[發明專利]一種改善長壽命鉭靶材后期使用的腔體套件結構有效
| 申請號： | 201711392270.1 | 申請日： | 2017-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN108118300B | 公開（公告）日： | 2020-06-16 |
| 發明（設計）人： | 胡彬彬 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 改善 壽命 鉭靶材 后期 使用 套件 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種改善長壽命鉭靶材后期使用的腔體套件結構，其特征在于，包括：
濺射腔，其設置于濺射腔安裝板上；
鉭靶，設置于所述濺射腔內部，并正對于晶圓表面；
鉭環，設置于所述濺射腔內部側壁，其中所述濺射腔內部側壁上設置有第一安裝位置和第二安裝位置，當晶圓和鉭靶之間的距離發生變化時，將所述鉭環從所述第一安裝位置移動到第二安裝位置。
2.根據權利要求1所述的改善長壽命鉭靶材后期使用的腔體套件結構，其特征在于，所述濺射腔安裝板上設置有陶瓷環，實現腔體密封。
3.根據權利要求1所述的改善長壽命鉭靶材后期使用的腔體套件結構，其特征在于，所述鉭靶為高純濺射材料。
4.根據權利要求1所述的改善長壽命鉭靶材后期使用的腔體套件結構，其特征在于，所述鉭環設置有鉭環射頻偏壓裝置。
5.根據權利要求1所述的改善長壽命鉭靶材后期使用的腔體套件結構，其特征在于，所述第一安裝位置和第二安裝位置之間的距離預先進行設定，其設定間距根據鉭靶靶面的刻蝕后退距離決定。
6.根據權利要求1所述的改善長壽命鉭靶材后期使用的腔體套件結構，其特征在于，所述第一安裝位置和第二安裝位置之間的設定間距為3～10毫米。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海華力微電子有限公司，未經上海華力微電子有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711392270.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
