[發明專利]用于添加式地制造三維物體的設備的照射裝置

在審

• 申請號: 201711373410.0
• 申請日: 2017-12-19
• 公開（公告）號: CN109676918A
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發明（設計）人: F·舒德爾;P·龐蒂勒-許穆拉;B·艾肯伯格
• 申請（專利權）人: CL產權管理有限公司
• 主分類號: B29C64/153
• 分類號: B29C64/153;B29C64/268;B29C64/282;B22F3/105;B28B1/00;B33Y30/00
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 吳鵬;金林輝

1.一種用于通過依次逐層地選擇性照射和固化由能借助能量束(4)固化的建造材料(3)構成的層來添加式地制造三維物體(2)的設備(1)的照射裝置(6)，所述照射裝置(6)適合于借助至少一個能量束(4)依次逐層地選擇性照射和固化由建造材料(3)構成的層，所述照射裝置(6)包括：

-分別適合于產生具有給定射束特性的至少一個能量束(4a-4c)的多個射束產生單元(7a-7c)，每個射束產生單元(7a-7c)均能與或與至少一個射束引導元件(8a-8c)聯接，

-多個射束引導元件(8a-8c)，特別是射束引導纖維，每個射束引導元件(8a-8c)均能與或與至少一個射束產生單元(7a-7c)聯接并且能與或與至少一個照射頭(9)聯接，

-至少一個照射頭(9)，所述至少一個照射頭(9)能與或與所述多個射束引導元件(8a-8c)聯接，所述至少一個照射頭(9)包括至少一個射束修改單元(10)，所述射束修改單元(10)適合于單獨地修改通過相應的射束引導元件(8a-8c)耦合到所述照射頭(9)中的每個能量束(4a-4c)的射束特性。

2.根據權利要求1所述的照射裝置，其中，所述射束修改單元(10)適合于單獨地修改通過相應的射束引導元件(8a-8c)耦合到所述照射頭(9)中的每個能量束(4a-4c)的光斑規格——特別是光斑形狀、光斑大小——和/或相對于建造平面(E)的光斑焦點位置和/或相對于基準軸線的光斑位置。

3.根據權利要求1或2所述的照射裝置，其中，所述射束修改單元(10)包括至少一個光學布置結構(13)，所述光學布置結構(13)適合于修改穿越所述光學布置結構(13)的能量束(4a-4c)的射束特性，所述光學布置結構(13)包括相對于所述光學布置結構(13)的光軸(A)布置的一定數量的光學元件(14a-14d)。

4.根據權利要求3所述的照射裝置，其中，所述光學布置結構(13)不適合于產生中間焦點(IF)。

5.根據前述權利要求中任一項所述的照射裝置，其中，所述光學布置結構(13)包括相對于所述光學布置結構(13)的光軸(A)——特別是同軸地——布置的多個光學元件(14a-14d)，其中

第一光學元件(14a)被建造為或包括(雙)凸透鏡，

關于穿過所述光學布置結構(13)的能量束(4a-4c)的延伸方向設置在所述第一光學元件(14a)之后的第二光學元件(14b)被建造為或包括(雙)凹透鏡，

關于穿過所述光學布置結構(13)的能量束(4a-4c)的延伸方向設置在所述第二光學元件(14b)之后的第三光學元件(14c)被建造為或包括(雙)凸透鏡，

關于穿過所述光學布置結構(13)的能量束(4a-4c)的延伸方向設置在所述第三光學元件(14c)之后的第四光學元件(14d)被建造為或包括(雙)凸透鏡。

6.根據前述權利要求中任一項所述的照射裝置，其中，所述光學布置結構(13)適合于產生中間焦點(IF)。

7.根據前述權利要求中任一項所述的照射裝置，其中，所述光學布置結構(13)包括相對于所述光學布置結構(13)的光軸(A)——特別是同軸地——布置的多個光學元件(14a-14d)，其中

第一光學元件(14a)被建造為或包括(雙)凸透鏡，

關于穿過所述光學布置結構(13)的能量束(4a-4c)的延伸方向設置在所述第一光學元件(14a)之后的第二光學元件(14b)被建造為或包括光圈元件，所述光圈元件適合于在相對于所述第一光學元件(14a)的特定圖像距離(b)處產生能量束(4a-4c)的中間圖像(II)，

關于穿過所述光學布置結構(13)的能量束(4a-4c)的延伸方向設置在所述第二光學元件(14b)之后的第三光學元件(14c)被建造為或包括(雙)凸透鏡，

關于穿過所述光學布置結構(13)的能量束(4a-4c)的延伸方向設置在所述第三光學元件(14c)之后的第四光學元件(14d)被建造為或包括(雙)凸透鏡。