[發(fā)明專利]一種空隙消除方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711381352.6
• 申請日: 2017-12-20
• 公開（公告）號: CN108021331B
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蔡奮展
• 申請（專利權(quán)）人: 廣州視源電子科技股份有限公司;廣州視睿電子科技有限公司
• 主分類號: G06F3/0488
• 分類號: G06F3/0488
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種空隙消除方法，其特征在于，包括：

獲取用戶輸入的觸控書寫軌跡的紋理信息，其中，所述紋理信息包括紋理大小、紋理端面曲線和相鄰紋理的紋理間距；

若所述紋理間距大于紋理大小，則根據(jù)所述紋理間距對應(yīng)的相鄰紋理相對的紋理端部曲線的頂點坐標(biāo)填充所述紋理間距；

其中，若所述紋理間距大于紋理大小，則根據(jù)所述紋理間距對應(yīng)的相鄰紋理相對的紋理端部曲線的頂點坐標(biāo)填充所述紋理間距包括：

若所述紋理間距大于紋理大小，則獲取所述相鄰紋理的相對位置；

根據(jù)所述相對位置確定需要合并的相鄰頂點坐標(biāo)，并調(diào)整所述相鄰頂點坐標(biāo)直至所述相鄰頂點坐標(biāo)分別重合；

其中，若所述紋理間距大于紋理大小，則獲取所述相鄰紋理的相對位置包括：

若所述紋理間距大于紋理大小，且所述相鄰紋理的相對位置包括所述相鄰紋理與水平方向的夾角小于或者等于45度，則所述相鄰紋理的位置關(guān)系為第一紋理在第二紋理的左側(cè)或者右側(cè)；或者；

若所述紋理間距大于紋理大小，且所述相鄰紋理的相對位置包括所述相鄰紋理與豎直方向的夾角小于45度，則所述相鄰紋理的位置關(guān)系為第一紋理在第二紋理的上方或者下方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，根據(jù)所述相對位置確定需要合并的相鄰頂點坐標(biāo)，并調(diào)整所述相鄰頂點坐標(biāo)直至所述相鄰頂點坐標(biāo)分別重合包括：

若所述第一紋理在所述第二紋理的左側(cè)，則調(diào)整所述第一紋理端部曲線的右上頂點和右下頂點的坐標(biāo)與所述第二紋理端部曲線的左上頂點和左下頂點的坐標(biāo)分別重合；

若所述第一紋理在所述第二紋理的右側(cè)，則調(diào)整所述第一紋理端部曲線的左上頂點和左下頂點的坐標(biāo)與所述第二紋理端部曲線的右上頂點和右下頂點的坐標(biāo)分別重合；

若所述第一紋理在所述第二紋理的上方，則調(diào)整所述第一紋理端部曲線的左下頂點和右下頂點的坐標(biāo)與所述第二紋理端部曲線的左上頂點和右上頂點的坐標(biāo)分別重合；

若所述第一紋理在所述第二紋理的下方，則調(diào)整所述第一紋理端部曲線的左上頂點和右上頂點的坐標(biāo)與所述第二紋理端部曲線的左下頂點和右下頂點的坐標(biāo)分別重合。

3.一種空隙消除裝置，其特征在于，包括：

第一獲取模塊，用于獲取用戶輸入的觸控書寫軌跡的紋理信息，其中，所述紋理信息包括紋理大小、紋理端面曲線和相鄰紋理的紋理間距；

填充模塊，用于若所述紋理間距大于紋理大小，則根據(jù)所述紋理間距對應(yīng)的相鄰紋理相對的紋理端部曲線的頂點坐標(biāo)填充所述紋理間距；

其中，所述填充模塊包括：

第二獲取模塊，用于若所述紋理間距大于紋理大小，則獲取所述相鄰紋理的相對位置；

調(diào)整模塊，用于根據(jù)所述相對位置確定需要合并的相鄰頂點坐標(biāo)，并調(diào)整所述相鄰頂點坐標(biāo)直至所述相鄰頂點坐標(biāo)分別重合；

其中，所述第二獲取模塊具體用于：

若所述紋理間距大于紋理大小，且所述相鄰紋理的相對位置包括所述相鄰紋理與水平方向的夾角小于或者等于45度，則所述相鄰紋理的位置關(guān)系為第一紋理在第二紋理的左側(cè)或者右側(cè)；或者；

若所述紋理間距大于紋理大小，且所述相鄰紋理的相對位置包括所述相鄰紋理與豎直方向的夾角小于45度，則所述相鄰紋理的位置關(guān)系為第一紋理在第二紋理的上方或者下方。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，調(diào)整模塊具體用于：

若所述第一紋理在所述第二紋理的左側(cè)，則調(diào)整所述第一紋理端部曲線的右上頂點和右下頂點的坐標(biāo)與所述第二紋理端部曲線的左上頂點和左下頂點的坐標(biāo)分別重合；

若所述第一紋理在所述第二紋理的右側(cè)，則調(diào)整所述第一紋理端部曲線的左上頂點和左下頂點的坐標(biāo)與所述第二紋理端部曲線的右上頂點和右下頂點的坐標(biāo)分別重合；

若所述第一紋理在所述第二紋理的上方，則調(diào)整所述第一紋理端部曲線的左下頂點和右下頂點的坐標(biāo)與所述第二紋理端部曲線的左上頂點和右上頂點的坐標(biāo)分別重合；

若所述第一紋理在所述第二紋理的下方，則調(diào)整所述第一紋理端部曲線的左上頂點和右上頂點的坐標(biāo)與所述第二紋理端部曲線的左下頂點和右下頂點的坐標(biāo)分別重合。

5.一種計算機(jī)設(shè)備，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運(yùn)行的計算機(jī)程序，其特征在于，所述處理器執(zhí)行所述程序時實現(xiàn)如權(quán)利要求1-2中任一所述的方法。

6.一種計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)，其上存儲有計算機(jī)程序，其特征在于，該程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1-2中任一所述的方法。