-1000納米，所述橫截面尺寸指橫截面的最大尺度。

9.一種采用如權利要求1至8中任意一項所述的分光器分光的方法，其包括：將一入射光束從該分光器的一側入射，從另一側透射。

10.如權利要求9所述的分光的方法，其特征在于，所述入射光束從該分光器的一側垂直入射；且進一步包括通過改變所述多個第一微納米柱與多個第二微納米柱的材料吸收系數調節分光比。