[發(fā)明專利]一種去除二氧化硅顆粒的拋光液在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711391805.3 | 申請日： | 2017-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN108102554A | 公開（公告）日： | 2018-06-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 楊三貴;劉治州;康徐芳 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京世紀(jì)金光半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/18 | 分類號： | C09G1/18 |
| 代理公司： | 北京中創(chuàng)陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11003 | 代理人： | 張宇鋒 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 去除 襯底表面 拋光液 二氧化硅顆粒 粗糙度 碳化硅 襯底 非離子性表面活性劑 二丙二醇甲醚 原子力顯微鏡 丙二醇甲醚 分析儀檢測 光學(xué)表面 去離子水 有效面積 拋光 混合液 異丙醇 乙醇 劃痕 清洗 殘留 檢測 加工 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種去除二氧化硅顆粒的拋光液，其特征在于，所述拋光液包括兩種成分，其中，成分一為異丙醇、二丙二醇甲醚、丙二醇甲醚、乙醇、非離子性表面活性劑以及PH調(diào)節(jié)劑的混合液；成分二為去離子水。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除二氧化硅顆粒的拋光液，其特征在于，所述拋光液中所述成分一的體積比為8～25％；成分二75～92％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除二氧化硅顆粒的拋光液，其特征在于，所述成分一中所述異丙醇、二丙二醇甲醚、丙二醇甲醚、乙醇、非離子性表面活性劑以及PH調(diào)節(jié)劑的體積比分別為2～5％、5～10％、5～10％、15～20％、>58％和3～5％。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除二氧化硅顆粒的拋光液，其特征在于，所述成分一的PH值為13.0～14.0。
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