[發(fā)明專(zhuān)利]一種射頻干擾的數(shù)據(jù)處理方法及裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711376480.1
• 申請(qǐng)日: 2017-12-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108111240B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安濤;陳驍;普拉尚·莫汗;勞保強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院上海天文臺(tái)
• 主分類(lèi)號(hào): H04B17/345
• 分類(lèi)號(hào): H04B17/345
• 代理公司: 上海容慧專(zhuān)利代理事務(wù)所(普通合伙) 31287
• 代理人: 于曉菁

1.一種射頻干擾的數(shù)據(jù)處理方法，其特征在于，包括以下步驟：

獲取待處理數(shù)據(jù)及其濾波函數(shù)，所述待處理數(shù)據(jù)是射電設(shè)備獲取的經(jīng)過(guò)處理后的時(shí)頻域數(shù)據(jù)，

所述濾波函數(shù)基于核函數(shù)獲得，所述核函數(shù)采用二維高斯函數(shù)，其公式是：

其中，x、y表示x*y矩陣的核大小，x、y分別為橫縱方向上與核中心的距離，G(x,y)為在坐標(biāo)點(diǎn)(x,y)處的概率密度，σ為標(biāo)準(zhǔn)差，e是比例系數(shù)，其中σ與經(jīng)過(guò)卷積處理后的優(yōu)化圖像數(shù)據(jù)的平滑程度相關(guān)；

標(biāo)記獲取數(shù)據(jù)中的強(qiáng)RFI信號(hào)，通過(guò)獲取數(shù)據(jù)的經(jīng)驗(yàn)累計(jì)分布函數(shù)以及數(shù)據(jù)擬合兩方面來(lái)判斷；

消減數(shù)據(jù)中的弱RFI信號(hào)，包括對(duì)所述待處理數(shù)據(jù)中的每個(gè)待處理點(diǎn)數(shù)據(jù)進(jìn)行加權(quán)平均，以獲取各待處理點(diǎn)數(shù)據(jù)的優(yōu)化數(shù)據(jù)，其中所述加權(quán)的權(quán)重基于所述濾波函數(shù)確定。

2.如權(quán)利要求1所述的射頻干擾的數(shù)據(jù)處理方法，其特征在于，獲取數(shù)據(jù)的ECDF，將函數(shù)值大于0.99的部分標(biāo)記為強(qiáng)RFI；

將獲取的所有待處理點(diǎn)的優(yōu)化數(shù)據(jù)基于組距處理獲得柱狀圖數(shù)據(jù)，其中組距定義方法為：首先總組數(shù)定義為數(shù)據(jù)點(diǎn)數(shù)量總和除以10，柱狀圖橫軸范圍為數(shù)據(jù)的最小值到最大值，平均分配以得到組距；

對(duì)所述柱狀圖數(shù)據(jù)進(jìn)行最小二乘法擬合處理以獲取擬合函數(shù)，考慮到自然界中噪聲為高斯分布，因此所述擬合函數(shù)公式為y＝A*exp(-a*x)，其中A和a為待擬合值；

基于所得擬合函數(shù)，求出函數(shù)誤差在6σ的比較函數(shù)，將柱狀圖中超過(guò)6σ部分的數(shù)據(jù)也標(biāo)記為強(qiáng)干擾數(shù)據(jù)。

3.如權(quán)利要求2所述的射頻干擾的數(shù)據(jù)處理方法，其特征在于，還包括以下步驟：綜合統(tǒng)計(jì)兩種方法中的強(qiáng)干擾數(shù)據(jù)，并輸出所述強(qiáng)干擾數(shù)據(jù)至文本。

4.如權(quán)利要求1所述的射頻干擾的數(shù)據(jù)處理方法，其特征在于，采用多次所述卷積處理。

5.如權(quán)利要求1所述的射頻干擾的數(shù)據(jù)處理方法，其特征在于，所述濾波函數(shù)采用快速傅里葉變換后的二維高斯函數(shù)。

6.如權(quán)利要求1所述的射頻干擾的數(shù)據(jù)處理方法，其特征在于，所述待處理圖像數(shù)據(jù)被網(wǎng)格化處理成多個(gè)待處理子圖像數(shù)據(jù)，對(duì)每個(gè)待處理子圖像數(shù)據(jù)并行處理以獲取優(yōu)化數(shù)據(jù)。

7.一種射頻干擾的數(shù)據(jù)處理裝置，其特征在于，包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上可以在處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述處理器執(zhí)行所述程序?qū)崿F(xiàn)以下步驟：

獲取待處理數(shù)據(jù)及其濾波函數(shù)，所述待處理數(shù)據(jù)是射電設(shè)備獲取的時(shí)間序列數(shù)據(jù)，所述濾波函數(shù)基于核函數(shù)獲得，所述核函數(shù)采用二維高斯函數(shù)，其公式是：

其中，x、y表示x*y矩陣的核大小，x、y分別為橫縱方向上與核中心的距離，G(x,y)為在坐標(biāo)點(diǎn)(x,y)處的概率密度，σ為標(biāo)準(zhǔn)差，e是比例系數(shù)，其中σ與經(jīng)過(guò)卷積處理后的優(yōu)化圖像數(shù)據(jù)的平滑程度相關(guān)；

標(biāo)記獲取數(shù)據(jù)中的強(qiáng)RFI信號(hào)，包括求得數(shù)據(jù)的經(jīng)驗(yàn)累計(jì)分布函數(shù)，以及數(shù)據(jù)擬合；

消減數(shù)據(jù)中的弱RFI信號(hào)，包括對(duì)所述待處理數(shù)據(jù)中的每個(gè)待處理點(diǎn)數(shù)據(jù)進(jìn)行加權(quán)平均，以獲取各待處理點(diǎn)數(shù)據(jù)的優(yōu)化數(shù)據(jù)，其中所述加權(quán)的權(quán)重基于所述濾波函數(shù)確定。