[發(fā)明專利]大角度入射無半波孔的紅外截止濾光片及其膜系設(shè)計方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711386583.6 | 申請日： | 2017-12-20 |
| 公開（公告）號： | CN108008479A | 公開（公告）日： | 2018-05-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳剛 | 申請（專利權(quán)）人： | 無錫奧芬光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/28 | 分類號： | G02B5/28;G02B27/00 |
| 代理公司： | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 殷紅梅;任月娜 |
| 地址： | 214028 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 角度 入射 無半波孔 紅外 截止 濾光 及其 設(shè)計 方法 | ||
1.一種大角度入射無半波孔的紅外截止濾光片，其特征在于：包括基板、第一膜堆、第二膜堆和第三膜堆，所述第一膜堆沉積在基板上表面，所述第二膜堆設(shè)置于第一膜堆上表面，所述第三膜堆設(shè)置于第二膜堆上表面，膜系結(jié)構(gòu)表示為：Sub│(α
其中(α
Sub代表基板，Air代表空氣，H、I、J分別代表高折射率材料膜層，L、M、N分別代表低折射率材料膜層；一個高折射率材料膜層和一個相鄰與之配對的低折射率材料膜層形成一個高低對偶單元，m1、m2、m3分別為第一膜堆、第二膜堆、第三膜堆中高低對偶單元數(shù)量，m1、m2、m3取整數(shù)；α、i、γ表示各膜堆中高折射率材料膜層的光學厚度系數(shù)，即基板垂直方向上膜層光學厚度占λ
2.如權(quán)利要求1所述的大角度入射無半波孔的紅外截止濾光片，其特征在于：所述高折射率材料膜層H、I、J的光學厚度系數(shù)α、i、γ的取值范圍為：0.2≤α、i、γ≤2.7。
3.如權(quán)利要求1所述的大角度入射無半波孔的紅外截止濾光片，其特征在于：所述低折射率材料膜層L、M、N的光學厚度系數(shù)β、k、δ的取值范圍為：0.2≤β、k、δ≤2.7。
4.如權(quán)利要求1所述的大角度入射無半波孔的紅外截止濾光片，其特征在于：所述高折射率材料膜層H、I、J的物理厚度為10～300nm，所述低折射率材料膜層L、M、N的物理厚度為10～300nm。
5.如權(quán)利要求1所述的大角度入射無半波孔的紅外截止濾光片，其特征在于：所述高折射率材料膜層H、I、J和低折射率材料膜層L、M、N的總層數(shù)為30～60層。
6.如權(quán)利要求1所述的大角度入射無半波孔的紅外截止濾光片，其特征在于：所述高折射率材料膜層H、I、J的折射率為2.05～3.00，所述低折射率材料膜層L、M、N的折射率為1.30～1.65。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于無錫奧芬光電科技有限公司，未經(jīng)無錫奧芬光電科技有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711386583.6/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
