[發明專利]一種用于可發生氫氣的水素面膜的氫氣發生粉在審
| 申請號： | 201711391568.0 | 申請日： | 2017-12-19 |
| 公開（公告）號： | CN107875029A | 公開（公告）日： | 2018-04-06 |
| 發明（設計）人： | 宮地浩;蔡宇林 | 申請（專利權）人： | 廣州弘皓電子科技有限公司 |
| 主分類號： | A61K8/19 | 分類號： | A61K8/19;A61K8/02;A61Q19/08 |
| 代理公司： | 廣州三環專利商標代理有限公司44202 | 代理人： | 宋靜娜,郝傳鑫 |
| 地址： | 510070 廣東省廣州市黃埔*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 發生 氫氣 面膜 生粉 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于可發生氫氣的水素面膜的氫氣發生粉，其中，所述氫氣發生粉包括：
緩沖劑，所述緩沖劑的質量分數為30％－60％；
產氫劑，所述產氫劑的質量分數為3％－20％；
pH調節劑，所述pH調節劑的質量分數為5％－25％。
2.如權利要求1所述的氫氣發生粉，其中，所述氫氣發生粉進一步包括硫酸鎂，所述硫酸鎂質量分數為20％－40％。
3.如權利要求2所述的氫氣發生粉，其中，所述氫氣發生粉進一步包括碳酸氫鈉，所述碳酸氫鈉質量分數為10％－20％。
4.如權利要求3所述的氫氣發生粉，其中，所述緩沖劑的質量分數為35％－45％。
5.如權利要求3所述的氫氣發生粉，其中，所述產氫劑的質量分數為4％－8％。
6.如權利要求3所述的氫氣發生粉，其中，所述pH調節劑的質量分數為7％－12％。
7.如權利要求1所述的氫氣發生粉，其中，所述緩沖劑為二氧化硅。
8.如權利要求1所述的氫氣發生粉，其中，所述產氫劑為二氫化鎂。
9.如權利要求1所述的氫氣發生粉，其中，所述pH調節劑為檸檬酸。
10.一種水素面膜，其中，所述水素面膜包括權利要求1－9之一所述的氫氣發生粉。
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