[發明專利]一種Mo合金基體上MoTaAl涂層的制備方法

在審

• 申請號: 201711382567.X
• 申請日: 2017-12-20
• 公開（公告）號: CN108149208A
• 公開（公告）日: 2018-06-12
• 發明（設計）人: 張俊彥;張帆;梁愛民;高凱雄;牛博龍
• 申請（專利權）人: 中國科學院蘭州化學物理研究所
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02
• 代理公司: 蘭州中科華西專利代理有限公司 62002
• 代理人: 周瑞華

1.一種Mo合金基體上MoTaAl涂層的制備方法，其特征在于MoTaAl涂層中各組分的含量為Mo 52~72 wt%、Ta 22~40 wt%、Al 3~10 wt%，厚度為3～50μm，制備的具體步驟為：

1）基體經機械沙紙打磨、化學電解拋光去油、去離子水沖洗、烘干、酒精超聲波清洗、烘干、丙酮超聲波清洗、烘干；

2）將Mo合金基體清洗干燥后放入磁控濺射離子鍍設備的真空室中，靶材至少包含一個純Mo靶、一個純Ta靶和一個純Mo金屬靶，將真空室抽真空到 1×10^-5~9×10^-5Torr；

3）對Mo合金基體進行離子轟擊清洗：通入Ar氣，流量為 5~25sccm ，時間為12~30min；

4）沉積Mo打底層：調整靶電流分別為：I_Mo為0.2~1A；調整工件的負偏壓為-150~-l00V，時間為5~20min；

5）沉積MoTaAl鍍層：調整靶電流分別為：I_Mo為1~5A，I_Ta為0.5~4A, I_Al為0.6~5A；調整工件的負偏壓為-90~-40V，時間為30~400min；鍍膜完成后，冷卻至室溫，取出試樣即可。

2.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于所述Mo合金基體為純Mo、鎢Mo合金、Mo鈦合金、Mo鎬合金、稀土Mo合金或多元系Mo合金。

3.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于所述Mo合金基體為Mo合金棒、Mo合金管、Mo合金片或異型件。