[發明專利]鐳射模壓設備及鐳射模壓方法和鐳射產品

有效

• 申請號: 201711385300.6
• 申請日: 2017-12-20
• 公開（公告）號: CN108116040B
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發明（設計）人: 余贊;田璐;鐘文;張勇軍;羅臻;錢正宇;韋雪雪;陳華;章杰;杜建軍
• 申請（專利權）人: 常德金德新材料科技股份有限公司
• 主分類號: B41F19/02
• 分類號: B41F19/02;B41F19/00;B41F23/04
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 黃曉慶

1.一種鐳射模壓方法，其特征在于，

采用鐳射模壓設備，所述鐳射模壓設備包括：

鐳射模壓機構，包括料槽、上料輥、膠輥、版輥、壓輥；所述上料輥的外表面設有凹槽且設于所述料槽內以用于上涂料；所述版輥包括能夠加熱至60～70℃的加熱模壓的芯輥和位于所述芯輥外的鐳射工作版，所述膠輥分別與所述上料輥和所述版輥接觸，以將所述上料輥上帶有的涂料涂覆于所述鐳射工作版上；所述版輥與所述壓輥之間用于設置待處理基層，所述版輥與所述壓輥相互壓持以使所述鐳射工作版上的涂料轉移至待處理基層上并進行加熱模壓從而形成鐳射層；

及烘干機構，設于所述鐳射模壓機構的下游以用于烘干加熱模壓后的鐳射產品；

所述鐳射模壓方法包括以下步驟：

將待處理基層設于版輥與壓輥之間；

將涂料涂覆于所述版輥的鐳射工作版上；

將涂覆于所述鐳射工作版上的涂料通過所述版輥與所述壓輥的相互壓持轉移至所述待處理基層上并進行加熱模壓從而形成鐳射層；所述加熱模壓的溫度為60～70℃；所述加熱模壓的速度為20～40m/min；

將加熱模壓后的鐳射產品烘干；所述烘干的條件為85～95℃烘干2～10s；

所述鐳射模壓機構還包括對應所述上料輥設置的刮料刀；

所述鐳射模壓設備還包括放卷機構，所述放卷機構用于將待處理基層傳送至所述版輥和所述壓輥之間；

所述鐳射模壓設備還包括收料機構，所述收料機構設于所述烘干機構的下游以用于收料。